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摘要 V.4j?\#% d!d
3r W;A 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Dux`BKl Q(sbClp"
Q\oUZnD$= dbLX}> 建模任务 k`t'P6
bU j@ "`!uPz =.%ZF]Oe+# 概述 cC[n~OV -r2cK{Hhp& •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 D6vn3*,& •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 79V5{2Y*U WNx^Rg"
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ArEpH"}@ !vB%Q$!x 光线追迹仿真 /;0>*ft4 gv,T<A?Z2 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 4Rm3'Ch •单击go! t2:c@) •获得了3D光线追迹结果。 W
wE)XE A)#sh)
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w(U/(C7R +wSm6*j7= 光线追迹仿真 VB#31T#q? hK"=~\, •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @}Ixr{t •单击go! ^ZlV1G;/W@ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 v;Dcq zJ:r0Bt
85fDuJ9$Z" #R8l"]fxr? 场追迹仿真 ^;3rdBprm Tc(R-Wi •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 vw]nqS~N •单击go! D5>~'N3b <f6PULm tb{{oxa,k _pGviGR 场追迹仿真(相机探测器) O}-7 V5 I3Lsj}69 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 h %s •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 T/;hIX:R <`3(i\-X
qlJOb}$ I [J`G`s! 场追迹仿真(电磁场探测器) Zsogx}i- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 B|=maz:_ 5r<(Z0 +I n"OR% 2S6EDXc 场追迹仿真(电磁场探测器) :\JbWj_j ?v8k& q^q •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 wKlCx $0SZlq>En
_0["J:s9 (VAL.v* 文件信息 {\/nUbo[ 1!wEXH(
('-}"3 &n.uNe 更多阅读 9sj W YiuOu(X -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer _0q~s@- -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination mMAr8~A= 50aWFJYw ><MgIV QQ:2987619807 }l?_Cfvu
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