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摘要 ]7h&ZF m"H9C-Y
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 sx`C<c~u Q?W]g%:)
%8S!l;\H5 ,h8)5Mj/J 建模任务 l~ F,i n. %S$P+B? sI9~TZ : 概述 ,^AkfOY7" Rjm5{aa- •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 }KS[(Q •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 DC[-<:B =]Qu"nRB
ec"L*l" QVzLf+R~ 光线追迹仿真 96MRnj*Y[ G78rpp •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]9;WM. •单击go! 7/Ve=7] •获得了3D光线追迹结果。 9FJU'$FN pm3?
}v=q6C#Q> Q\ro )r 光线追迹仿真 \$riwL If]g6
B.= •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 /PHktSG •单击go! (Ozb +W? •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 '3%!Gi!g 3&x_%R
2\EMtR>.M' d:<{!}BR3 场追迹仿真 h'IBVI!P
gt}/C4| •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ;uR8pz e •单击go! -I\_v*nA s{<rc> 3smcCQA% [dOPOA/d 场追迹仿真(相机探测器) U/0NN>V P%%Cd •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 d~GT w: •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 {9'"!fH ]yCmGt+b
o8Q(,P f[h=>O 场追迹仿真(电磁场探测器) "o=h /q5& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Gh42qar` d3^LalAp 8l;0)`PU 0+cRUH9Ew 场追迹仿真(电磁场探测器) ZaXK=%z @: %}clZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "+Xwc+v^ |Q.?<T:wt=
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}k7>< s+Ln>c'|o 文件信息 }Ct_i'Ow wQ(ME7t
<[l2 ]"Q h/eKVRGs" 更多阅读 9OXrz}8C 1sn!! -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer HTkce,dQ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination a,lH6lDk t(Iy[- X-~Q QQ:2987619807 w#XE!8`
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