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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 :]-? l4(%  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 TkV$h(#!f&  
    l%9nA.M'  
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    建模任务 e3{L%rQE  
    von~-51;  
    4!tHJCq"  
    概述 g6 3?(+Fz  
    -}r(75C  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ti9 cfv>  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 xn)r6  
    js8\"  
    ;t}ux  
    ,JmA e6  
    光线追迹仿真 hX@.k|Yd  
    A[m4do  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 &t w   
    •单击go! +qEvz<kch  
    •获得了3D光线追迹结果。 G0eJ<*|_ 3  
    ;j/-ndd&&  
    CmPix]YMQ  
    P=9Zm  
    光线追迹仿真 /A) v $Bv=  
    `?L-{VtM3*  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 :}18G}B  
    •单击go! JSQ*8wDcl  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 _[W`!#"  
    kVZ5>D$  
    ;.r >  
    }AfK=1yOa  
    场追迹仿真 !S',V&Yb  
    ;{~F7:i  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 6\9 9WQ  
    •单击go! `'`T'+0  
    ')w*c  
    -j_J 1P0,  
    VNbq]L(g  
    场追迹仿真(相机探测器) & xqr&(o  
    V ;)q?ZHg  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ngN_,x 7yc  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 Th%1eLQ  
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    8EPV\M1%  
    场追迹仿真(电磁场探测器) .SdEhW15)  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 HYPFe|t/  
    e+F5FAMR68  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) r\"O8\  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 %zyMWC  
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    文件信息 J7.bFW'  
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    更多阅读 kI3-G~2  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer zHB{I(q  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 XI\aZ\v  
     
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