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摘要 )/Y~6A9> j$PI,` 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 /~hbOs/
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rg)h5G PrnrXl
S 建模任务 ,U=E[X=H xs1bxJ_R 2ksA.,UB^9 概述 j
jY{Uq &oN/_7y •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 'p)QyL`d •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~ x`7)3 -Bv12ymLG
d]7*mzw^j el*9 Ih 光线追迹仿真 Czu1 )y R}k69-1vL •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =J3`@9; •单击go! P9yw&A •获得了3D光线追迹结果。 qJ Gm8^b- .<w)Bmh
dXZP[K# cjY@Ot*i$ 光线追迹仿真 )%#?3X^sI ;&mxqY8`' •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 O5MDGg •单击go! j+0.=#{?? •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 %UG/ak%z yBe(^ n
&;U|7l~vl ?`i|"y# 场追迹仿真 2IzfP;V? R0IF' •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ,;3:pr •单击go! Rp4FXR jC ,\>g p">WK<N
2}!R
T 场追迹仿真(相机探测器) L9J;8+ge enPYj.*/0 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 %mmxA6I •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 J/[7d?hI/ hg&u0AQ2
l#ygb|=x k(9s+0qe 场追迹仿真(电磁场探测器) >3$uu+p1F •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 $w `veP
P2QRvn6v S5/p=H: H<z30r/-w 场追迹仿真(电磁场探测器) Gl"wEL* QRiF!D)Nk •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q'C4pn@ !p"Kd ~
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sGlMq $~ VcQ 文件信息 2_I+mQ QU%N*bFW%P
CQjV!d0j BiE$mM 更多阅读 > XZg@?Iw Sy:K:Z|[U -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 'N|2vbi< -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 9?!u2 o J]\s*,C& 9QZ}Hn`p QQ:2987619807 "V:XhBG?
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