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摘要 ]_(hUj._ Z|C,HF+m. 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 k( Sda>-
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dXxf{|gk> 建模任务 J+t51B(a uMDd Zj&  &j:e<{@ 概述 Kn->R9Tl MJiVFfYW •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 6#Z] yk+p •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 )'m;a_ r` 0 8)f
 o:{Sws(= bRu 9*4t 光线追迹仿真 #; !@Pf w=XIpWl •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 %JBLp xnq •单击go！ '/<\X{l8 •获得了3D光线追迹结果。 ^>E>\uz0v v'?Smd1v
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 -]^JaQw n5C ,Z!)z 光线追迹仿真 bIGcszWr %j^QK >% •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cRs.@U\{R\ •单击go！ :lXY% [!6P •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ]AA|BeL?| zd%f5L('
 [KBa=3>{ :!s7B|_U 场追迹仿真 KWo Ps%G vQCb?+X& •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 :PBFFL e •单击go！ bK6^<,~ }k t%dDU  2n3&uvf'TL
j -BNHX 场追迹仿真（相机探测器） L E\rc A SAq .W"ri •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 s3s RMB2 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 ?u#s ?$ Y? m
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 atpHv**D<i Q 场追迹仿真（电磁场探测器） Hl X~a:.7 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 O\f`+Q`0 Yr{hJGw[  sxr,] @
gOnZ# 场追迹仿真（电磁场探测器） Fk49~z
G0!6rDu2, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 0V-jOc jR}EBaI}
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer >{ {ds--
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 5|0/$ SWd* ? ,7!kTRH
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