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摘要 lG4H:[5V c_-drS 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 &<wuJ%'>)Z YVYu:}e3) ]w;rfn9D 概述 S0~2{G"v w.H%R-Be biSz?DJ> •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 W%T>SpFl •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 jX3,c%aQ5e •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 2"Ecd k5D%y3|9
HG+%HUO$ .q%WuQw 衍射级次的效率和偏振 PJ]];MQ Qr^|:U!;[z Fy`(BF\ •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 AG!w4Ky` •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 !G SV6 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 _AQb6Nb
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 SnE(o)Q •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。
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b~'"^ Bts* E"+QJ~! 光栅结构参数 i\KQ!f>A jp0<pw_ ^Wc@oa` •此处探讨的是矩形光栅结构。 -u2P ?~ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 5Yl<h)1 •因此,选择以下光栅参数: k`0>36 - 光栅周期:250 nm EQf[, - 填充系数:0.5 M[6:p2u - 光栅高度:200 nm p 3 w - 材料n1:熔融石英 |&FkksNAl\ - 材料n2:TiO2(来自目录) t.laO. 3 ?Lyxw] ``ou/Z U<CTubF 偏振状态分析 KVD8YfF 8g&?
Cc &K.?p2$X •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 kuol rfGB •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 2
dAB-d:k •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ?,&
tNP{jq Wn(6,MDUN
c2&q*]?l; vU767/ 产生的极化状态 \~fONBY Pb?$t
@^T1XX 5\e9@1Rc w+yC)Rmz 其他例子 4WJ.^ ( rd9e \%A @7?#Y|` •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 '=Rs/EDME •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Fxm$9(Y E=>FjCsu<- <-[wd.M_ 4"(<X 光栅结构参数 a{R%#e\n ](&{:>RNJ :.$3vaZ@ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 CC L •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7PtN?;rP •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 sOU1n •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ',:*f8Jk
/(iFcMT \=6l9Lrj>h 光栅#1 dHv68*^\' JwAYG5W
22.8PO0 X&7F_#s /+@p7FqlE •仅考虑此光栅。 fpFhn •假设侧壁表现出线性斜率。 {&\jW!&n •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 4A_[PM •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 <})2#sZO! UE$UR#T'w ~c %hWt 假设光栅参数: "
N9 <w U •光栅周期:250 nm (=* cK-3 •光栅高度:660 nm B2C$N0R# •填充系数:0.75(底部) =Ur}~w&H8 •侧壁角度:±6° r\/9X}y4z •n1:1.46 >D(R YI •n2:2.08 DV<` K$ET ,u`B<heoLU 光栅#1结果 z@B=:tf I?ae\X@M |j#C|V%kV •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 f!!V${)X •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 2vAQ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 FW/W%^ :'~Y ( 5tvfz% *# tJM.Z 光栅#2 Y#u}tE
d ?e,pN,4
RPE5K:P N6 ( K }Vv4x1U •同样,只考虑此光栅。 B[Zjfc •假设光栅有一个矩形的形状。 `kZ@Zmj# •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Gu2P\I2zx 假设光栅参数: XgLL!5` •光栅周期:250 nm 3b+d"`Y^S •光栅高度:490 nm Hhari!RXC •填充因子:0.5 V>A.iim •n1:1.46 Qzlo'e1 •n2:2.08 ,'p2v)p^4 <xgTS[k 光栅#2结果 ^xij{W`| A7%:05 v(EEG/~ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 +(C6#R<LI •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 .)<(Oj|4 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 8;Yx<woR ds?v'|
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