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摘要 (0E U3w?] I9}+(6 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 / R_ u\?k( x.b; +p}=
PwW^y#96 ,`<^F:xl 建模任务 +_qh)HX e'1 ^+*bU 8jy-z"jc 概述 atY*8I| /Hv*K&}M •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 g1ZV&X=2 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 cMD RWh ^^G-kg
?k{|Lk \Okc5;kB2 光线追迹仿真 lPY@{1W Zc-#;/b3T •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 M^z=1YrMd •单击go! LZ~2=Y<
U( •获得了3D光线追迹结果。 7p)N_cJD `Kh]x9Z
=G(*gx $^}[g9]1 光线追迹仿真 k}D[Hp:m r4E`'o[ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 XwcMt r* •单击go! 4P|$LkI •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 )ZHc$+fU (lb6]MtTHY
Sv7 i! j R'zu"I 场追迹仿真 'WK;$XQ 0Cl,8P •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 cVp[ Z#B •单击go! 7_DG 5nT e
RA7i "Y7+{ V1<ow'^i 场追迹仿真(相机探测器) 7Rnm%8?T 0<g<GQ(E •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 4otl_l(`yv •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 MY!q% =_[2n?9y
BRb\V42i; wf?u(3/% 场追迹仿真(电磁场探测器) 9 ~~qAoD •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5G#$c'A{4 Jen%}\ id^|\hDR F?z<xL@ 场追迹仿真(电磁场探测器) .d~\Ysve 8lwFAiC8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5SUN.%y IZ*}idlkn/
!tU'J"Zy Pp+~Cir 文件信息 OUzR@$ bpW!iY/q3
T"?Y5t`( IU|kNBo 更多阅读 O~ 27/ kn}zgSO -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ?6f7ld5 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
:Hk_8J .n`( X#,*l n!G.At'JP QQ:2987619807 y7z( &M@
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