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摘要 BheEI;} 3b?OW7H 在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 fr'huvc ZH;y>Z
|:(23O xf^<ec 建模任务 4QjWZ Wl /\-2l+y>J
yA?ENAM 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) o1#:j?sN E &];>3C 某一位置的Talbot图样 /J[H5uA RhV:Z3f`6
gP%|:" L*UV 某一位置的Talbot图样 U7]<U-.& S[L#M;n
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@3-,=x 43J\8WBn@ 沿Z轴的强度
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3qAwBVWa tIGVB+g{F 走进VirtualLab Fusion R,x> $n yV J dZ I
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VirtualLab Fusion的工作流程 atLV`U&t *%T)\\H2 构建光栅结构 T|o`a+? - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] I!$jYY2 - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] gf68iR.Gs 0^GbpSW{ 通过参数运行计算不同位置的强度 :M22P`: - 参数运行文件的使用 [用例] ~|CJsD/ >
$w^%I 0T9@,scY a>wfhmr VirtualLab Fusion技术 %s$rP /OQK/
t63
\!+-4,CbZY vix&E`0yD 文件信息 5l41Q 6X@mPj[/
4GG1E. z} uQGz;F x 延伸阅读 Q'Jv}'eK_ - 超稀疏介质纳米线栅偏振片 le7
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2[Z0I4r - Talbot效应的建模 `6a]|7|f [_y9"MMwn s<A*[ 有什么问题可以添加微信~ b!i`o%Vb Qs|OG )n\*ht7
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