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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 tO3#kV\,  
    kJ)Z{hy  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 XE#$|Z  
    &&C'\,ZK5  
    3!8u  
    概述 H%{k.#O  
    | NyANsI  
    J 2k4k  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 gI/(hp3ob  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 34L1Gxf  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 Dy{lgT0k  
    <(1[n pS&+  
    !:v7SRUXb  
    ViU5l*n;  
    衍射级次的效率和偏振
    NzS`s,N4/0  
    .&n! 4F'  
    ?>My&yB  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 wWM[Hus  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 (UZ].+)s  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 T>, [V:  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 &,* ILz  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 2_TFc2d  
    Nl^u A  
    xRZ/[1f!  
    光栅结构参数 pDcGf7  
    lkJe7 +s  
    ^OK;swDW  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 w17CZa 6  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 |gU)6}V@  
    •因此,选择以下光栅参数: p[}~Z|(  
    - 光栅周期:250 nm >[Tt'.S!?  
    - 填充系数:0.5 3Te&w9K  
    - 光栅高度:200 nm .etG>tH  
    - 材料n1:熔融石英 z6|kEc"{  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) @S 0mNA  
    g"\J iBb5  
    T=CJUla  
    WwUHHm<v  
    偏振状态分析 c GyBml1  
    Lz!H@)-mr  
    )"_&CYnd  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 gL`aLg_  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 6#ktw)e  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ; O ~%y'  
    h;R>|2A  
    3E}j*lo  
    &AVX03P  
    产生的极化状态 V7B%o:FZo  
    0n\AUgVPF  
    yE;S6 O  
    %AA -G  
    >O0<u  
    其他例子 KL"_h`UW  
    m ;wj|@cF  
    kIRjoKf<F  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 AYDAt5K_  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 "BIhd*K[~  
    V;gC[7H  
    }0]iS8*tL  
    {U4{v=,!I  
    光栅结构参数 &PX!'%X68h  
    ""IPaNHQ  
    qC q?`0&#  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 2iC BF-,  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ]ZH6 .@|  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ,rOh*ebF  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 l~[ K.p&  
    W{1l?Wo  
    =%|f-x  
    光栅#1 SZ:R~4 A  
    $QwzL/a  
    j$4lyDfD  
    !j3Xzn9  
    "V5_B^Gzb]  
    •仅考虑此光栅。 JURg=r]LI  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ZgmK~iJ  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 v~0lZe  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 O9RnS\  
    fw|t`mUGu  
    c?6(mU\x  
    假设光栅参数: R<^E?FI   
    •光栅周期:250 nm QBA{*@ A-  
    •光栅高度:660 nm +e#(p<  
    •填充系数:0.75(底部) OaY]}4tI$  
    •侧壁角度:±6° Z1p%6f`  
    •n1:1.46 L!fIAd`  
    •n2:2.08 nYO$ |/e  
    Fxn=+Xgg  
    光栅#1结果 I<" UQ\)  
    ^ '_Fd  
    h]4qJ  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 %D7'7E8.  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ob/HO (h3  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    YVk +zt~S  
    \aN5:Yy  
    '1zC|:,  
    zLPCWP.u  
    光栅#2 |BO5<`&I  
    }S%}%1pG7  
    g^U-^ f  
    MfA%Xep  
    kjr q;j:  
    •同样,只考虑此光栅。 J3'0^JP*  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 89W8cJ$yW  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 T,B%iZgCh  
    假设光栅参数: @[1,i~H  
    •光栅周期:250 nm 2 ]r5e;  
    •光栅高度:490 nm xX~m Fz0C  
    •填充因子:0.5 "*KOU2}C  
    •n1:1.46 la_  
    •n2:2.08
    [?da BXS  
    RG/P]  
    光栅#2结果 EPM(hxCIQ  
    7e{w,.ny!  
    (D+%*ax  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 9~ifST \  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 FH;)5GGnv  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 k;.<DN  
    E.yc"|n7l2  
    GF0Utp:Zf;  
    文件信息 ePxf.U  
    avqJ[R  
    zeH=py[n  
    C%P.`NxA  
    Y1BxRd?D  
    QQ:2987619807 (e3?--~b6  
     
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