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摘要 Y<lJj"G KiN8N=z 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ,Y|WSKY*
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K&2{k+ w 建模任务 p^u;]~J O cE3g7(a  ^m ^4LDt 概述 @VlDi1 eEvE 3=,hg •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 5U[m]W=B •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (* WO<V .xnJT2uu'
 )$[.XKoT A.0eeX { 光线追迹仿真 UVND1XV^f oC"1{ybyl •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 v<+5B5"1 •单击go！ rVo0H.+N)` •获得了3D光线追迹结果。 hzG+s# QtM9G@%
 ces|HPBa&6 X@:[.eI~ 光线追迹仿真 l_ Ee us Y
6B7qp •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 [nL{n bli •单击go！ , OGXH2!h •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Q]n a_'_ o5k7$0:t/
 M`1pze_A C"X; ,F < 场追迹仿真 G a1B&@T $F^p5EXkc6 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Vi fh` BSP •单击go！ Ze?(N~ 5Vq&w`sW  J 'qhY'te
1MVz u7 场追迹仿真（相机探测器） T j[= E G]DSwtB?D •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 71)DLGL •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 a,>`ab%> _s( izc
 Py}] {? &_1Ivaen6 场追迹仿真（电磁场探测器） ho J{C 0 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XkGS3EY VZ o,AP~  f&ZFG>)6
dc]D 8KX 场追迹仿真（电磁场探测器） ZJZKCdT@
=&9x}4`;% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 @U)k~z2Hk q8Z,XfF^S
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B#Q=Fo 6 文件信息 5:T)h oF@ I z^lED
 z]\CI: +DpiX&^h 更多阅读 )^D:VY9 2
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 0Na/3cz|zg
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination S2!$ >^U$2P
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