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摘要 `V=F>s$W Oz4yUR 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 -MuKeCgi VNHt ]Ewj
`(VVb@:o 2PQY+[jx 建模任务 Vh8RVFi;c 3im2
`n "fWm{; 概述 4]m?8j)
6b by*v($ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 KJCi4O& •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 laA3v3* ]X<L~s_*
f\c%G=y zD):
yEc 光线追迹仿真 Na{&aqdz #r;uM+ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 *@[N~:z/ •单击go! ],w+4;+ •获得了3D光线追迹结果。 0w ;#4X:m fp'%lbk=
7^n{BsN )d7U3i 光线追迹仿真 HVaKy+RU ^_XV }&7Q •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 YA*E93 J0 •单击go! U?(+ {4l •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ge!Asm K EV|L~^Q
`fUPq
; 8e}8@[h 场追迹仿真 :B1a2Y^" q a}=p •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 g33Y]\ •单击go! Qm2(Z8Gh xT;j_'9U; ?J's>q^X 06fs,!Q@ 场追迹仿真(相机探测器) >&l{_b\k '^~38=FA •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Xr$hQbl5D •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 *D;VZs0O vC _O!2E
cvO;xR e3x;(@j 场追迹仿真(电磁场探测器) {6brVN.V •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 g0"KCX eW zyydl ">rt *?^ n^$HC=}S 场追迹仿真(电磁场探测器) kq=tL@W`0} iYl$25k/1 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 eVB.g@%T _~_6qTv-d
?%RR+(2m v m)'CC 文件信息 77o&$l,A| eKek~U&
$,#,yl ol J&jig?t 更多阅读 iMXK_O% jN^09T49 -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer W5a>6u=g, -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination a@U0s+V&a0 AlQ P'q ._U QQ:2987619807 U&<w{cuA
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