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摘要 EfTuHg$pe ;>#YOxPl 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Re`'dde= mW_B|dM"
_z`g@[m:t BQ\o?={ 建模任务 /hx|KC&:e -UJ; =/ j?5s/ 概述 +W{ELdup%q &W'X3!Te •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 BQ We8D •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ]!v:xjzT t%xD epFQ
rD7L==Ld ynWF Y<VX 光线追迹仿真 82mKI+9&" @qszwQav$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 TB!z:n •单击go! X>0$zE@0 •获得了3D光线追迹结果。 y":Y$v,P !|SVRaS
Bu:h_sV D s]D&): 光线追迹仿真 ncF|wz :P!"'&gCL •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 #osP"~{
•单击go! L?WF[nFR •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ^xBF$ua37) YlF<S49loC
@Ido6Z7 A7|CG[wZ 场追迹仿真 @raw8w\Zj+ QT!!KTf •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 $]{20" •单击go! N-lo[bDJh mX4u#$xs: 2;82*0Y% ZSB_OS[N 场追迹仿真(相机探测器) \wyn ]8Eci^i •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ^oL43#Nlo •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 R{GT?
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T7wy{; F(yx/W>Br_ 场追迹仿真(电磁场探测器) s,tZi6Z=%E •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 U',.'"m r-r)'AAO $p(,Qz(.8 7tEK&+H` 场追迹仿真(电磁场探测器) SO~]aFoYt -G!W6$Y •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q|!}&= YY&3M
cz2guUu 0<,Q7onDD: 文件信息 Usa dG}.T_l
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E9b SkmL X@:( 更多阅读 SGZ]_ ^KBE2C -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer UL46%MFQ\ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination P ~pC /z T:/68b*H\: v(ATbY75 QQ:2987619807 j:JM v
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