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内容简介: GO~k ' l;0y-m1 1.在VirtualLab中如何进行结构设计; 7=3O^=Q^Q .Q[yD<)Ubs 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 nh0&'hA "-0;#&! 结构设计 {i;6vRr 1) 点击 ,打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 u*2JUI*
W_}/ O'l{ C{&)(#*L 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布,默认为振幅视图. 点击 ,将默认的振幅视图转换为相位视图,点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 ~-<:+9m 75AslL?t P7r4ePtLk{ 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 eXG57<t ON U|?,N0%Z1 目标(Target)标签,可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 Rsn^eR6^ "@)lH 光学设置(Optical Setup)标签,在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate),并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium),同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长(Wavelength)。 P^zy; Qs7 On%,l /buWAX1 光学界面参数(Interface Parameters)标签,在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None),以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面,并选择像素化的高度轮廓(最临近点插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 |_nC6; wv^b_DR zt?H~0$LB 4) 完成结构设计,在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 G=cNzr9 GA@ Ue9 "teyi"U+ !g2a|g 导出加工数据 2GUupnQkD Abf1"#YImy 1) 在LPD中双击生成的元件,可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component,简称DIC)的形式保存的,而高度轮廓以取样光学界面(Sampled interface)的形式保存,点击编辑(Edit) j+Zt.KXjT 9wMEvX70 (I~\,[ 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口,在结构(Structure)标签上,选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值,并进行3D预览 ^@"c`
qpTm 0x71%=4H^x 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中,点击鼠标右键,选择精度(Accuracy),将界面取样精度设置为5,提高取样光学界面的显示精度 ]1}h8/ @d)LRw.I "kr,x3
= -l JYr/MSL VA2<r(y~( 4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签,将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8,通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 ^aptLJF w[sR7T9* Fr;lG Lzz)n%y5 5) 进入光学界面数据导出窗口 \u8,!) 4i l5HWZs^ 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 _[JkJwPTx QkE,T0,/?h 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 n ,1tD 6|oWaA\gI 在GDSII/CIF标签上选择默认设置,并点击Export导出加工数据 :t5uDKZ_j) & |