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摘要 3tzb@T h\| ~Q.kG 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 .<7M4Z U l8G R
@{N2I$%6 nX~Qt% 建模任务 kZ7\zbN> {w:*t)@j Z>hS&B 概述 $/*19e~ cq:<,Ke •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 KZrg4TEVi •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (K9pr>le DQ%bcXs
2E5n07, [bM$n
m 光线追迹仿真 5&A{IN :kU#5Aj gK •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Q1f)uwh •单击go! YX*NjXL •获得了3D光线追迹结果。 t&|M@Ouet TwPpZ@
>A&D/kMO 5SV w71* 光线追迹仿真 P"*#mH[W| %!P^se •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 *<r\:g •单击go! X%(1C,C( •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 B
]*v{?<W lU?8<X
)<ig6b% LV}Z[\? 场追迹仿真 7Eb |AR %u=b_4K"j •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 vciO={M •单击go! (:Y0^ % 9Jx| M=rH*w{^ B1^9mV'O 场追迹仿真(相机探测器) &VPfI `@<>"ff#F •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Pzt5'O@dA •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 3A&:
c/ F)8M9%g5m
N1D{ % m>FP&~2 场追迹仿真(电磁场探测器) iQd,xr •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 to9X2^ PAD&sTjE* \+Nn>wW. Kcu*Z 场追迹仿真(电磁场探测器) qV{iUtYt fphi['X •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ]]Fe:> '"m-kor
4`Ib wg6"B %\f<N1~* 文件信息 ]Uj7f4)k |=u
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mI>=S 0<[g7BbR 更多阅读 )+ (GE ]q`'l_O -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer MA,7|s
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ^ *1hz< 'O^<i`8U] Xmny(j)g QQ:2987619807 IkP; i_|
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