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摘要 JR/:XYS+ p/jC}[$v 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
l);M(< ;Awt: jF
: vN'eL|# p!5oz2RK 建模任务 0#}Ed Q !#0Lo->OO 5S4kn.3 概述 PCzC8~t 9\9:)q •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 nNNs3h(Ss •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 B"rV-,n{ G gmv(!
k}T#-Gb 0k"n;:KM8 光线追迹仿真 KF^5 C 7x8/Vz@\ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 !1
:%!7 •单击go! +3]1AJa •获得了3D光线追迹结果。 ,CiN@T \& m\QUt ;
8Jnb/A} x6Q,$B 光线追迹仿真 &'{6_-kh ;T1OXuQ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }7p`8? •单击go! ktlI(#\% •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 o6L eC* UI S\t^pJD
]PWK^-4P F+yu[Dh: 场追迹仿真 V$U#'G>m D@9adwQb •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 3[mVPV •单击go! fBtTJ+51} W&E?#=*X m-V_J`9" S ]_iobWK 场追迹仿真(相机探测器) OV<'v%_& M<h2+0(il •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 a3t[Tk; •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ;2Aqztp [D/q
;+ : C sfb)iH|sW 场追迹仿真(电磁场探测器) Zb> UY8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 4%k{vo5i #0OW0:Q tf1iRXf8 a=m4)tjk 场追迹仿真(电磁场探测器) 44e:K5;]7 hnOo T? V •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 b;kgP`%% !vd(WKq
}Xa1K;KM{ 6"@`iY 文件信息 Y.>F fL Sfl. &A(
.W;,~.l )96tBA%u 更多阅读 lVb{bO9-O VsIDd}~C% -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer V{qpha4'P -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination -jXO9Q {,:yZ&( ;ZOu-B]q QQ:2987619807 3^!Y9$y1
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