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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 8vqx}2  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Zk] /m  
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    [nASMKK0  
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    建模任务 (L<q Jd1Q  
    pf$gvL  
    #IR,KX3]A  
    概述 iY*fp=c9  
    p|+TgOYOc  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Jo''yrJpB  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8I[=iU7]l  
    oJ?,X^~_  
    U'aJCM  
    es^@C9qt  
    光线追迹仿真 jS ?#c+9  
    w ZfY~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 rS8}(lf  
    •单击go! ,@kLH"a0  
    •获得了3D光线追迹结果。 $p|Im,  
    s}F.D^^G  
    =m;,?("7t3  
    <?>tjCg'  
    光线追迹仿真 ;ObrBN,Fu  
    "H#pN;)+   
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 uJ`:@Z^J  
    •单击go! :s*t\09V7  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 2m^qXE$  
    6WX?Xc]$3  
    -AN5LE9-  
    d$^ @$E2f  
    场追迹仿真 -tIye{  
    ^8KxU  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 <JIqkGeAi  
    •单击go! I?RUVs  
    d uP0US  
    ,BFw-A  
    =QK ucLo  
    场追迹仿真(相机探测器) w3;{z ,,T  
    .k$Yleg  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 NxSSRv^rx  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 Y-lwS-Ii  
    #jJ0Mxg  
    EU Z7?4o  
    jx{ fel  
    场追迹仿真(电磁场探测器) $_3 )m  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 :k-@w5(  
    ;d<O/y,:4  
    W[R`],x`  
    wrc1N?[bn  
    场追迹仿真(电磁场探测器) &@FufpPw/  
    z%BX^b$Hj  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Jd~Mq9(  
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    文件信息 5g.w"0MkY  
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