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摘要 0ft 81RK
e{EKM4 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Q'5]E{1<'n lD)ZMaaS3
K~$A2b95 Gf_Je 建模任务 @{P<!x <Q io%WV%1_ X
[IVK~D}z 概述 [1nfSW
`fMdO •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 i=T!4'Zu •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 [U'I3x, `yJ3"{uO
2n+tc Of0(.-Q w 光线追迹仿真 )-VpDW!%_ %;/?DQU •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 r&+8\/{ •单击go! sB`.G •获得了3D光线追迹结果。 o1lhVM`15 ~+|Vzm|S}
w_qX~d/ 0"}qND 光线追迹仿真 ZZq]I 7"Qj(N •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 #djby}hi •单击go! n x4:n@J •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 B0E`C $-Iui0h
L7\V^f%yCm 3D 4-Wo4 场追迹仿真 M5 \flE2 jKr\mb •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 W% @r •单击go! v}\4/u Xna58KF/ _cvA1Q" @n,V2`" 场追迹仿真(相机探测器) w3Lr~_j &_cH9zw@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 .>#X *u •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 sg` V#X#rDfJZ
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RPh #{_iNr a9 场追迹仿真(电磁场探测器) Mc,3j~i •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 U}T{r%9 Upw`|$1S f8e :J#jbS a\-AGG{2/X 场追迹仿真(电磁场探测器) j%+>y;). ,>!%KYD/f •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 .jUM';
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&R5zt]4d& ONVhB 文件信息 xO[V>Ud ^XX_ qC'1
R_W6} /|0xOiib 更多阅读 mqtX7rej Vx z` -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer n
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination v}LI-~M>U `L
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