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摘要 V(=~p[ "\vEi
&C 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 @GBS-iT3 c|:H/Y2n| <!Nj2> 概述 `T{{wty >VE,/?71@ PGP9-M •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 j S')!Wcu •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Dvo.yn|kB •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 Dsm_T1X giyKEnP "7JO~T+v fR~_5pt7 衍射级次的效率和偏振 H-nk\ K<| )T(xQ2&r4 SM@l4GH •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ]N:SB •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 8 %Lq~lk •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 :tedtV~ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 .2C}8GGC' •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 AJiEyAC!)5 G>M#
BuU *,%H1)Tj} 光栅结构参数 eq<xO28z }C}~)qaZv+ ]V6<h Psi •此处探讨的是矩形光栅结构。 `D>PU@s$nT •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 \"V7O'S)& •因此,选择以下光栅参数: !\}Dxt - 光栅周期:250 nm mSY;hJi - 填充系数:0.5 y"]?TEd - 光栅高度:200 nm 6$4G&'J - 材料n1:熔融石英 @r%[e1. - 材料n2:TiO2(来自目录) GLcf'$l *
Od_Cl (i.MxGDd 2rB$&>}T 偏振状态分析 =IkQ;L& `a["`N^ G':mc{{ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 %+L:Gm+^g# •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 <dV|N$WV •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 E=Ah_zKU ~x)Awdlu \wCj$-;Jt <?yAIhgN* 产生的极化状态 TKx.`Cf
m f+}?$' B0?E$8a `4'v)!? _UT>,c;h 其他例子 (Q o pD9*WKEf* R61.!ql%w •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 xlp^XT6# •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 8Focs p2
izebQVQO* W#P)v{K Uq<c+4)5 光栅结构参数 94=Wy- i~@e}= Y#{ L} •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ?SK1*; i •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 |#D3~au
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 +XLy Pj •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 *NS:X7p!V BKP XXR btkD<1{g 光栅#1 \l?\%aqm +;c)GNQ)6: #(j'?|2o% ^ b{0|: f>k]{W Y •仅考虑此光栅。 0.'$U}#b •假设侧壁表现出线性斜率。 <.HX_z3l •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 0j %s
H •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 7;:R\d6iL gtHWd;1&f dT4?8: 假设光栅参数: ]R32dI8N •光栅周期:250 nm z|^:1ov, •光栅高度:660 nm qa)X\0 •填充系数:0.75(底部) a6wPkf7-H •侧壁角度:±6° }b)7gd= •n1:1.46 O68/Hf1W •n2:2.08 0-M.>fwZ= 2a'b}<|[( 光栅#1结果 #!wu}nDu =+%QfuK X,y0J •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 hm*1w6 = •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 R*VRxQ,h6+ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 m^Qc9s#D 8fRk8 9dn~nnd'n )ZC0/>R 光栅#2 ]&w8"q uDvZ]Q|. -L%tiz`_ *`&4<>=n .xo#rt9_"= •同样,只考虑此光栅。 F6J,: •假设光栅有一个矩形的形状。 1O3"W;SR<: •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 G`8i{3: 假设光栅参数: )65 o •光栅周期:250 nm 2XI%z4\)! •光栅高度:490 nm
=z`#n}v •填充因子:0.5 d|#sgGM<8 •n1:1.46 "i0{E!,XL •n2:2.08 K,(37Id' q;a"M7 光栅#2结果 ,'w9@A RG[b+Qjn +LFh}-X{_ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 8WU_d`DF •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 xc{$=>'G •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 )RV.N}NU n=Qz7N(M Mtxn@m{i;" 文件信息 *%'nlAX6% 6?8x[l*5M ZyAm:yO ?=$=c8xw 21ng94mC QQ:2987619807 BN\Y
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