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摘要 +2[0q% i g?
vz\_ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 /#9P0@Y
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 D;sG9H ky
m%9Yo%l~ 建模任务 `8ob Xb wOH:'sk["  rB J`=o z 概述
II'.vp (XK,g;RoEn •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 6{I7=.V •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 KKwM\ 'c~SE>
 x@ X2r 5,xPB5pK 光线追迹仿真 B9 l~Y/3| SY9 5s •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 z/#,L!Z3 •单击go！ Aa-5k3:x]= •获得了3D光线追迹结果。 BMq> Cj+ u.E>d9
 0}GO$%l -.Wwo(4 光线追迹仿真 gpq ,rOIK @de Z Z •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @E z>?#z •单击go！ >QDyG8* •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 V 2Xv) M._h=wX{}
 5H'Iul<Os S))B^). 0- 场追迹仿真 mN-O{ k0\ e"1mdw" •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 7( 5 d$ W •单击go！ uj;i E
9 5NkF_&S_1  y%|E z
L@RnLaoQ 场追迹仿真（相机探测器） C;ab -gh O0y0'P-rJq •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 46M=R-7= •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 RrLj5 Jq Dj= {%
 ys!O"=OJ ' h ? 场追迹仿真（电磁场探测器） ^G qO>1U •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ,or;8aYc# S#CaJ} M  wg_Z@iX
yfwR``F 场追迹仿真（电磁场探测器） /?B TET
&R/-~w5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *QNX?8Fm_ nUs=PD3 )
 8\nk a5 "#36- 文件信息 Cm5L9 9Y Ww~C[8q
 L D{~6RP r:rPzq1 更多阅读 D,$M$f1
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -~sW@u)O
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination >q')%j 2./ z6jXW_
zp4@T) QQ：2987619807 ']Czn._
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