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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 hN#A3FFo L  
    F\K&$5J{p  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 `jI$>{oa  
    U3oMY{{E J  
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    w!GPPW(  
    建模任务 J>o%6D  
    f3[/zcm;  
    F]fBFDk  
    概述 0Z11V9Jk  
    *_qLLJg  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 < 2 mbR  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2:8p>^g=  
    Oh&k{DWE$  
    P5$L(x%~  
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    光线追迹仿真 "ZHA.M]`  
    Kw/7X[|'G  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 oh?@[U  
    •单击go! btG+Ak+K*  
    •获得了3D光线追迹结果。  K}OY!|  
    X~o6Xkg  
    o*r 2T4 8  
    g)L?C'BG  
    光线追迹仿真 ukInS:7  
    0]~'}  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }Dc7'GZ  
    •单击go! SJ%h.u@&@F  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 P {0iEA|k  
    2jT2~D.U1  
    cYeC7l "  
    LBw$K0  
    场追迹仿真 )%(V.?eW  
    flXDGoW  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 W }"n*  
    •单击go! O]1aez[  
    810pJ  
    wk@S+Q  
    xNAa,aMM  
    场追迹仿真(相机探测器) \46 'j.  
    |ctcY*+  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 \@eaSa  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 =-dg]Ol8  
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    Lk>GEi|  
    UVUoXv)N  
    场追迹仿真(电磁场探测器) "3Lq/mJYnZ  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ~\yk{1S  
    4\pUA4  
    U=vh_NHj  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) L"(k;Mfe  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [vNaX%o  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer (DTXc2)c  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 ]N4?*S*jd)  
     
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