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摘要 6cXZ3;a D[dI_|59a 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 <Yn-sH }p `A> @ \*Zq 概述 &] O^d4/ yOO@v6jO) "'~&D/7 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 7 )*q@ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 1!;4I@W(I) •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 v9"03=h 8*^*iEsR
M8${&&[; UBw*}p 衍射级次的效率和偏振 r*UE>_3J ^/)%s 3 gWfMUl •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 u1`JvfLrL •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 |?t}7V#[ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 10CRgrZ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 2 }rYH;Mx •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 GHpP
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H3+P;2{ 4e?MthJ> 光栅结构参数 lJt?0;gn !d&SVS^mo "EnxVV •此处探讨的是矩形光栅结构。 (Q"~bP{F •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 bzh: •因此,选择以下光栅参数: l:*.0Tj - 光栅周期:250 nm Mp06A.j[ - 填充系数:0.5 ]v l?J - 光栅高度:200 nm \lF-]vz* - 材料n1:熔融石英 _Uhl4Mh - 材料n2:TiO2(来自目录) v G~JK[ @b{$s o
@nsv&i cUTG!
P\R 偏振状态分析 >aT~G!y hbm#H7Y nnCz!:9p •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 iUlSRfrC$# •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 (3&P8ZGNR •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 =g?k`vp T=':$(t
!:a^f2^= Z<#h$XUA 产生的极化状态 4xgfm.9I^ @[bFlqsE
w,LB zGa
V^X k0,]2R 其他例子 ZUS06#t} d'[q2y?6N @4$la'XSx •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 G,6 i!M •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 $Y8iT<nP w{ Pl &3:<WU:U 5YLc4z* 光栅结构参数 YwZ]J ~-'-<- 4jC7>mE •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 uCc5) •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 oo|Nu+ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。
czH# ~ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Px&)kEQ
DS ;.)P" u56F;y 光栅#1 = VMELk!z Nt687
AsR}qqG bd[iD?epD] b{;LbHq+G •仅考虑此光栅。 2yVQqwQm •假设侧壁表现出线性斜率。 PoD/i@ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 K;]Dh? •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 xW58B v.c.5@%%o (#+81 Dr 假设光栅参数: `t+;[G>ZE •光栅周期:250 nm Qjmo{'d •光栅高度:660 nm lXXWQ= •填充系数:0.75(底部) hHgH' •侧壁角度:±6° TWdhl9Ot •n1:1.46 3*-!0 •n2:2.08 zKThM#.Wa \_7'f 光栅#1结果 \vE-;, P>R u ?(M]'ia{ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 $?On,U •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 lU.aDmy< •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 /sSM<r]5j t-Ble +ZkJ{r0,( 3&R1C>JS ] 光栅#2 lDVgW}o@ &:~9'-O
X$eR RSW yO@@-)$[y #
S0N`V •同样,只考虑此光栅。 m?=J;r"Re •假设光栅有一个矩形的形状。 ]ClqX;'weJ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 9{%/I
假设光栅参数: \"d\b><R •光栅周期:250 nm rr2^sQ;_ •光栅高度:490 nm U-D00l7C •填充因子:0.5 @*WrHoa2N •n1:1.46 f]2;s#cu •n2:2.08 \b#`Ahf` QiaBZAol 光栅#2结果 gFXz:!A A2.4#Qb' vnqLcNB H •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 TXqtE("BDl •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 @ ZN@EOM$+ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 i0~Af`v M2nUY`%#v
8J~-|<Q6 文件信息 6Q_ZP#oAV 6UU<:KH
.]N`]3$= :W$-b (Mw+SM3< QQ:2987619807 $Qxy@vU
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