切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学系统设计：理论、仿真与系统检测 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1302阅读
    • 0回复

    [分享]结构设计和导出加工数据 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6354
    光币
    25915
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-12-25
    内容简介： 2$  
     M!-q}5';  
    1.在VirtualLab中如何进行结构设计； .h a`)@MsZ  
     Slo9#26  
    2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 u5/t2}^T  
     iW":DOdi_  
    结构设计 mUiOD$rO  
    1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 V3 qT<}y|  
     HmFNE$k  
    ;i/"$K  
    2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 u9 %;{:]h  
     G IK u  
         $>|?k$(x  
    3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 ~U/8 @gR  
     ?${V{=)*X'  
    目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 @{'o#EJY  
    pAMo XJ`  
    光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 +&(J n  
     a4:`2  
    ^z38<L=z"  
    光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 oO8]lHS?@  
    xP42xv9U  
    /#@LRN<oCq  
    4) 完成结构设计，在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 l<s :%%CX  
     _ \_3s  
    +BU0 6lLD  
    gZ1N&/9;  
    导出加工数据 #&}%70R)  
     <` #,AVH  
    1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) =z+-l5Gu"  
     i'U,S`L6>  
    fmtuFr^a1  
    2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 >\Z lZ  
     G,+xT}@wu  
    is64)2F](  
    3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 bb*c+XN0  
           _F! :(@}  
    @wg&6uQ  
    G[ ,,L  
    ="/R5fp  
    4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签，将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8，通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 Rd`{qW  
    2Y9y5[K,F)  
    MacL3f  
    Ma% E&.ed  
    5) 进入光学界面数据导出窗口 muW`pm  
     e!TG< (S  
    在一般(General)标签进行如下图所示的设置 |G[{{qZM5  
    9NJ=~Ub-  
    在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 GjG{qR  
    Rc$=+K#  
    在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 Uyz;U34 oI  
    u?F7 L8q]  
    Sn;/;^@(\  
    导出加工数据列表 Wh#os,U$  
     9|us<k  
    b>G qNf!  
    cP/F| uG5  
    导入加工数据 x0}<n99qE  
     N:m@D][/sW  
    1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI s?4%<jz  
     }Z~pfm_S  
    =e"H1^Ml  
    2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) %#[r_QQ^  
     B^E2UNRA  
    JS<e`#c&  
    3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) "~ .8eKRQ  
    D4YT33$tC  
    4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 )Mm;9UA  
     >\^N\&  
    4WBo ZJ  
    mtiO7w"M\7  
    w a-_O<  
    @g@ fL%  
    5) 打开文件夹中的.xml文件，导入加工文件 \i&vOH'  
    G}Qk!r  
    KT]J,b  
    6) 导入完成，观察3D视图 nN(D7wk  
     Q6s5#7h'"  
    E@\d<c.  
    Z7m GC`>  
    f4A4  
    QQ：2987619807
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表