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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 lG4H:[5V  
    c_-drS  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 &<wuJ%'>)Z  
    YVYu:}e3)  
    ]w;rfn9D  
    概述 S0~2{ G"v  
    w.H%R-Be  
    biSz?DJ>  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 W%T>SpFl  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 jX3,c%aQ5e  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 2"Ecd  
    k5D%y3|9  
    HG+%HUO$  
    .q%WuQw  
    衍射级次的效率和偏振
    PJ]];MQ  
    Qr^|:U!;[z  
     Fy`(BF\  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 AG!w4Ky`  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 !G SV6  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 _AQb6Nb  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 SnE(o)Q  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 tNGp\~  
    b~'"^ Bts*  
    E"+QJ~!  
    光栅结构参数 i\KQ!f>A  
    jp0<pw_  
    ^Wc@oa`  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 -u2P ?~  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 5Yl <h)1  
    •因此,选择以下光栅参数: k`0>36  
    - 光栅周期:250 nm EQf[,  
    - 填充系数:0.5 M[6:p2u  
    - 光栅高度:200 nm p3 w  
    - 材料n1:熔融石英 |&FkksNAl\  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) t.laO. 3  
    ?Lyxw]  
    ``ou/Z  
    U<CTubF  
    偏振状态分析 KVD8YfF  
    8g&? Cc  
    &K.?p2$X  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 kuol rfGB  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 2 dAB-d:k  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ?,& tNP{jq  
    Wn(6,MDUN  
    c2&q*]?l;  
    vU767/  
    产生的极化状态 \~fONBY  
    Pb?$t  
    @^T1XX  
    5\e9@1Rc  
    w+yC)Rmz  
    其他例子 4WJ.^(  
    rd9e \%A  
    @7?#Y|`  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 '=Rs/EDME  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Fxm$9(Y  
    E=>FjCsu<-  
    <-[wd.M_  
    4"(<X  
    光栅结构参数 a{R%#e\n  
    ](&{:>RNJ  
    :.$3vaZ@  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。  CCL   
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7PtN?;rP  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 sOU1n  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ',:*f8Jk  
    /(iFcMT  
    \=6l9Lrj>h  
    光栅#1 dHv68*^\'  
    JwAYG5W  
    22.8PO0  
    X&7 F_#s  
    /+@p7FqlE  
    •仅考虑此光栅。 fpFhn  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 {&\jW!&n  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 4A_[PM  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 <})2#sZO!  
    UE$UR#T'w  
    ~c %hWt  
    假设光栅参数: " N9 <wU  
    •光栅周期:250 nm (=* cK-3  
    •光栅高度:660 nm B2C$N0R#  
    •填充系数:0.75(底部) =Ur}~w&H8  
    •侧壁角度:±6° r\/9X}y4z  
    •n1:1.46 >D(RYI  
    •n2:2.08 DV<` K$ET  
    ,u`B<heoLU  
    光栅#1结果 z@B=:tf  
    I?ae\X@M  
    |j#C|V%kV  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 f!!V${)X  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 2vAQ  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    F W/W%^  
    :'~ Y  
    ( 5tvfz%  
    *#tJM.Z  
    光栅#2 Y#u}tE d  
    ?e,pN,4  
    RPE5K:P  
    N6 (  
    K }Vv4x1U  
    •同样,只考虑此光栅。  B[Zjfc  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 `kZ@Zmj#  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Gu2P\I2zx  
    假设光栅参数: XgLL!5`  
    •光栅周期:250 nm 3b+d"`Y^S  
    •光栅高度:490 nm Hhari!R XC  
    •填充因子:0.5 V>A .iim  
    •n1:1.46 Qzlo'e1  
    •n2:2.08
    ,'p2v)p^4  
    <xgTS[k  
    光栅#2结果 ^xij{W`|  
    A7%:05  
    v(EEG/~  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 +(C6#R<LI  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 .)<(Oj|4  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 8;Yx<woR  
    ds?v'|  
    {a4z2"\A  
    文件信息 ,0hA'cp  
    0IfKJ*]M  
    b#K:_ac5  
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    }lfnnK#  
    QQ:2987619807 8erSt!oM  
     
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