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摘要 zj{(p Z1 7 %4.b7Q 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 : W~f ;k
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UT4f (Xo 建模任务 j{)~Q D ? .Vmtx  kbhX?; <` 概述 M6_-f ;. &$F[/ [Ds+ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ^>^ \ CP] •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Jn*Nao_) 9`BE i(z
 E5gl ^Q?Z $T),DUYO 光线追迹仿真 t!{ x<9 aM$=| %9/ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 lUHtjr •单击go！ f*<ps
o •获得了3D光线追迹结果。 &dRjqn^&X ^ wJEfa c
 -2 x E#r &2{]hRM 光线追迹仿真 j&CZ=?K^c hM>*a!)U •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @8zT'/$ •单击go！ < Y>3 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 | 3giZ{ 6R2uWv
 Szts< n 5 O&V [g>x"U 场追迹仿真 :tL bFW[ HN68!v}C| •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 G3dh M#! •单击go！ <HF-2?` sJ~P:g  l3p3tT3+
3gc"_C\$ 场追迹仿真（相机探测器） t 7 7'fm K]<u8eF •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 TatMf;?h& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 oy5+ }` 7 `fY*O6
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:4=vkn lw[<S TpD; 场追迹仿真（电磁场探测器） =dGKF`tR •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 j"hASBTgp TwFb%YM  JZ=5Bpw
,|pp67 场追迹仿真（电磁场探测器） lKWr=k~
a,n93-m(m •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "IwM:v 2-mQt_
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