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摘要 hN#A3FFo L F\K&$5J{p 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 `jI$>{oa U3oMY{{EJ
q3_ceXYU w!GPPW( 建模任务 J>o%6D f3[/zcm; F]fBFDk 概述 0Z11V9Jk *_qLLJg •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 < 2mbR •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2:8p>^g= Oh&k{DWE$
P5$L(x%~ !0}SZ 光线追迹仿真 "ZHA.M]` Kw/7X[|'G •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 oh?@[U •单击go! btG+Ak+K* •获得了3D光线追迹结果。 K}OY!| X~o6Xkg
o*r
2T48 g)L?C'BG 光线追迹仿真 ukInS:7 0]~'} •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }Dc7'GZ •单击go! SJ%h.u@&@F •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 P
{0iEA|k 2jT2~D.U1
cYeC7l" LBw$K0 场追迹仿真 )%(V.?eW flXDGoW •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 W }"n* •单击go! O]1aez[
810pJ wk@S+Q xNAa,aMM 场追迹仿真(相机探测器) \46
'j. |ctcY*+ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 \@eaSa •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 =-dg]Ol8 kc:>[ {9
Lk>GEi| UVUoXv)N 场追迹仿真(电磁场探测器) "3Lq/mJYnZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ~\yk{1S 4\pUA4 U=vh_NHj 0;/},B[A 场追迹仿真(电磁场探测器) L"(k;Mfe Qw@_.I •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [vNaX%o /4M~ 6LT`
,?KN;~t#vz >S[NI<=8S 文件信息 5<RZht$i ?H0"*8C?Y
n ]<>$ H3Zsm)+: 更多阅读 6}"t;4@$x )r`F}_CEL -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer (DTXc2)c -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wticA#mb )d =8)9B 3o.9}`/ QQ:2987619807 ]N4?*S*jd)
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