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摘要 QkzPzbF" eA_ 1?j]E3 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 KFC zf_P!
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AC (}cMM+ 建模任务 fi#o>tVyJ T.W/S0#j3  L1"X` Pz[} 概述 lTdYPqMi Mi 'eViH •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。
Jb {m •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 "mT~_BsD TiF$',WMv
 "v~w#\pz7 5'>(|7~%\ 光线追迹仿真 2@ACmh g[@]OsX •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 /tP"r}l •单击go！ Q9# $4 •获得了3D光线追迹结果。 8X*6i-j5E CWI(Q`((>
 fX} dh9 '1r:z, o| 光线追迹仿真 j|HOry1E & n&[U/`o •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 <h7C_^L10\ •单击go！ 0t*q5pAG". •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 w>VM-- 8u;l<^ <
 NY1olnI WZ ~rsSZSV 场追迹仿真 &sWq SS S <|e/ eyl+D sK
-jFt4Q7}8 场追迹仿真（相机探测器） #xE" ]; r #3_F=xL5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 HK5\i@G+< •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 gnB%/g[_
&gcKv1a\
 v*l1"0 $ \nPa>2r 场追迹仿真（电磁场探测器） )>$xbo")k •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 X )g <F (? YTQ8QR  /[t]m,p$yq
g;eMsoJ G 场追迹仿真（电磁场探测器） (+bk +0
E@P8 -x'i •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 hq$:62NYg EQz`o +
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination : kf l q {Qg"1 +hhM
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