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内容简介： l%yQ{loTh
=~)rT8+) 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； s,Fts 3+
~Q]::
2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 b!"FM/ %
uX1{K%^<TW 结构设计 FZ8Qj8
1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 k%s,(2)30
nKTi"2 dm ,k9.1kjO*) 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 <fMQ#No
Un5 AStG Zl]@ ;*u 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 r.=.,R
%?S[{ 4A& 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 u:wijkx n+v v
% 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 `P*w ZKlW
~1S,[5u|s " `a,/h' 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 PklJU:Pu\U AF{@lDa1h  z>
N73 u
{?3i^Q=V 6&2{V?
W3 <9;X1XtpI 导出加工数据 t+0/ $
yK_$d0ZGE~ 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) |H 5$VSw
yv)-QIC3 ?dCJv_w 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 #wh[F"zX
0p\Kf(|E*6 m YhDi 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 ,wy Eo>>4) jHx\YK@e\  )"E1/$*k
FJW ,G20L 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 )E6E} }L^PZS@Jf 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 G12o? N0p O}6*9Xy 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 )R"UX:Q> "VMb1Zhf 0rAuK 7
导出加工数据列表 > aCY
LftGA7uGJ)
-"bC[ WN : G5O_T$ 导入加工数据 iU# "G" &
^r{N^ 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI 5/HkhT yj
81)i>] j`MK\*qmz 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) >;fn,9w
Hig.` P J d,9<m $ 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) RXO5p d ?H8dyQ5" 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 ?MvL}o\|
jk% H+<FU` lKS 2OOYC`  uaha)W;'9 nu[["f~  (Hs,Tj 6) 导入完成，观察3D视图 LK>;\B Re?
i\o * =+{r  `9|Uu#x K4OiKYq
QQ：2987619807
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