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摘要 Tb/TP3N EY}:aur 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 U84W(X %u -x9
jmok]-pC FR&`R 建模任务 !3ggQG!e d:H'[l.F% L*nK>
+ 概述 ]I*c:(qwu my=f}%k= •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 6_LeP9s ) •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 iCt.rr~;V k4TWfl^}9
5E:$\z; pl[J!d.c 光线追迹仿真 IgT`on3Y k$EVr([ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 s0kp(t!fiu •单击go! lWbu`y •获得了3D光线追迹结果。 WzMYRKZ 2|1fb-AR
9
_d2u# iyskADS 光线追迹仿真 EeIDlm0o !<bwg •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 _GOSqu!3Y •单击go! dWqn7+: •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 D}-.< 9g9 2eKS
1^iBS ^5mc$~1` 场追迹仿真 8;PkuJR_]
B.z$0=b •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 +)]YvZ6%[, •单击go! 0lw>mxN gk ]QR. rg/{5f NnZW@ln"| 场追迹仿真(相机探测器) U"oNJ8&%| |<%!9Z •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 3v* ~CQy9 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 'CLZ7pV AeJ ;g
MB plhVK8 <@<rU:o=V 场追迹仿真(电磁场探测器) f60w% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 lQA5HzC\ `-NK:;^ {.Tx70kn :yay:3qv 场追迹仿真(电磁场探测器) N2r zHK UA[`{rf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5*0zI\ ~lj~]j
4=PjS<Lu8 Et>#&Nw8 文件信息 sXKkZ+2q <,d550GSm
a6p0_-MF Ts iJK 更多阅读 UK`A:N2[ J0G@]H -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 7 WJ\nK -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [K{{P|(q @SQsEq+A?\ 5=>1>HYM QQ:2987619807 XN<SKW(H3
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