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摘要 Vi8A4 7R2O[=Szq 在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 FI$:R ;Y`Y1
lZ\8W^ }#O!GG{ 建模任务 y!77gx?- xLz=)k[''
(hzN(Dh 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) pFd8p@m_2 5:h[%3'bB 某一位置的Talbot图样 kW g.-$pp `@h|+`h
dq[h:kYm u#E'k
KGO 某一位置的Talbot图样 HB/V4ki ~9dpB>+
NXY jb(4: 8vY-bm,e 不同位置的Talbot图样 A IP~A]T 'jtC#:ePK
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Pd*[i7zhC n{;j 沿Z轴的强度 W_\zx<m <$(B [T
g>@JGzMLP 9oWU]A\k> 走进VirtualLab Fusion x<NPp&GE zH8E,)
Wy}I"q[~So |^pev2g VirtualLab Fusion的工作流程 yGZsNd {a& XIHN6aQ{X 构建光栅结构 <>cS@V5j - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] S\k < - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] e#(Ck{e >Jz9wo` 通过参数运行计算不同位置的强度 'ZfgCu)St - 参数运行文件的使用 [用例] 7RAB"T;?Q 5'~_d@M 0lfK}
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'y8{,R4C 'X`Z1L/ 延伸阅读 *z=_sD?1 - 超稀疏介质纳米线栅偏振片
l] nt@0+ - 光栅级次分析器 p*Bty@CRi - Talbot效应的建模 RU )35oEV| ]b/]^1-(b NR{wq|" 有什么问题可以添加微信~ C$3*[ ^u/%zL |y\Km
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