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摘要 et";*EZJX Vx_ lI
#3 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 3ThCY`
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G5W6P7-<X 建模任务 *<*{gO?Q4 -|^}~yOx0=  usi v`.
概述 Dt,b\6 }^uUw& •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 E@\e37e •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Y(IT#x?p Q+|8|V} w
 BCB"& :} LO@.aJp p
光线追迹仿真 !x oN%5 ! W s?BAfP •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 kYBTmz} z •单击go！ 'Im7^!-d •获得了3D光线追迹结果。 ?(GMe> `j*&F8}
 Ms 5m.lX Z; shFMu 光线追迹仿真 Bb[%?~
E! Lv@JfN"O •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 R? Y#>K •单击go！ [ P\3XSR •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 fLK*rK^{" v0! >":
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w8 ;k 场追迹仿真 D+{h@^C9Z C 5QPt •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 2<}^m/} •单击go！ M.1b RB "~x\bSY  9
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)#[?pYd 场追迹仿真（相机探测器） ^
ab%Mbb "!<Kmh5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 \&]M \ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 6N(Wv0b $ RC Fb&,51
 /6}4<~~4TA sKIWr{D 场追迹仿真（电磁场探测器） flTK •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *v3/8enf Mj |)KDL  `+$'bNPn&
Sr~zN:wn 场追迹仿真（电磁场探测器） P8!Vcy938
S!8eY `C. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 i_ws*7B< ?H1I ,]Di
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =IV_yor |$Dt6{h
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