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摘要 iBTYY{-wF LJ)5W 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 9iU r nG*
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RTh`ENCKR 建模任务 &-d&t ` ` o1cErI&q"  :a
->0 l 概述 ?i I4x%y F8:vDv •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 }|u4 W?H •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 L|P5=/d #|&Sc_#4)
 1 i[ \T fC, :{} 光线追迹仿真 (0YZZ93 [Zei0O •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 .sC?7O = •单击go！ hd),&qoW? •获得了3D光线追迹结果。 m< _S_c mGp.3 {j
 s7Ub@ %LV m3e9 光线追迹仿真 h3LE>}6D $,+O9 Et •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 r\qj! •单击go！ 'Vyt4^$% •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 h$4Hw+Yxs] Zjbc3 M5
 wiz$fj R"
;x vo* 场追迹仿真 + s- lCz Tb3J9 q+ya •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S S2FTb-m •单击go！ ~HOy:1QhE= Zt.'K(]2h  DxUKUE
QUu}Xg: 场追迹仿真（相机探测器） "@ ?? Fw! {} 3${ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 =-IbS}3 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 gw, UQbnu (h >-&.`&
 :<}=e@/~| ek#O3O z 场追迹仿真（电磁场探测器） I 'V4D[H5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 N5a*7EJv+ ;W>k@L  $ GlW f
{ q"OM*L( 场追迹仿真（电磁场探测器） E[/\7 v\
0aG ni| •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 &*+'>UEe5 8C*c{(4
 5H*\t 7 O8h%3& 文件信息 xai*CY@cQ eEuvl`&
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer IZpP[hov
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 8fl`r~bqZ n*2UnKaJ
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