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摘要 4)E$. F^ 1R7w
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 )PjU=@$lI wF$z ?L
J42/S [Rt FZ=xy[q]~ 建模任务 9qX)FB@'i; ({WV<T& T8>aU 概述 LHd9q^D F4=V*/7 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 U'0e<IcY •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 .._UI2MA sc$I,|d2
ugS I)q"M]~ 光线追迹仿真 ;><m[ l6 j},3@TFh •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 QEc4l[^{.B •单击go! jAy0k
•获得了3D光线追迹结果。 IRT0
1SSS0 &
80 ckh q:u,)6 光线追迹仿真 J1@skj4#\~ G]O5irsV •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 gvoYyO#cm •单击go! (W+aeB0 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 QfRo`l/V9 y1 a1UiHGP
|H>;a@2d Nf)$K'/ 场追迹仿真 )F,z pGG (ty&$ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 `j!XWh*$ •单击go! /n1L},67h hr3<vWAD 7R$O~R3p CI^s~M > 场追迹仿真(相机探测器) Ih)4.lLcKn 5Kw?# •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 |G/WS0 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 1h?QEZ,6a ]D[\l$(
~,.'#=V in `|.# 场追迹仿真(电磁场探测器) r0*Y~
KHw •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 USZBk0$ >35W{d JJy.)-R kO4'|<
场追迹仿真(电磁场探测器) __}ut+H^5p !wTrWD! •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 b*1yvkX5 2WC$r8E
5}Z>N,4 wU|jw( 文件信息 Z?u}?-b1\H &z@}9U*6b
h 27f0x9 b>Ea_3T/ 更多阅读 Hb0_QT~ hR~&}sxN -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ik1asj1 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination g{CU1c)B v[V7$.%5Q TG%w QQ:2987619807 8*Ty`G&v
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