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摘要 TY5R=jh= 4O.R=c2}7> 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 e\^}PU $ M/1pZ
wm Ie x gsUF\4A(J 建模任务 #9Fk&Lx 2,^> lY '.<c[Mp 概述 7U?#Xi5 cP\z*\dS •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 )=`DEbT •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 qL`yaU "6U@e0ht
%d*0"<v WRwx[[e6z 光线追迹仿真 t\'MB D~Ef%!& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 `9gV8u •单击go! _0FMwC#DY •获得了3D光线追迹结果。 [\Nmm4 12?!Z
-84%6p2- VH<d[Mj 光线追迹仿真 IG{Me "A&A?% •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 q @O •单击go! oylQCbT •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 NZa 7[}H S'W,AkT
Q672iR\#) j@^zK!mO 场追迹仿真 i+_=7(e 6xwjKh:9 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 UNwjx7usD •单击go! 7U1M;@y sD2,!/' ]z8/S!? 4b((,u$ 场追迹仿真(相机探测器) );_ /0: 9S[.ESI{> •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >)='.aR< •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 "C&>$h_% e`H>}O/ai
Mis B&Ok`k I )vR 场追迹仿真(电磁场探测器) &0\:MJc •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 %&VI-7+K m@+QC$6S FN<>L0 XP0;Q;WF} 场追迹仿真(电磁场探测器) RticGQy&5 s$qc& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 CGlEc iY?#R&
GnUD<P=I 1a V32oK 文件信息 [tJn!cMs ~av#r=x
zVf79UrK @t1pB]O: 更多阅读 zLJmHb{( .9=4Af -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer tP*GYWI48 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination i2(v7Gef \P9ms?((A 1n}#54 QQ:2987619807 r-L& ee
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