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摘要 -A<@Pg *`w>\}, su 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Ieq _XF]U
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k BC$dW- 建模任务 l\AdL$$Mb 2Ul8<${c{  ,G VX1B? 概述 wt9f2 NV/paoyx:* •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 7Rtjm •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ;Krs*3
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 O-p`9( _m %`5K8eB 光线追迹仿真 af @a / :qj^RcmVPL •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 &P}t<; •单击go！ fP4P'e I •获得了3D光线追迹结果。 x5PM ]~"p "dt} k$Gr
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63,r 光线追迹仿真 + (:Qf +: #0h}{y
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 /]J\/Z> •单击go！ dB#c$1 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 4Lk<5Ho SOsz=bVx
 %4M,f.[e ;?iu@h 场追迹仿真 } L|B@fW M'R
] '' •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Y[PC<-fyf •单击go！ F%lC%~ -qh 6l4=  ipGxi [Vav
q!U$\ Q& 场追迹仿真（相机探测器） g ^|R;s{ !+Y +P? •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 d#d&C JAfr •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 Ici4y*`M ,']CqhL6=R
 vmNI$ KZM {0,6- dd5 场追迹仿真（电磁场探测器） =w!9:I&a0 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 I<<1mEk -:r<sv$  wS,fj gX
_XY(Qd 场追迹仿真（电磁场探测器） w1zMY:9
zXlerQWUv •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ,{(XT7h r ~-H3]
 CflyK @ (4q/LuP^d 文件信息 HWFTI /] &CXk=Wj
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer byt$Wqdl
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \BfMCA/ u~ FV I
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