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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 "s@q(J  
    ke)<E98DC  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 t Q.%f:|  
    Q<yvpT(  
    D4?cnwU  
    概述 K 28s<i`  
    Kp!A ay  
    R{6M(!x  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 v|@EuN14<  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 6w_TL< S  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 sWi4+PAM0  
    E/gfX   
    M} +s_h9  
    `9A`pC  
    衍射级次的效率和偏振
    4{0vdpo3F  
    /XdLdA!v  
    48{B}j%oU  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 a%QgL&_5  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 L^2wEF  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ET%F+  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 FS*J8)  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 5D mSgP:  
    %UG|R:  
    []?*}o5&>T  
    光栅结构参数 _*xY>?Aq  
    -oY8]HrXfK  
    V|<'o<h8  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 mt[ #=Yba  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 IiY%y:!g  
    •因此,选择以下光栅参数: $- Y8@bw  
    - 光栅周期:250 nm ~RV9'v4  
    - 填充系数:0.5 3.rl^Cq1  
    - 光栅高度:200 nm .s|5AC[  
    - 材料n1:熔融石英 GKG:iR)  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) 9j5B(_J^  
     TZdJq  
    fe}RmnAC  
    kc2 8Q2  
    偏振状态分析 ; NO#/  
    rAD4}A_w  
    Yfy";C7X  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Ij9=J1c4  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 E_{P^7Z|Jg  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 @[Wf!8_  
    c57`mOe/b  
    %Siw>  
    <Rz[G+0S=  
    产生的极化状态 1\/~>  
    nd5.Py$  
    6}*4co  
    CM t$ )  
    8A 'SMJi  
    其他例子 \JP9lJ3<  
    "po;[ Ia2  
    -.Zy(  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 cu#r#0U-  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 -1ci.4F&  
    T ^/\Rr  
    N_(-\\mq  
    +hs:W'`%  
    光栅结构参数 Ia:M+20n  
    `'pfBVBz  
    *]DO3Zw'  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ~SXqhX-`  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 vpdT2/F  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Tq8U5#NF  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 !VHw*fL|r  
    d-I=xpB  
    MI`<U:-lP  
    光栅#1 $4]4G=o  
    _OK!/T*FBt  
     7uzc1}r  
    tNAmA  
    `J;g~#/k  
    •仅考虑此光栅。 q%XjJ -s:  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 W^eQ}A+Z  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 $`L |  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 cxIAI=JK  
    p;mV?B?oAQ  
    C~M,N|m+^  
    假设光栅参数: U:|:Y=O?Q  
    •光栅周期:250 nm ayN[y  
    •光栅高度:660 nm t*-_MG  
    •填充系数:0.75(底部) 04a@  
    •侧壁角度:±6° Z[kVVE9b?  
    •n1:1.46 i1Y<[s  
    •n2:2.08 .RbPO#(  
    u!McPM8Yk  
    光栅#1结果 QjTs$#eMW  
    66po SZR@  
    m-Se-aF  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Lv#}Gm  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Q@C  y\l  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    1.nYT*  
    j% '~l#nw  
    JRDIGS_~  
    3+! G9T!  
    光栅#2 Zy>y7O(,  
    o3le[6C/8=  
    880T'5}S :  
    %KR2Vlh0  
    Bey9P)_Of  
    •同样,只考虑此光栅。 C0&ZQvvy1:  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 I0_>ryA  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 =ibKdPtTh^  
    假设光栅参数: d;).| .}P  
    •光栅周期:250 nm Yb'%J@T}  
    •光栅高度:490 nm |gfG\fL3V  
    •填充因子:0.5 =r~ExW}+  
    •n1:1.46 &E-q(3-  
    •n2:2.08
    M[0NB2`Wp  
    Na+3aM%%  
    光栅#2结果 2hb>6Z;r]K  
    D<T:UJ  
    X6r3$2!  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 mwF{z.t"  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 6N/6WrQEeg  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。  y`pgJO  
    N\fj[?f[  
    5W09>C>OC  
    文件信息 H9[0-Ur5  
    zo1 fUsK?  
    1#|qT7  
    } ;d=  
     >Xxi2Vy  
    QQ:2987619807 :{ai w?1  
     
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