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摘要 B2
Tp;) CO0Nq/@ 在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 <2diO= `t{aN|3V[
vov"60K b0tr)>d 建模任务 MJ8z"SKnV )+N%!(ki
puL1A?Y8UM 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) Ts|&_| r?\hZ* |M 某一位置的Talbot图样 fi:Z*- (3%NudkwT
#`<|W5 6@ET3v 某一位置的Talbot图样 :I+%v G7M:LcX
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xx#;)]WT w~;1R\?| 沿Z轴的强度 !HY+6!hk Qi w "x,
o D*h@yL #QXB2x<* 走进VirtualLab Fusion Z[FSy-;" T,!?+#
,-vbR& ZvkO#j VirtualLab Fusion的工作流程 b9%hzD,MR rKg5?. 构建光栅结构 m.&z:`x[ - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] =Mc*~[D/ - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] >(|T]u](q -nV]%vJ$R} 通过参数运行计算不同位置的强度 u0A.I_ - 参数运行文件的使用 [用例] # yAt ` 2Rc#{A KaauX
m qYl%v VirtualLab Fusion技术 2x"&8Bg3 6*lTur9ni
v<ASkkh> 2LiJ IO8N 文件信息 0%<Fc9# cD YKvrPY
>j4;{r+eQw q$yTG!q* 延伸阅读 sPyq.oG - 超稀疏介质纳米线栅偏振片 :tl*>d~ - 光栅级次分析器 VA&_dU]* - Talbot效应的建模 ,j:`yB]4, ^{T]sv [O2xE037h` 有什么问题可以添加微信~ ey _3ah3x rFh!&_ 2y>~<S
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