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摘要 Px<;-H` {0?76| 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Q-\: u~ 1peN@Yk2W
aa|xZ \|M z'* 建模任务 8W{R&Z7aL E:2Or~ |K]tJi4fz 概述 R8HFyP mz47lv1? •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ^Oo%`(D? •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 `sSI; + ^W^%PJD|
#(%6urd %
74}H8q_z 光线追迹仿真 .k}h'nE 7>#74oy •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 #(OL!B •单击go! ]c08` •获得了3D光线追迹结果。 bFcI\Q{4 ;X8eZQ
*cf#:5Nl vV%w#ULxE~ 光线追迹仿真 SJ<nAX O%OeYO69 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 E;yP.<PW •单击go! )gZ yW
•结果得到点图(二维光线追迹结果)。 uKK+V6}!kj `On%1%k8
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:2 场追迹仿真 kEi!q q%nWBmPZ~y •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 z hS\|tI •单击go! F8q|$[nH XOU
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nm0d {$Qw]?Yv 场追迹仿真(相机探测器) hDCR>G @I9A"4Im •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 yN9/'c~ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 }}<^fM G#UO>i0jy
i6aM}p< `2G 0B@ 场追迹仿真(电磁场探测器) n}EH{k9# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *4]}_ .rG# 29:] cL(5 jx J5F3d W;Ct[Y8m 场追迹仿真(电磁场探测器) 12.|E d*72 )
}(Po_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 `Ps&N^[ #mFIZMTRd
b-,4< H8m ,XU<2jv] 文件信息 \Cx2$<8 ';Y0qitGB
Kqm2TMO]>V <m'W{n%Pp 更多阅读 ;ry~x:7L7 /@ m]@ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PKJ w%.- -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Cs))9'cD] Z):q 1:y Zcjh QQ:2987619807 #ozui-u>
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