切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1388阅读
    • 0回复

    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6613
    光币
    27214
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 sL[&y'+  
    0O5(\8jM  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Y &6vTU  
    tF}Vs}  
    ROw9l!YF  
    RP?UKOc  
    建模任务 @zSI@Oq_  
    Lnc _)RF  
    eo.y,Uh  
    概述 R2|v[nh  
    Ztu _UlGC  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 kC"lO'  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 -rb]<FrL^  
    |1iCt1~U  
    Y]!8Ymuww@  
    ( qG | .a  
    光线追迹仿真 {x$jGiag+8  
    yhhW4rz  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 w 4-E@>%  
    •单击go! zkHwoAD;t8  
    •获得了3D光线追迹结果。 B! $a Y  
    \D}K{P  
    MBXja#(k  
    n#8N{ya5x1  
    光线追迹仿真 Vj(}'h-c\  
    mF7T=pl  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 G9"2h \  
    •单击go! a"ZBSg(  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Q}.zE+  
    l?F-w;wHN  
    oNH&VHjU  
    hYO UuC  
    场追迹仿真 s4h3mypw  
    K89 AZxH  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 m/vwM"  
    •单击go! [+dOgyK  
    `3GC}u>}  
     o0t/  
    X-[_g!pV  
    场追迹仿真(相机探测器) T"ors]eI  
    S^ ij%  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 `hJSo?G>  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 $C@v  
    H%2Y8}  
    CDOqdBQ  
    nW?DlECo?  
    场追迹仿真(电磁场探测器) 2\ 3}y(  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 wa/ :JE  
    n u|paA  
    ETQ.A< v  
    l'h[wwEXm{  
    场追迹仿真(电磁场探测器) :"BZK5{8  
    (5AgI7I,  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 U)mg]o-VE  
    GjF'03Z4  
    cu&tdg^q  
    2Hltgt,  
    文件信息 ^3`CP4DT  
    U-+%e:v  
    } ti+tM*  
    M`{x*qR  
    更多阅读 1~X~"M  
    dfkmIO%9X  
    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PP{2{  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
     =FZt  
    !B 36+W+  
    XHq8p[F  
    QQ:2987619807 QvB]?D#h  
     
    分享到