-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-08-07
- 在线时间1825小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 )5U7 w ZN`I4Ak 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 }Do$oyAV$G
M`G#cEc
 qEPC]es|T
`9VRT`e 建模任务 Oyjhc< 6 rdm&Y M`J  F)tcQO"G 概述 ,NU` aG- ~,84E [VV •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 yLvU@V@~ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Qb1hk*$= [Kanj/
 `c_Wk] i 4{=^J2z 光线追迹仿真 ]A:G>K }$'T=ay& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ca$K)=cDW •单击go！ xR5zm %\ •获得了3D光线追迹结果。 V)Y#m /$` bX&=*L+ h6
 1:q5h* ,fD#)_\g2 光线追迹仿真 (,
u W- s `
+cQ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 $+[
v17lF •单击go！ p+1kU1F 0 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 .|3& lb6 HY7#z2L
 ^/$bd4, z q{+Pf/M5 场追迹仿真 IM~2=+ a.s5>:Ct •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 A#Jx6T`a •单击go！ kG3m1: : =E-V-?N\  :0j_I\L
7,Q>>%/0P 场追迹仿真（相机探测器） ^1,VvLA+ # qdfr3 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 xU;;@9X •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 OOj }CZ6 p u6@X7W"
 6{ TUs>~ !"Qv V6Lq\ 场追迹仿真（电磁场探测器） (<xl _L:*. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 mvt%3zCB! 4:Id8r zz  $~<]G)*Z
1gDsL 场追迹仿真（电磁场探测器） h7F5-~SpD
|#`qP^E •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 L~>~a1p! #>dj!33
 Z+G/==%3#, k^*S3#" 文件信息 q!\4|KF~ MPD<MaW$
 6 ly`lu9 L/2,r*LNx$ 更多阅读 o==:e
cCbZ*
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer \d}>@ @U&
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I7e.p m zM2 _z
X6SWcJtSw QQ：2987619807 6_kv~`"t Z
|
