MEMS技术发展史

发布:探针台 2021-03-16 08:35 阅读:717
MEMS技术发展史 2frJSV?  
MEMS技术发展的时间轴,从从1947年制造的第一个点接触晶体管开始,到1999年的光网络交换机结束,50多年间,MEMS通过诸多创新,促进了当前MEMS技术和纳米技术的发展。  L~I<y;x  
下面关于MEMS历史上主要的35项里程碑,看看你知道多少? <s]K~ Vo  
1948年,贝尔实验室发明锗晶体管(William Shockley) N;Hrc6nin^  
1954年,锗和硅的压阻效应(C.S.Smith) Nz*qz"T  
1958年,第一块集成电路(IC)(J.S.Kilby 1958年/Robert Noyce 1959年) }_@cqx:n^  
1959年,"底部有很多空间"(R.Feynman) REQ2pfk0  
1959年,展示了第一个硅压力传感器(Kulite) ,'={/)c<  
1967年,各向异性深硅蚀刻(H.A.Waggener等) ~W%A8`9  
1968年,谐振门晶体管获得专利(表面微加工工艺)(H.Nathanson等) m\"M`o B  
1970年,批量蚀刻硅片用作压力传感器(批量微加工工艺) 3f eI   
1971年,发明微处理器 WI[6 l6  
1979年,惠普微加工喷墨喷嘴 dZ`nv[]k~  
1982年,"作为结构材料的硅"(K.Petersen) RvYew!n  
1982年,LIGA进程(德国KfK) 2s?j5 Sd  
1982年,一次性血压传感器(霍尼韦尔) 5(u7b  
1983年,一体化压力传感器(霍尼韦尔) (@uQ>dR:  
1983年,"Infinitesimal Machinery",R.Feynman。 NAx( Qi3  
1985年,传感器或碰撞传感器(安全气囊) <4C`^p  
1985年,发现"Buckyball" *G'zES0x  
1986年,发明原子力显微镜 <kPU*P,  
1986年,硅片键合(M.Shimbo) )1~4Tl,S  
1988年,通过晶圆键合批量制造压力传感器(Nova传感器)  ZMg%/C  
1988年,旋转式静电侧驱动电机(Fan、Tai、Muller) _ nS';48  
1991,年多晶硅铰链(Pister、Judy、Burgett、Fearing)。 L4 x  
1991年,发现碳纳米管 *~prI1e(  
1992年,光栅光调制器(Solgaard、Sandejas、Bloom) c c ,]  
1992年,批量微机械加工(SCREAM工艺,康奈尔) Ibd7[A\  
1993年,数字镜像显示器(德州仪器) #wx0xQ~,J  
1993年,MCNC创建MUMPS代工服务 JEU?@J71O  
1993年,首个大批量生产的表面微加工加速度计(Analog Devices) e>uV8!u  
1994年,博世深层反应离子蚀刻工艺获得专利 [^1;8Tbk  
1996年,Richard Smalley开发了一种生产直径均匀的碳纳米管的技术 cV&(L]k>`  
1999年,光网络交换机(朗讯) |X~T</{8i  
2000年代,光学MEMS热潮 \P&'4y~PL  
2000年代,BioMEMS激增 #++MoW}'g  
2000年代,MEMS设备和应用的数量不断增加。 @D[;$YEk  
2000年代,NEMS应用和技术发展#半导体# #芯片# #mems# q<,?:g$k  
(^eE8j/K  
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