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摘要 *C
tsFS~ 77 *v-8c 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ,K`E&hS fc["
KC#kss cYE./1D a 建模任务 )Fw
@afE~ 5XhK#X%:A {c&qB`y<. 概述 #IH<HL)t%e ~r{\WZ. •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 d%S=$}o •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 z%++\.g_ 7AS.)Q#=x
Xv`2hf >SY2LmV'a 光线追迹仿真 L?AM&w-cg9 tCd{G
c •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 \Ac}R' •单击go! Fc34Y0_A •获得了3D光线追迹结果。 LuQ"E4;nY% 0\8*S3,q
uEc0/a :. xe"4u JO 光线追迹仿真 |G|* }wa}hIqx •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 tjBh$) •单击go! 9;>@"e21R •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 y|&.v< YlZYS'_
U)O?|
VN^o yEMX ` 场追迹仿真 !$%/
rQ9 JL}hOBqfI •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 *u:;:W&5y •单击go! J3]qg.B%z .(TQ5/
~ fxLE ]VJQ EqNz L*E 场追迹仿真(相机探测器) ~`nm<
-6hu31W •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 BK`Q)[ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 "ZA$"^ ,(;p(#F>
!mpMa]G3 JLFFh!J 场追迹仿真(电磁场探测器) j?d;xj •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 knNhN=hG+ 97:t29N }mtC6G41Q 2XETQ; 9 场追迹仿真(电磁场探测器) mG}^'?^K uMiD*6,$< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \Y>#^b? oP43 NN~
_G-b L; K4h-4Qbn 文件信息 z$I[kR%I{ ;*<{*6;=?
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A%q -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 0~@L%~ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [t"_}t =w z1{E:~f k@cZ"jYA QQ:2987619807 IDiUn!6Q
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