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摘要 sL[&y'+ 0O5(\8jM 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Y&6vTU tF}Vs}
ROw9l!YF RP?UKOc 建模任务 @zSI@Oq_ Lnc
_)RF eo.y,U h 概述 R2|v[nh Ztu _UlGC •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 kC"lO' •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 -rb]<FrL^ |1iCt1~U
Y]!8Ymuww@ (qG |.a 光线追迹仿真 {x$jGiag+8 yhhW4rz •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 w
4-E@>% •单击go! zkHwoAD;t8 •获得了3D光线追迹结果。 B! $a Y \D}K{P
MBXja#(k n#8N{ya5x1 光线追迹仿真 Vj(}'h-c\ mF7T=pl •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 G9"2h
\ •单击go! a"ZBSg( •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Q}.zE+ l?F-w;wHN
oNH&VHjU hYOUuC 场追迹仿真 s4h3mypw K89 AZxH •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 m/vwM" •单击go! [+dOgyK `3GC}u>} o0t/ X-[_g!pV 场追迹仿真(相机探测器) T"ors]eI S^ij % •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 `hJSo?G> •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 $C@v H%2Y8}
CDOqdBQ nW?DlECo? 场追迹仿真(电磁场探测器) 2\
3}y( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 wa/
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ETQ.A< v l'h[wwEXm{ 场追迹仿真(电磁场探测器) :"BZK5{8 (5AgI7I, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 U)mg]o-VE GjF'03Z4
cu&tdg^q 2Hltgt, 文件信息 ^3`CP4DT U-+%e:v
}ti+tM* M`{x*qR 更多阅读 1~X~"M dfkmIO%9X -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PP{2{ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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