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摘要 2,AaP*, vj3isI4lU 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 5-p.MGso _@prmSc NiTJ}1 l 概述 {'IFWD. 5 ,+-? Zv 2 '0Zm#g •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 fNxw&ke8& •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 B
T7Id •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 hPPB45^ V<-htV
IxP^i{/1? AP@<r 衍射级次的效率和偏振 :Y.e[@!1x a%n'%*0 [2H[5<tH •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 $xcv > •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 6F ;Or •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 WD;)VsP •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 *aG"+c6| •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 {&`VGXG
{5 Kz' FT Vi,Y@+4 光栅结构参数 :)LC gIQo 3uO8v{` j)Lo'&Y~= •此处探讨的是矩形光栅结构。 thV Tdz •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 L<E/,IdE •因此,选择以下光栅参数: #ko6L3Pi - 光栅周期:250 nm wiBuEaUkW - 填充系数:0.5 -$ali[ - 光栅高度:200 nm lbofF==( - 材料n1:熔融石英 S~|tfJpL - 材料n2:TiO2(来自目录) hg#c[sZL +I.v!P!^ bZXlJa`'S Wbd_aR
( 偏振状态分析 S| "TP\o .pKN4 H` Lu"EK •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ]gHLcr3 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 cE2R r •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 5C65v:Q`N YR8QO-7
.)
#8E?^d 'F<Sf:?.p 产生的极化状态 2+Vp'5>& ]]3Q*bq4
=ty2_6&> ex:3ua$N p Mh++H]" 其他例子 'Dq"e$JM< d>~`j8,B T#/ 11M$uQ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 XJ
_%! •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 @M9_j{A ? 9qAe cY^Y!., ,`+Bs&S 8 光栅结构参数 I'P.K| "R 3} l; W -3w7^ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 wV?[3bEhM •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 . *Z#cq0 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。
TiTYs •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 " _mmR
M
}:"R-s s?HsUD$b 光栅#1 EtPgzw[#c9 ruWye1X;
HN^w'I'bp pM,#wYL k:W=5{[ •仅考虑此光栅。 Wl?<c
uw00 •假设侧壁表现出线性斜率。 Aw5K3@Ltz •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Scf.4~H 0 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 OfW%&LAMQ 5'),) `yy%<& 假设光栅参数: .!9Vt# •光栅周期:250 nm i^~sn `o •光栅高度:660 nm =:kiSrBS3t •填充系数:0.75(底部) *-+C<2" •侧壁角度:±6° +~@7"
|d •n1:1.46 Y{`3`Pg&N •n2:2.08 3KR2TcT#{ hLCsQYNDU 光栅#1结果 % 1OC#& aS2a_!f 1fmSk$ y.9 •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 5Gc_LI&v7 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 iz,]%<_PE •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 #vnefIcBf o$*bm6o Bi %Z2/ !>?4[|?n< 光栅#2 q|?`Gsr ?=TL2"L
eUi> Mp NU BpIx& z&\Il#'\m+ •同样,只考虑此光栅。 nYo&x' •假设光栅有一个矩形的形状。 xn0s`I[ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 !k4 }v'= 假设光栅参数: (K!M*d+ •光栅周期:250 nm n U+pnkMj •光栅高度:490 nm yIn/Y 0No •填充因子:0.5 &Xj {:s# •n1:1.46 oUnq"] •n2:2.08 kq-mr #i'C 光栅#2结果 7[(Lrx.pM r _{)?B y 8Ei=[ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 %g2/o^c* •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 &\CJg'D:m •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 /F\>Z] s|fCR
|_xZ/DT 文件信息 BT
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