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摘要 V`R)#G>IH% f 74%YY 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 AT%*
~tr c#\ah}]Vo
1IOo?e=/bM Z0()pT 建模任务 e8XM=$@ PuCwdTan_ dJ%wVY0z= 概述 ^Hz KlVi4.] •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ~{1/* &P •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 C}(<PNT 8m/FKO (r
v2M"b?Q |n|U;|'^ 光线追迹仿真 5eiZs ^Txu~r0@ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 {2}tPT[a( •单击go! #sz]PZ\ •获得了3D光线追迹结果。 >0Fxyv8 ~8H&m,{j
#Dj"W8'zh _KSfP7VU 光线追迹仿真 )XmCy"xx xQNw&'|UU •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
K;<NBnH •单击go! pY{; Yn&t •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 PtVo7zOye N5q}::Odc
ou<S)_|Iu }j+~'O4m 场追迹仿真 o9KyAP$2 Tm%$J •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 8N=%X-R% •单击go! x !#Ma 90 \GijNn9ah ,~?A,9?%: 场追迹仿真(相机探测器) w8AJ#9W R4#;<) •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $l#v/(uFa •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 & cM
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o/tVcv h|J;6Sm@ 场追迹仿真(电磁场探测器) 9nT?|n]> •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /~H[= Pf fkdf~Vb :`:xP 4mEzcwo' 场追迹仿真(电磁场探测器) jo 7Hyw!g :wQC_; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 . o-0aBG X4d Xm>*?=
R<0Fy =z ry$tK"v/ 文件信息 4^
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Jy]FrSm^ *e(:["v 更多阅读 Dl0/-=L `)rg|~#k -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer fUb1/-} -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination *<B)Z v57N^DR{ >nc4v6s QQ:2987619807 whV&qe;sw
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