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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 3tzb@T  
    h\| ~Q.kG  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 .< 7M4Z  
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    建模任务 kZ7\zbN>  
    {w:*t)@j  
    Z>hS&B  
    概述 $/*1 9 e~  
    cq:<,Ke  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 KZrg4TEVi  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (K9pr>le  
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    2E5n07,  
    [bM$n m  
    光线追迹仿真 5&A{IN  
    :kU#5Aj gK  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Q1f)uwh  
    •单击go! YX*NjXL  
    •获得了3D光线追迹结果。 t&|M@Ouet  
    TwPp Z@  
    >A&D/k MO  
    5SV w71 *  
    光线追迹仿真 P"*#mH[W|  
    % !P^se  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 *<r\:g  
    •单击go! X%(1C,C(  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 B ]*v{?<W  
    lU?8<X  
    )<ig6b%  
    LV}Z[\?   
    场追迹仿真 7Eb | AR  
    %u=b_4K"j  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 vciO={M  
    •单击go! (:Y0^  
    % 9 Jx|  
    M=rH*w{^  
    B1^9mV'O  
    场追迹仿真(相机探测器) &VPfI  
    `@<>"ff#F  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Pzt 5'O@dA  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 3A&: c/  
    F)8M9%g5m  
    N1D{ %  
    m>FP&~2  
    场追迹仿真(电磁场探测器) iQd,xr  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 to9X2^  
    PAD&sTjE*  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) qV{iUtYt  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ]]F e:>  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer MA,7 |s  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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