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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 t @;WgIp(&  
    mU>&ql?e  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 5bXHz5i  
    )^&,Dj   
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    建模任务 juH wHt  
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    2%5?F n=  
    概述 |P>|D+I0  
    6nc0=~='$  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 `-o5&>'nf  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 <8f(eP\*F  
    >'N!dM.+9  
    * flWL  
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    光线追迹仿真 k5wi'  
    GYd]5`ri  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 -/zp&*0gcx  
    •单击go! lu]o34  
    •获得了3D光线追迹结果。 aV<^IxE;  
    wra byRjK  
    fSjs?zd`  
    {8 N=WZ  
    光线追迹仿真 nx B32  
    _PV*lK=  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 N};t<Xev  
    •单击go! zi }(^~Fe  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ^Z#@3 =  
    '#A:.P  
    l0Y?v 4  
    f|#8qiUS  
    场追迹仿真 tfA}`*$s  
    q4k.f_{  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 J,(7.+`~#  
    •单击go! ;T>+,  
    :@/"abv  
    S7CV w,2  
    srK53vKMHW  
    场追迹仿真(相机探测器) IM=+3W;ak  
    x#mtS-sw2Q  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 L7}i q0  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ]-:1se  
    N xFUO0O3  
    1[s0Lz  
    g_vm&~U/'  
    场追迹仿真(电磁场探测器) 3 z=\ .R  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 j=9ze op %  
    O |WbFf  
    {p]=++  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) Z(; AyTXA  
    036[96t,F  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Pw{"_g  
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    更多阅读 +/y]h 0aa  
    DsGI/c  
    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer QPs:RhV7  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 )Gb,^NGr  
     
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