主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： y]+A7| • 定义MMI耦合器的材料； qB:`tHy • 定义布局设定； FD-)nv2: • 创建一个MMI耦合器； >lj3MNSH • 插入输入面； &
vIKN GJ^ • 运行模拟； Ue tmO`qju • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 - )Vj08aP TSk6Q'L\v 1. 定义MMI耦合器的材料 b7,qzh 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： K@,VR3y / 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ SeTU`WLEm Tc*PD t0C 图1.初始性能对话框
z7_./ksQ 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” GGuLxc?( FV9RrI2 图2.轮廓设计窗口
o99 a =x6 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 Xo5L:(?K
w '"7~uN P}I*SV0 图3.电介质材料创建窗口
=ht@7z8QM 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： ? 7+ 2i\L − Name : Guide :R n9rdX − Refractive Index (Re) : 3.3 QM]^@2rK2 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 X , Uoe?5Of(* 图4.创建Guide材料
Z4!3I@yZ 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： z W _'sC − Name : Cladding AK!G#u g − Refractive Index (Re) : 3.27 ?.s*)n − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 LQjqwsuN{ 2P=;r:cx 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 ;1 fM L,8
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： 'yNp J' − Name ： Guide_Channel pDLo` F}A − 2D profile definition: Guide 6u yf − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 !jbjrzv9 fm* Hk57 图6.构建通道
2. 定义布局设定 9s)oC$\
为了定义布局设定，需要在“初始性能对话框（Initial Properties）”窗口进行以下操作： V_pBM
1) 点击“默认波导（Default Waveguide）”标签 3C2 >
− Width：2.8 WKf~K4BL>
注意：所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 a? kQ2<@g
− Profile：Channel-Guide v+G:,Tc"
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
On^#x]
k.ZfjX"
2) 切换到“晶圆尺寸（Wafer Dimension）”标签： Xwi&uyvU&
− Length：5300 y
^\8x^Eg
− Width：60 ]@>| y2
图8.设置晶圆尺寸
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9 ?8`" v
3) 切换到“2D晶圆属性（2D Wafer Properties）”标签： Q [{v U
− Material：Cladding K?4(o u
− 点击OK以激活布局窗口 B (falmXJ
图9.晶圆材料设置
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4) 布局窗口 E@Fen CF
图10.默认情况下布局窗口显示
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lu_Gr=#O
5) 调整显示比率，以便更好进行波导结构布局设置： YSg F'qq\
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 sfa'\6=O
− Display ratio : Z=40,点击OK，如图11所示 w ^gh&E
− 调整缩放比率为0.6 ，最终布局显示如图12所示 Ie"R,,c
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 SOmn2
}
图12.最终布局显示
eXK`%'
?=kswf
3. 创建一个MMI耦合器 :3f2^(b~^
为了构建一个MMI耦合器，需要进入如下操作： C)j)j&
1) 在“绘图（Draw）”菜单下选择“线性波导（Linear Waveguide）”或者在波导栏 下选择线性波导 1RA$hW@}
2) 当鼠标指针变为十字叉时，点击布局窗口左侧，并向右侧拖拽波导后松开鼠标，以生成第一个线性波导 kdC OcJB
图13 .绘制第一个线性波动
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QQ：2987619807
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