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摘要 _| zBUrN x_!ZycEa 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 +S9PML){h
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 %e_"CS
A'-_TFwW 建模任务 :2y"3azxk op @i GC+  6+` tn 概述 +iA=y=;blH z-,VnhLx •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 e;ty !)] •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 T3 pdx~66 DC:)Ysuj
 }V`mp YRcps0Dx9 光线追迹仿真 fn}UBzED\ hfrnxeM#~ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 *>."V5{;S •单击go！ H%}IuHhN) •获得了3D光线追迹结果。 ;t(f1rP yE (OmH~ lSO.
 YZE.@Rz rU2iy"L 光线追迹仿真 nE|@IGH ^gYD*K!* •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 a07= tD •单击go！ KQ`=t •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 aGoE,5 -iN.Iuc{b_
 Bf msMW Qa `hR 场追迹仿真 IL!=mZ>2O `<fh+* •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 <@uOCRb V •单击go！ DQ XS$uBT cQUC.TZ_  0q6I;$H
cAuY4RV 场追迹仿真（相机探测器） x\@*6 0o tE"Si<[]H$ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
p{Sh F. •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 Hs (D/&6% K_/ B?h
 6}dR$*= R; } 22s 场追迹仿真（电磁场探测器） !<n"6KA. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 q4 k@l K%j&/T j1  buMq F-j
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场追迹仿真（电磁场探测器） 7;} l\VXHm
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Iy7pt~DJ,
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination %$ceJ`%1e 8 cWZ"v
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