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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 `V=F>s$W  
    Oz4yUR  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 -MuKeCgi  
    VNHt ]Ewj  
    `(VVb@:o  
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    建模任务 Vh8RVFi;c  
    3im2 `n  
    "fWm{;  
    概述 4]m?8j) 6b  
    by* v($  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 KJCi4O&  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 laA3v3*  
    ]X<L~s_*  
    f\c%G=y  
    zD): yEc  
    光线追迹仿真 Na{&aqdz  
    #r;uM+  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 *@[N~:z/  
    •单击go! ],w+4;+  
    •获得了3D光线追迹结果。 0w ;#4X:m  
    fp'%lbk=  
    7 ^n{BsN  
    )d7U3i  
    光线追迹仿真 HVaKy+RU  
    ^_XV}&7Q  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 YA*E93J0  
    •单击go! U?(+ {4l  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ge!Asm K  
    EV|L~^Q  
    `fUP q ;  
    8e}8@[h  
    场追迹仿真 :B1a2Y^"  
     q a}=p  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 g33Y]\  
    •单击go! Qm2(Z8Gh  
    xT;j_'9U;  
    ?J's>q^X  
    06fs,!Q@  
    场追迹仿真(相机探测器) >&l{_b\k  
    '^~3 8=FA  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Xr$hQbl5D  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 *D;VZs0O  
    vC_O! 2E  
     cvO;xR  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) {6 brVN.V  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 g0"KC X  
    eW zyydl  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) kq=tL@W`0}  
    iYl$25k/1  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 eVB.g@%T  
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    文件信息 77o&$l,A|  
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    更多阅读 iMXK_O%  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer W5a>6u=g,  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    P'q . _U  
    QQ:2987619807 U&<w{cuA  
     
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