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摘要 v!Z 9T (i8t^ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 8vK&d> PQ>JoRs
2X_ef T!bu}KO 建模任务 X[<9+Q-& LNkyV*TI ,e2va7}3 概述 CCV~nf intf%T5# •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ^dqEOW •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 v&n&i? oWmla*nCKL
z{\.3G 4KCxhJq 光线追迹仿真 q]x@q zu#o<6E{ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 *rLs!/[Z_ •单击go! pC6_
jIZ •获得了3D光线追迹结果。 $$a"A(Y }8HLyK,4
e 3K .FU EF) 光线追迹仿真 4"sP= C
U{EW +> •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 *M:Bhw •单击go! ;QYK {3R? •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
cO:x{~ jJ|;Nwm<[
4rm/+Zes iwbjjQPr 场追迹仿真 c,@6MeKHq :R)IaJ6) •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 H<
j+-u4b •单击go! \1ZfSc a|.u; Fr~xN!
o#i{/#oF 场追迹仿真(相机探测器) 5j]%@]M$Z {8' 5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 fOVRtSls •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 iQKfx#kt nB.p}k
U&6f}=vC cQ`,:t#[ 场追迹仿真(电磁场探测器) 6XP>p$- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 F}X_I J?&9ofj& =F9-,"EAI { T.VB~C 场追迹仿真(电磁场探测器) L-XTIL$$ <6@Db$- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 6
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RNO4 -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer w^~,M3(+)1 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination S7bSR?~L[ .FeEK( wegBMRQVp QQ:2987619807 ?1YK-T@
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