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摘要 [4Q;(67 !BQt+4G7 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 '6N)sqTR m6Dm1'+
{vu\qXmMv ing'' _ 建模任务 2Kxb(q" 91R#/i a%#UF@I 概述 is;g`m *byUqY3( •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 <\229 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 !Dd'*ee-; ieyK$q
gawY{Jr8I {;$oC4 光线追迹仿真 [RF,0>^b PT>b%7Of •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 >.<VD7p •单击go! _c>iux; •获得了3D光线追迹结果。 n_kwtWX( >}SEU-7&\
&h:4TaD KhjC'CU, 光线追迹仿真 Dk
`&tr ^".OMS"! •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 8xy8/UBIk0 •单击go! 4Kj.o •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 XYU5. * +
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jKUEs75] ZU 3Psj 场追迹仿真 ,{*g
Q%7 .s{"NqRA •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 7Kw'Y8 •单击go! Nm)3 oidZWy +n1!xv] >LBA0ynh
{ 场追迹仿真(相机探测器) qda 2 @.;+WQE •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 x?AG*'
h& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 YZ~MByu M`Y^hDl 6
)^:H{1' 5]O{tSj 场追迹仿真(电磁场探测器) ::Zo` vP •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ~[CFs'`(2 z:Am1B \%7*@& e!VtDJDS 场追迹仿真(电磁场探测器) [CQR ysnW3q!@ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 JBY.er`6C xs= ~N
HXq']+iC <rzP 文件信息 9=>q0D2 5RPG3ppS
15ailA&(Qm W9SU1{*9 更多阅读 /+*"*Br/ e)sR$]i:v -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Odwe1q& -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0B.Gt&Oal Sa g)}6+ Pb&tWv\ql QQ:2987619807 ]N'3jf`W
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