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摘要 {/
BT9|LI Y7*U:I+N 在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 'qOREN SAyufLEv,
c'S,hCe* @Bf%s(Uj+ 建模任务 v5QqS8u_C
?B}{GL2)
q)^Jj?W 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) c+hQSm|bf) U'<KC"f:'! 某一位置的Talbot图样 3%(N[&LU g.zEn/SM
fR*q?, VCD:3U 8
某一位置的Talbot图样 no9;<]4 IHcD*zQ
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+ayos[<0# M>i9 i-dU 沿Z轴的强度 Q=/</| `O[};3O&
L.jh YQ6f}O 走进VirtualLab Fusion H\:lxR^ Pyb Z)5u
%sX$nmi3 /M3Y~l$ VirtualLab Fusion的工作流程 ~==>pj BE_ay- 构建光栅结构 5
({t4dm - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] EB2!Hp uQ3 - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] v,4pp@8rv RWgNo#< 通过参数运行计算不同位置的强度 EioB%f3 - 参数运行文件的使用 [用例] PEuIWXr n3D;"a3 hR
Ue<0o: 2gq9k}38 VirtualLab Fusion技术 |,!IZ-
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wT:b\km:! Z3&_ 文件信息 cxr=k%~}J DIzH`|Y
-2 A(5B9Fq qIIv6''5@ 延伸阅读 {yB&xj[z - 超稀疏介质纳米线栅偏振片 ` M3w]qJ<} - 光栅级次分析器 zN"J}r: - Talbot效应的建模 U~j
^I^ c;n *AK v4.#;F.\m 有什么问题可以添加微信~ $}jssnoU ^k#P5oV 7|[mz> "d
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