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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 9 aKU}y  
    @CoUFdbz  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 {CFy %  
    j8^zE,Z  
    bXqTc2>=  
    <Ynrw4[)t  
    建模任务 ,-DU)&dF  
    }j!C+i  
    Tl+PRR6D*  
    概述 lAGntYv  
    C 7YS>?^]  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 q%,y66pFr  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ;hh.w??  
    Ag&K@%|*  
    ~4xn^.w  
    CBz=-Xr  
    光线追迹仿真 v] m`rV8S[  
    kL<HGQt  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 {s6hi#R>  
    •单击go! {!!8 *ix  
    •获得了3D光线追迹结果。 `(6cRT`Wp  
    P0k.\8qz  
    .B'ws/%5\  
    }1Q> A 5e  
    光线追迹仿真 ofsLx6Po  
    xqauSW  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 -MORd{GF  
    •单击go! /J(~NGT  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 :'[ha$  
    $+,kibk*R  
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    n]>L"D,  
    场追迹仿真 ( efxw  
    k,ezB+  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 LCe6](Z  
    •单击go! LKZv#b[h  
    v+( P4f S  
    9V;A +d,  
    _:Jma  
    场追迹仿真(相机探测器) phwBil-vUU  
    AtqsrYj  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >LB*5  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 dqi31e{*2\  
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    r?pN-x$M=  
    kZR(0, W  
    场追迹仿真(电磁场探测器) "s@q(J  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 b=SCyGxlZ5  
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    `1#Z9&bO  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) AE Abny q  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 UlPGB2B  
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    文件信息 Sae*VvT6  
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    更多阅读 Fu[GQ6{f  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer z9v70 q  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 FS*J8)  
     
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