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摘要 w6s[|i)& +b-ON@9]J` 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 P{9:XSa% <}J!_$A
'V7LL1K^> -i8KJzPL f 建模任务 #zl1#TC{( FY'0?CT$ KdCrI@^ 概述 K[y")ooE<j B!/kC)bF: •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 tA#$q;S •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8lV:-"+5 #tR:W?!
Rv&"h_"t bJ_rU35s> 光线追迹仿真 NwF"Zh5eMW nNCR5&,q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 |Ml~Pmpp •单击go! Y_Gd_+oJ •获得了3D光线追迹结果。 y[XD=j WPRk>j
b23A&1X NAD^10 光线追迹仿真 BsFO]F5mmX zjUQ] •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 t+KW=eW •单击go! z[f]mU •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 4<($ZN8 9&*
7+!
Sl8+A+ ]ltCJq 场追迹仿真 :Vxt2@p{ h A ){>B<; •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 )3CM9P'0 •单击go! E.*hY+kGZ SPV+ O{ 6vK`J"d{~D c$ /.Xp 场追迹仿真(相机探测器) Gt*<Awn8 %$ya>0?mq •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1e[?}q]* •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 {LiJ=Ebt 1#x5
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Hpix:To 9\Gk)0 场追迹仿真(电磁场探测器) _9=87u0 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 (LK@w9)i; (/uN+ bR7tmJ[)Z _qE9]mU 场追迹仿真(电磁场探测器) d[?RL&hJO WuE]pm]c •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 uM$b/3%s 1#N`elm
8d*S9p,/ m u9,vH 文件信息 <*J"6x C@*x
8(n>99VVK Ei:m@}g 更多阅读 sFZdj0tQ4 C5(XZscq -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer #Tc`W_- -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Y"t|0dO%b |\Gkhi>; B4un6-<i QQ:2987619807 t?&;
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