-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-09-29
- 在线时间1866小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 1gbFl/i6T l:uQ#Z) 复杂光学光栅结构被广泛用于多种应用,如光谱仪、近眼显示系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。 $sE=[j'v
>X'-J{4R 1. 本案例主要说明: J{Kw@_ypP 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过: V-n{=8s - 基于介质的定义类型 3?I! - 基于表面的定义类型 qqf*g=f 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。 ||awNSt 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。 n$r`s`} |%v:>XEO 2. 光栅工具箱初始化 hr 6j+p: 初始化 ._^ne=Lx - 开始→ ( I#6!Yt9J 光栅→ ce}A!v 一般光栅光路图(3D光栅) H@?} !@ -P/DmSS8V
P=jsOuW 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。 F}ATY! _lwKa,} 3. 光栅结构配置 $["HC-n?.k 首先,必须先定义基底的厚度与材料 e&d$kUJrq 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义 kaB|+U9^ 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。 dX@ic,? 例如,堆栈选择附属在第一表面。 #?>)5C\Hqy 2a
eH^:u 基于介质的定义类型 pTwzVz~ (例如:柱状光栅) C|TQf8 1. 堆栈编辑器 [Tp?u8$p` 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。 qpYgTn8l7 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。 `?(J(H n-cI~Ax+4
~44u_^a oMj"l#a* 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。 EOXkMr 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、 S3Gr}N 0lg'QG> [07E-TT2U 2. 柱状光栅介质 \]]K{DO 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。 8:V,>PH 这种类型的介质可以模拟柱状结构以及衬底上的销孔。 VPYLDg.'
1LRP
R@b^ 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上 `D~oY= 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 x-CjxU3 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 >,]a>V 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。 p7;K] AW 选中的界面以红色高亮显示。 u0&R*YV 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 9u{[e"
mnK<5KLg1 可以在光学设置编辑器中更改此材料。 jsE8=zZs |f fHOef _.; PLq~0 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 0j!3\=P$ 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 w!6{{m 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 y,x 2f%x (c0L
H 3. 柱状光栅介质参数 RxYENG]/6 通过以下参数定义柱状光栅: IeYNTk&<
Twa(RjB< 基材(凹槽的介质) l+"p$iZs 柱状材料(脊的材料) p7Wt(A 柱的形状(矩形或椭圆形) 6GunEYK!N8 x方向(水平方向)柱距 [S,$E6&j$" y方向(垂直方向)柱距 +\Jo^\ 行移(允许行位移) 0q"4\#4l 光栅周期在x和y方向 MSS[-} m_/Ut 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。 3Jizv,? 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。 Wn@oG@}~ $J4\jIipL /'jX_
V_$| 4. 高级选项&信息 'fU #v`i 在传播菜单中有几个高级选项可用。 k37?NoT propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 _D{A`z 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。 Gkuqe3 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。 >o1dc*
u.X]K:Yow 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。 Hvk~BP'
m
Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。 1cOR?=G~ 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。 .4%z$(+6
)mm0PJF~q 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。 y7F
|v8bq 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。 SzMh 定义的柱栅分解预览(俯视图)。 S2'a i •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。 '9f0UtT|[ j_so s%- =|E
" 基于界面的定义类型 5eff3qrH{ (例如:截锥光栅) ZEI)U,
I. 1. 堆栈编辑器 ny13+Q`^ $~FZJ@qa 2. 截锥光栅 C`;igg$t_ 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。 rah"\f2 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。 iuY,E 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。 .ifz9jM'
JGHj(0j 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 I+kAy;2 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 $f3 IO#N 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。 h<%$?h+} 选中的界面以红色高亮显示。 PSq?8. 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 n3~axRPO 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。 bp9RF
d{
DW7E ]o
此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。 h-ii-c?R@0 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。 T)I)r239h 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。 L&kCI`Tb 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。 >S:(BJMo 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 \09A"fs{ 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 {4 Yxh8 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 cQt&%SVT]E 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 FM6{%}4 3. 截锥光栅参数 z<5 5[~3 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义: `(HD'f ud3
:
b`N(] 锥高度 0C :8X
高度因子(例如允许反转结构) z9S
(< |