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摘要 ^~<Rz q! Y\Qxdq 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 %i
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Ld3Bi2d| 建模任务 OG^ WZ.YU !eAdm  Zjic"E1 概述 % X , B-h^ p@7i=hyt`p •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 fqk Dk •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 h$7Fe +#I# H"q`k5R
 ]pR fY9w y.*=Ww+ 光线追迹仿真 8Z4?X% Cs[7% j •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 [X">vaa •单击go！ q]i(CaKh •获得了3D光线追迹结果。 <V:<x AXh 3LA
 (4 /]dTb yg+IkQDf4U 光线追迹仿真 }EedHS >4|c7z4 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 TcKvSdr' •单击go！ h- b5 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 *L;pc g8{ ( ztim
 L;-- d`[ aq0iNbv@ 场追迹仿真 ,bVS. A'o ~6-"i0k
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 u3*NO
)O •单击go！ txml* /zL ^YG7dd_  Hw?2XDv j
K(Q]&&< 场追迹仿真（相机探测器） oGJ*Rn)Z T}t E/ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 =CKuiO.j •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 '6o`^u> 1 qLl^DW
 `*" H /QG b\?7?g 场追迹仿真（电磁场探测器） Gin_E&%g •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 b'7z DZI] mWli}j#  Q &Z4r9+Z
tM^; ?HL] 场追迹仿真（电磁场探测器） Qst
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=sE 2}/g •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 JQ"`9RN b ?E+: ]j_
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer EjR_-8@ FK
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination PPoI>J 9;0V
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