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摘要 i D V.L (M iEXU~v 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ~ y%8uHL:
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SF2A?L?}+ 建模任务 'v.i' 6 w#w lZ1f  A0sydUc 概述 |;o #-YosP
H •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 .7TQae% •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 EOu\7;kE 9 h
V@C|*A
 o0b}: ` >cEc##:5 光线追迹仿真 RwMK%^b AAjsb<P •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 f?T6Ne' •单击go！ LC/9)Sh_n •获得了3D光线追迹结果。 N!>G g|@~ ooY2"\o
 :1"{0 gm jA R@?X 光线追迹仿真 Ml)~%ZbF OI"vC1.5 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 <:)T 7yVq •单击go！ pIdJ+gu( s •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 $e#p -z R4G$!6Ld
 [$)C(1zY fyIL/7hzf4 场追迹仿真 D4[1CQ@}4D elCDPZ Tf •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 `An`"$z •单击go！ B`)o?GcVN 2bBTd@m4  R,CFU l7Q
^OKCvdS 场追迹仿真（相机探测器） yC ZV:R; xoI;s}*E •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 S0nBX"$u •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 [8AGW7_ az@{O4
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Jp\a7`; <@xp. Y 场追迹仿真（电磁场探测器） U^SJWYi<Y •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 = M^4T?{T 'L)@tkklp  Qrjo@_+w!
R'f|1mt 场追迹仿真（电磁场探测器） X= )Ue
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rtf\{u9 }g 1 zIFQ@
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