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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 BV|LRB}G  
    'Je;3"@  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 o<Q~pd#Ip,  
    +5voAx!  
    mk}8Cu4  
    概述 d4~!d>{n|c  
    F&^u1RYz  
    3>ytpXUEGx  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 }5`Kn}rY  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 *~cq (PFQ  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 F.4xi+S_  
    ^)TZHc2a[  
    A\LMmg  
    I=0`xF|4K-  
    衍射级次的效率和偏振
    5LR k)@t  
    l4RZ!K*X_"  
    O|d"0P  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 W2'u]1bs  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 m;'ebkq  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ?|kwYA$4o  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 p[>! ;qI  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 f<<1.4)oSV  
    UZz/v#y~  
    3v\}4)A[  
    光栅结构参数 ka0MuQ M  
    y2KR^/LN|Y  
    4S5U|n  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Pd)mLs Jg  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 -V7dSi  
    •因此,选择以下光栅参数: dSkMA  
    - 光栅周期:250 nm c~SR@ZU  
    - 填充系数:0.5 ~ 6DaM!  
    - 光栅高度:200 nm I;FHjnn(  
    - 材料n1:熔融石英 n&1q*  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) }Y:V&4DW  
    W^k95%zBM  
    {\hjKP  
    Q WcQtM  
    偏振状态分析 3?5JY;}h>"  
     4 Fl>XM  
    0~4Ww=#  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Y7BmW+  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 7H.3.j(L  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 c^3,e/H  
    0fu*}v"  
    @ Z.BYC  
    x n?$@  
    产生的极化状态 /*P) C'_M  
    5:|9pe)  
    Y O&@  
    9k /L m  
    KrdEB0qh  
    其他例子 :er(YWF:  
    ncrg`<'/,  
    Hsn'"  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 (@m/j2z  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 r3  qKT  
    GXG 7P,p,  
    8yk7d76Y  
    ?8N^jjG  
    光栅结构参数 oz:"w nX  
    y 4U|~\]  
    9TX2h0U?  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 I3HO><o f  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ,?P<=M  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 4M#i_.`z  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 60;_^v  
    :{+~i.*  
    %_."JT$v{  
    光栅#1 ^"<x4e9+j  
    hC[ =e`j  
    ?r 0rY?  
    !wN2BCSY@  
    z%S$~^=b  
    •仅考虑此光栅。 C~egF=w  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 @^T~W^+  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 w? >f:2(=[  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 /poGhB 1k  
    D&i\dgbK  
    XLC9B3Jt  
    假设光栅参数: @Ddz|4vEi  
    •光栅周期:250 nm Q 9fK)j1$  
    •光栅高度:660 nm "\i H/  
    •填充系数:0.75(底部) ( +Sv3h  
    •侧壁角度:±6° ?z`={oN  
    •n1:1.46 q>Di|5<y  
    •n2:2.08 )X-'Q-  
    ,A'| Z  
    光栅#1结果 e8rZP(g&g  
    rRg,{:;A  
    %cLS*=MO  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 f-3CDUQ`  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ;89kL]  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ~5'7u-;  
    1~ W@[D  
    gUNhN1=  
    :h5G|^  
    光栅#2 +}O -WX?  
    T? Kh '  
    ?HJh;96B  
    S=ZZ[E_~S  
    Ym 1vq=  
    •同样,只考虑此光栅。 ;Ax-f04gG  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 x(._?5  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 yfK}1mx)j  
    假设光栅参数: X8VBs#tLE  
    •光栅周期:250 nm Gsv<Rjj:  
    •光栅高度:490 nm A+="0{P  
    •填充因子:0.5 @Wc5r#  
    •n1:1.46 n1J u =C  
    •n2:2.08
    wn.~Dx  
    W?5')  
    光栅#2结果 PFuhvw~?  
    Iz1x|EQ  
    7b+r LyS0  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 N2O *g`YC  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 < mQXS87  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 [K&%l]P7  
    U3X5tED  
    _8a;5hS  
    文件信息 &J)<1!|  
    uR ?W|a  
    -T,?'J0 2  
    !gve]>M  
    nd]SI;<  
    QQ:2987619807 aOH|[  
     
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