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摘要 mZ[tB/ :/.SrkN(A7 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 zFFip/z\ 'a^'f]"
ri]"a?Rm ~vL`[JiK 建模任务 U#X6KRZ~g fx"~WeVcO Yu`KHvur 概述 8iIz!l%O -J`VXG:M •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 g.V{CJ*V •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2JMMNpya fbjT"jSzw
`1hM3N.nO B=R9K3f 光线追迹仿真 O 8\wH _[kZ:# •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 K,$Ro@! •单击go! _'.YC<; •获得了3D光线追迹结果。 zG|#__=T fl4z'8P"(
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6E' 光线追迹仿真 Vt[Kr !e0OGf •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 /&eF,4 •单击go! `nvm>u~[Hq •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 U7(t >/ zQt"i`{U
Or2J (9A`[TRwi 场追迹仿真 kuZs30^ }23#z •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 #% 1|$V*: •单击go! ^]_5oFRIj S*D Bzl Bm\OH# ,Qw\w, 场追迹仿真(相机探测器) iDdmr32E tw*n+{]hi •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 |nu)=Ag •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 t#eTn"; pn._u`xMV
o(|fapK. {<k}U;uiO 场追迹仿真(电磁场探测器) m`Dn R`+ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Cr;d
!= B'U;i5u4' hj*Fn /iwL$xQQ 场追迹仿真(电磁场探测器) qbunP! 'a6:3* •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "{X_[ LL}b]B[
q@6Je(H )h&*b9[B= 文件信息 4or8fG k@RIM(^t
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&e 更多阅读 bpv?$j-j NW*qw q -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer sO;]l"{< -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination $At,D.mGkb 1(ud(8?| 6Y-sc*5 QQ:2987619807 f[;l7
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