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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 mZ[tB/  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 zFFip/z\  
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    ~vL`[JiK  
    建模任务 U#X6KRZ~g  
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    Yu`KHvur  
    概述 8iIz!l%O  
    -J`VXG:M  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 g.V{CJ*V  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2JMMNpya  
    fbjT"jSzw  
    `1hM3N.nO  
    B=R9K3f  
    光线追迹仿真 O 8\wH  
    _[kZ:#  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 K,$Ro@!  
    •单击go! _'.YC<;  
    •获得了3D光线追迹结果。 zG|#__=T  
    fl4z'8P"(  
    #\{j/{VZ  
    B< 6E'  
    光线追迹仿真 V t[Kr  
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    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 /&eF,4  
    •单击go! `nvm>u~[Hq  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 U7(t >/  
    zQt"i`{U  
    Or2J  
    (9A`[TRwi  
    场追迹仿真 kuZs30^  
    }23#z  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 #% 1|$V*:  
    •单击go! ^]_5oFRIj  
    S *D Bzl  
     Bm\OH#  
    ,Qw\w,  
    场追迹仿真(相机探测器) iDdmr32E  
    tw*n+{]hi  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 |nu)=Ag  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 t#eTn";  
    pn._u`xMV  
    o(|fapK.  
    {<k}U;uiO  
    场追迹仿真(电磁场探测器) m`Dn R`+  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Cr;d !=  
    B'U;i5u4'  
    hj*Fn  
    /iwL$xQQ  
    场追迹仿真(电磁场探测器) qbunP!  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "{X_[  
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    文件信息 4or8fG  
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    更多阅读 bpv?$j-j  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer sO;]l"{<  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 f[;l7  
     
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