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摘要 <VPtbM@(m 1 Qkuxw 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 O;tn5 CjCnh7tm
_en 8hi@Z IHfqW? 建模任务 N/p_6GYMa o!d0 dD!SgK [Jv 概述 fA5#
2P{ !<'R%<E3Q •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Su~`jRN$ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 'ZZ/:MvQa W[DB!ue
% *hBrjbj ?,[w6O* 光线追迹仿真 m-]"I8[ 2Ev,dWV •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 d?qz7#kc •单击go! !Ai;S •获得了3D光线追迹结果。 I-I5^s wz57.e!Me=
TY}?>t+ CJ >=odK[ 光线追迹仿真 @(L| O5w\oDhMb •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 E&AR=yqk •单击go! 'AU!xG6OQ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 'tj4 ;+xf^ oc3/
IWII
*BV .zbGm )sr]}S0 场追迹仿真 -_dgd:or el<nY"c •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 sQ$FtKm6 •单击go! s&l[GKR 3h>Ji1vV E7,\s
,b8AB_yw 场追迹仿真(相机探测器) 'AoH2 | t&0p@xLQ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 &+sN=J.x •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 9cQSS'`F }\ F>z
~*qGH H D>{UU? 场追迹仿真(电磁场探测器) _<8y^ymo •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 okW3V}/x/z >_". YZ}gZQ.A0 5y)kQ<x" 场追迹仿真(电磁场探测器) FWj~bn ?!ig/ufZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 F&\o1g-L mTt 9 o9E
"v06Fj>q K{c^.&6D 文件信息 oj/tim 6m]L{ buP
(0S"ZT sr\MQ?\fB 更多阅读 Ce:kMkJ j(SQNSFD -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer *VpQ(" -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination x8H)m+AW (]JJ?aAF er_aol e QQ:2987619807 JBqzQ^[n
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