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摘要 uTrGb:^ =8qhK=&] 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 7,9zj1< ol4!#4Y&{
IP1{gMG R&R{I/;i*. 建模任务 G! ryW4 CBx5:}t UB;~Rf( . 概述 `p^xdj} 9VTE?, •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 oP<E) •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 v[y|E;B g5&,l
f=MR.\ Y2p~chx9 光线追迹仿真 MdNV3:[ \ BtWm ZaKi •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 kObgoMT<[ •单击go! Vuo 8[h> •获得了3D光线追迹结果。 L@5g#mSl PmE2T\{s!
m4T`Tg#P !}uev 光线追迹仿真 myY@Wp Uw_z9ZL •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 .mS'c#~5Y •单击go! gI~jf- w •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Rh#TR" n1)m(,{
?r6uEZ Os7 3u#!' 场追迹仿真 rU1{a" { ]+0I8eerd •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 TBqJ.a •单击go! cvf#^Cu
Bx&wS|-) D {YgB?kt5 9Lxj
]W2^ 场追迹仿真(相机探测器) x-{awP >;@hA*< •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (PCv4:`g •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ^t\AB)(8 nK9A=H'Hc
S}*%l)vfR #G ZGk? 场追迹仿真(电磁场探测器) W|kKH5E& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 NLxsxomj `#~HCl wMB<^zZmv LA^H213N| 场追迹仿真(电磁场探测器) k/#& ]8( ~FV
Z0%+, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 bP 2IX L~jKx)S%
f[/E $r99J 3E361?ubM 文件信息 .ZrQ{~t Qy @r&
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1W"Q }0Q6iHX@ 更多阅读 ?9801Da#/ b|*A%?m -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer BI] %$rq -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Ot]PH[+ g.N~81A vF K&.J QQ:2987619807 F+S;u=CKx
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