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摘要 ?7fQ1/emhO j;1~=j]) 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 %s ~NQ;Y
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c^i"}2+ 建模任务 Qx6,>'Qk ' J=f:\]@O y  < fojX\}3 概述 A^}i^ 0A)
Vtj$ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ga LEhf^ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 c9Y2eetO ^yEj]]6
 \;3B?8wbIl o<C]+Nt,@ 光线追迹仿真 [4K9|/J CT$& zEIm •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 W+F<P@[u<$ •单击go！ 2b 6? 9FX* •获得了3D光线追迹结果。 ,7n;|1` U}A|]vi@
 F20wf1^ FUW(>0x? 光线追迹仿真 BCj`WF@8l{ N$=(1`zM= •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 yr/]xc$ •单击go！ 7yqSt)/ U •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 AF9[2AH=Y 4 ~MJ4:
l0:e=q2Ax Z1)jRE2dl 场追迹仿真 QK``tWLIg7 SIaUrC •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 XEvG hy# •单击go！ ei +9G, Xh7~MU~X  L 5V'Sr
h X>VVeIZ 场追迹仿真（相机探测器） 6)uPM"cO EMVoTW)z •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ^\7 x5gO •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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 q{9X.-]} &(H) gjH 场追迹仿真（电磁场探测器） *x*,I ,0 3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 6 h0 U 9QX ~a X  zDvP7hl
7 BnenHD 场追迹仿真（电磁场探测器） [6&CloY3
xnRp/I •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 4mM2C `I l ~Ie#vak
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer |=^#d\?]j
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination mNnw G);$ N?2 #YTjR
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