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摘要 t
@;WgIp(& mU>&ql?e 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 5bXHz5i )^&,Dj
tzPC/? 4e}{$s$Xx 建模任务 juH wHt X R4 )z 2%5?Fn= 概述 |P>|D+I0 6nc0=~='$ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 `-o5&>'nf •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 <8f(eP\*F >'N!dM.+9
*
flW L `v~!H\q 光线追迹仿真 k5wi' GYd]5`ri •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 -/zp&*0gcx •单击go! lu]o34 •获得了3D光线追迹结果。
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fSjs?zd` {8 N=WZ 光线追迹仿真 nx B32 _PV*lK= •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 N};t<Xev •单击go! zi
}(^~Fe •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ^Z#@3= '#A:.P
l0Y?v 4 f|#8qiUS 场追迹仿真 tfA}`*$s q4k.f_{ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
J,(7.+`~# •单击go! ;T>+, :@/"abv S7CV
w,2 srK53vKMHW 场追迹仿真(相机探测器) IM=+3W;ak x#mtS-sw2Q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 L7}i
q0 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ]-:1se N
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1[s0Lz g_vm&~U/' 场追迹仿真(电磁场探测器) 3 z=\.R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 j=9ze op
% O |WbFf {p]=++ csDQva\ 场追迹仿真(电磁场探测器) Z(;AyTXA 036[96t,F •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Pw{"_g hVM2/j
Xk,>l6vc kYlg4 .~M 文件信息 ,9\Snn . :a<2sp6
Jq)U</ 'I v_mig 更多阅读 +/y]h0aa DsGI/c -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer QPs:R hV7 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =X@o@1 0hwj\{" H\#:,s {1 QQ:2987619807
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