主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: EXMW, • 定义MMI耦合器的材料; ~R&rQJJeJ • 定义布局设定; IaZmN.k* • 创建一个MMI耦合器; '_b3m2I.G • 插入输入面; ~x7CI • 运行模拟; $DXO7;# • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 E{0e5. { D]o=I1O? 1. 定义MMI耦合器的材料 inY_cn? 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: 15@2h 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ ;A4qE W mqHcD8X 图1.初始性能对话框
iX o( 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” mPU}]1*p b@c(Nv 图2.轮廓设计窗口
hraR:l
D 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 7]} I
wz1nV} oi
m7=I0 图3.电介质材料创建窗口
tm/=Oc1p 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: el U %Z9 − Name : Guide WMHYOJR − Refractive Index (Re) : 3.3 [n2zdiiBd − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 Zb=;\l*& F!3p )? 图4.创建Guide材料
cRH(@b
Xr 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: @<3E`j'p − Name : Cladding L pq)TE# − Refractive Index (Re) : 3.27 g zlxkv-F{ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 X1d{7H8A2
LofpBO6^ 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 (a0(ZOKH
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: /lbj!\~ − Name : Guide_Channel T ay226 − 2D profile definition: Guide ?%`Ph ?BZl − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 HU'w[r6a }]H7uC!t 图6.构建通道
2. 定义布局设定 'j*Q
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: Zr1"'+-
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 ;e*okYM
− Width:2.8 \?oT.z5VG&
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 A1F$//a
− Profile:Channel-Guide w>8HS+
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
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2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: @Co6$<
− Length:5300
T*mR9 8i
− Width:60 %f'=9pit
图8.设置晶圆尺寸
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!@])Ut@tN
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: CVvl &on
− Material:Cladding ZV:df 6S
− 点击OK以激活布局窗口 u:']jw=f
图9.晶圆材料设置
b+q'xnA=>
M*bsA/Z
4) 布局窗口 1) K<x
图10.默认情况下布局窗口显示
O'B3s y
jJw
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: Iila|,cM
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 eI:x4K,#
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 c7{s'ifG
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 cWyf04-?
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 `q\F C[W
图12.最终布局显示
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kP}l"CN4
3. 创建一个MMI耦合器 p>kny?AJ
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: 9mp`LT
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 p#Po?
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 (^W
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图13 .绘制第一个线性波动
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QQ:2987619807
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