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摘要 P~H?[
; 0S%xm'|N 在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 %\|9_=9Wn 1j!LK-
y_7lSo8< ]"2;x 建模任务 k"z ~> u Sl&d
fVXZfq6 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) `u't %tOGs80_{ 某一位置的Talbot图样 `Pcbc\"*y D["~G v
3hi0 :"~SKJm 某一位置的Talbot图样 <*/IV< WEnI[JGe
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$5]}] 4!</JZX~$ 沿Z轴的强度 Xv&&U@7 ;J>upI
u{'|/g& Z0'&@P$ 走进VirtualLab Fusion I,lX;~xb Lhz*o6)
6L!/#d0 +v.<Fw2k# VirtualLab Fusion的工作流程 h]>QGX[kC %4QpDt 构建光栅结构 {O=PVW2S - 用特殊介质构造光栅结构 [用例]
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+owl2 - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] v:1DNR4 Ym8
V) 通过参数运行计算不同位置的强度 0Xw$l3@N^ - 参数运行文件的使用 [用例] z%Eok (Qcd !! 4aGVIQ &Yklf?EZ>Q VirtualLab Fusion技术 )Ggv_mc h Vm*E^ v
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w1`<7L 文件信息 E Xxv qN"Q3mU^h*
}1#prQ0F bk=ee7E7> 延伸阅读 U!\~LKfA - 超稀疏介质纳米线栅偏振片 rk-GQ#SKU - 光栅级次分析器 rQD^O4j R - Talbot效应的建模 PWBcK_4i% `x]`<kS; ^?8/9o 有什么问题可以添加微信~ 3OB=D{$V aJ"m`5]=% KK}ox%j
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