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摘要 t3
uB 5A2Y'ms,/ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 rnMG0
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Yn IM- 建模任务 S|{Yvyp 7G BZA=J  tf$PaA 概述 H7z>S G0 YZ"+c&V" •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Pg*?[^* •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 a2c x =RW*
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 XI%RneuDr: r%g
<h T 8 光线追迹仿真 m {:" 1] KA|&Q<<{@ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 J+/}K>2# •单击go！ lgCHGv2@ •获得了3D光线追迹结果。 RMS.1: O
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%K&+~CJE 光线追迹仿真 <_BqpZ^` l]a^"4L4`o •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 L<f-Ed9| •单击go！ [<e n1 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 1 ?D8|< Ek"YM [
 O_r^oH t/v@vJ`vSH 场追迹仿真 \ &eY)^vw 7%:??*"~ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ) > >u|#@z •单击go！ fap|SMGt K?h[.`}  i;[h
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]yyU)V0Iu 场追迹仿真（相机探测器） *fxep08B &q ," !:L] •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 r\A@&5#q •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 Bl kSWW/ E p^B,;~
 (A7T}znG a6;gBoV 场追迹仿真（电磁场探测器） ]}nu9z< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 )x$!K[= z{Hz;m:*_  r :fwr C
&M0o&C-1/ 场追迹仿真（电磁场探测器） EsT0"{
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 8lMZ
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination &(lMm ) *}+R{
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