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摘要 w \b+OW P8z%*/
3NF 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 J?8Mo=UZz u9hd%}9Qd? ,UY1.tR( 概述 i/9iM\2 c;VqEpsbl -#|;qFD] •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 lmeTW0U@9( •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 }(nT(9| •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ..)J6L5l >@2<^&K`
&u>dKf)5 r:g\ 衍射级次的效率和偏振
}4|EHhG xe!bfzU d?fS#Ryb •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 :0J`4 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 '=_(fa, •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 h9)S&Sk{s •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 &: Q'X •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 M =^d
e(0OZ_ w 5#DMizv6 光栅结构参数 o$No@~%v `8!9Fp 2l<2srEK •此处探讨的是矩形光栅结构。 Z`S#> o •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 wMW<lT=; •因此,选择以下光栅参数: TjUwe@&Rw - 光栅周期:250 nm h&>3;Lj - 填充系数:0.5 ZNQx;51 - 光栅高度:200 nm B>53+GyMV - 材料n1:熔融石英 X8)k'h - 材料n2:TiO2(来自目录) vXJPvh< Scrj%h%[ ~:DL{ZeEb 7ch9Pf 偏振状态分析 W"NI^OX cC/h7odY sINQ?4_8T •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 25SWIpgG •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 IoDT •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 `_\KN_-%Vu ( /]'e}
|}=eY?iXo nR_Zrm 产生的极化状态 Q-<]'E#\( `2.c=,S{
p D<w@2K g|~px$<iY ?bZH Aed 其他例子 =5|7S&{ 2K}49* QEyL/#Q •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ~i.*fL_Y •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ]+D@E2E $k~TVm
Yex eCGr_@1
-UhpPw6 光栅结构参数 7+HK_wNi T[\1=h] 2) X#&IE •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 xUdF.c •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 L `1 ITz •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 2zC4nF)>O •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 iWCYK7c@.-
bmG`:_ (:l6R9'= 光栅#1 FV^jCseZ }*:3]
EX]+e uxfh?gsL D+7xMT8pqH •仅考虑此光栅。 -xtT,^<B •假设侧壁表现出线性斜率。 \J^#2{d •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ;.}L#'0j •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 &N}"4 qb"S 7b"fpB 假设光栅参数: w#.3na •光栅周期:250 nm u
BEwYQB •光栅高度:660 nm CNNqS^ct •填充系数:0.75(底部) MLDzWZ~}ef •侧壁角度:±6° `O\>vn •n1:1.46 jq~`rE
h9 •n2:2.08 @|Pm%K`1 3%POTAw% 光栅#1结果 !5*VBE\ dseI~} Wdd}y`lS •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 :;%Jm •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 T@W:@,34 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 )qxt< L.;b(bFe Zmu 8Ths"zwn 光栅#2 C*Q7@+& YmljHQP
T~UDD3 DGFSD Py[ D6ZHvY8R •同样,只考虑此光栅。 d@3DsE.{i •假设光栅有一个矩形的形状。 ?1=.scmgDG •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 y [Vd*8 假设光栅参数: h"[B zX •光栅周期:250 nm S
m(*<H •光栅高度:490 nm f`qy~M& •填充因子:0.5 WuK<?1meN •n1:1.46 /d&m#%9Up] •n2:2.08 eT%x(P _ZRmD\_t 光栅#2结果 vQ<
~-E >DRxF5b{ Fyvo;1a •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 D`XXR}8V •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 P>_O :xD •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ;+75"=[YT S?v/diK ]J
_9BL7W $; 文件信息 y[McdlH m SK}jhm"y
h2Q'5G A"*=K;u/|m Z}O]pm>=G QQ:2987619807 &N.pW=%,N
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