[求助]PC基材上镀ITO和AR膜，出现ITO和AR膜裂 [复制链接]

PC基底硬化后进行冷镀ITO和AR膜，905nm增透，后工序100℃烘烤2h后ITO和AR（SiO2和TiO2）膜均出现了开裂。 jLVG=rO
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请教下各位大佬，如何进行工艺改善？

路过的大佬请指导一下，谢谢

你设备有卤素灯加热吗？PC镀膜最好用卤素灯加热

膜裂原因有很多。 *,4rYb7I w  
有些是温度的影响，有些是吸水的影响。 \ saV8U7B  
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PC上镀膜最好镀一个打底层，如SIO2或者AL2O3打底，对膜裂会有很大的改善。 B=TUZ)  
另外如果可以的话用离子源辅助镀膜，也会对吸水造成的膜裂会有改善。 KU,SAcfR7  
但是离子源会造成温度升高，所以要注意条件。 U L $!  
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实验要多做，各种条件都做一下。 |${4sUR  
具体情况具体分析，有时候设备不好也会造成问题的。 GIM/T4!)  
并不是所有问题都可以用工艺解决的。

ouyuu:膜裂原因有很多。 ]@#9B>v=  
有些是温度的影响，有些是吸水的影响。
PC上镀膜最好镀一个打底层，如SIO2或者AL2O3打底，对膜裂会有很大的改善。 cW:y^(Xii  
另外如果可以的话用离子源辅助镀膜，也会对吸水造成的膜裂会有改善。 \ASt&'E  
....... (2021-01-16 17:25)  e'K~WNT  

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多谢专家的指导，我们再验证一下！ /TpTR-\I0  
另外请问专家有没有硬化液推荐的，PC硬化后再镀膜的方案我们也想验证一下。 }3{eVct#|  
谢谢！

PC镀膜的要注意以下几点： XRV]u|w=g  
1. 打底层最好用TiO2，厚度要＞10nm，不要用SiO2和Al2O3打底，效果不好，百格易NG； 2`4m"DtA  
2. 机器不要加热，离子源的能量要设计成一个渐变的过程，一般我的经验是：前2层的离子源能量是后面层的80%； zV&l^.  
3. 如果机器有2次电子捕捉器一定要装上，并且每炉清洁； l{[@Ahb}?  
4. 整个镀膜后的温度控制在70~80℃。

zhongjiagang:PC镀膜的要注意以下几点： :{%[6lE^G  
1. 打底层最好用TiO2，厚度要＞10nm，不要用SiO2和Al2O3打底，效果不好，百格易NG； es)^^kGj6f  
2. 机器不要加热，离子源的能量要设计成一个渐变的过程，一般我的经验是：前2层的离子源能量是后面层的80%； &aRL}#U  
3. 如果机器有2次电子捕捉器一定要装上，并且每炉清洁； Xz^nm\  
4 .. (2021-02-08 09:19)  .!o]oM U/  

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经典回复 iHPsRq!  
ray3gM%JLj  
补充一个，就是材料本身，我验证了很多PC材料，和材料也是有关系的！

ITO 膜  能用电子枪镀膜吗？  看资料是 磁控溅射镀膜