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内容简介: &F}+U#H Mt Z(\&~ 1.在VirtualLab中如何进行结构设计; _2Z3?/Y >cNXB7]E> 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 #c>MUC(?s: }BrE|'.j' 结构设计 <.B s`P 1) 点击 ,打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 20qVzXi o%%fO PpRO7(<cD 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布,默认为振幅视图. 点击,将默认的振幅视图转换为相位视图,点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 ;"
*`
n:D*r$ C|p ,]mwk~HeF 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 | dwxea U;GoC$b}| 目标(Target)标签,可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 g8"7wf`0k y^\#bpq&\ 光学设置(Optical Setup)标签,在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate),并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium),同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长(Wavelength)。 e;5Lv9?C8 ([-=NT}Aq `W n5
.V 光学界面参数(Interface Parameters)标签,在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None),以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面,并选择像素化的高度轮廓(最临近点插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值
1}E@lOc ,`zRlkX tJPRR_nZv 4) 完成结构设计,在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 ]P$DAi K, 5ax@ N08n/u&cr, ~bTae =FP 导出加工数据 }GDG$QI]K& F^z8+W 1) 在LPD中双击生成的元件,可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component,简称DIC)的形式保存的,而高度轮廓以取样光学界面(Sampled interface)的形式保存,点击编辑(Edit) NCFV ;
,<J:%s b,R'T+4[ 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口,在结构(Structure)标签上,选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值,并进行3D预览 v|(b,J3 !u}3H|6~ jYX9;C;J 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中,点击鼠标右键,选择精度(Accuracy),将界面取样精度设置为5,提高取样光学界面的显示精度 OX/.v?c '5/}MMT bV*zMoD# vGwD~R u^zitW!X$ 4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签,将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8,通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 <]^;/2.B dm=F:\C q)ql]iH rDX'oP: 5) 进入光学界面数据导出窗口 BemkCj2
2^#UO=ct 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 d5"EvT G=HxD4l 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 `F\:XuY kj!7|1i2 在GDSII/CIF标签上选择默认设置,并点击Export导出加工数据 !5%5]9'n@* %Rep6=K*$ |;9 A{#zM 导出加工数据列表 hdtnC29$ yCCw< |