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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 TY5R=jh=  
    4O.R=c2}7>  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 e\^}PU  
    $M/1pZ  
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    建模任务 #9 Fk&Lx  
    2,^ > lY  
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    概述 7U?#Xi5  
    cP\z*\dS  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 )=`DEbT  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 qL`yaU  
    "6U@e0ht  
    %d *0"<v  
    WRwx[[e6z  
    光线追迹仿真 t\'MB  
    D~Ef%!&  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 `9gV8u  
    •单击go! _0FMwC#DY  
    •获得了3D光线追迹结果。 [\Nmm4  
    12?!Z  
    -84%6p2-  
    VH<d[Mj  
    光线追迹仿真 IG{Me  
    "A&A?%  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 q@O  
    •单击go! oylQCbT   
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 NZa 7[}H  
    S'W,AkT  
    Q672iR\#)  
    j@^zK!mO  
    场追迹仿真 i+_=7(e  
    6xwjKh:9  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 UNwjx7usD  
    •单击go!  7U1 M;@y  
    sD2,!/'  
    ]z8/S!?  
    4b((,u$  
    场追迹仿真(相机探测器) );_/0:  
    9S[.ESI{>  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >)='.aR<  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 " C&>$h_%  
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    Mis B&Ok`k  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) & 0\:MJc  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 %&VI-7+K  
    m@+QC$6S  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) RticGQy&5  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 CGlEc  
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    文件信息 [tJn! cMs  
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    更多阅读 zLJmHb{(  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer tP*GYWI48  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 r-L& ee   
     
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