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摘要 )!G 10 D)S_ p& 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 _,e4?grP# gt~u/Z%
hew"p( ` 7 ,uD7R_ 该用例展示了… '[_.mx|cd` 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: E4.A$/s8[ 倾斜光栅介质 4&:|h 1 体光栅介质 k!WeE#"( 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 BXz g33 J?4dafkw Of9 gS-m P^lzbWj^ 光栅工具箱初始化 muFWFq&yP .>-D{
]ZI@?H?
O 初始化 EW`WFBjj 开始-> j*GS')Cm 光栅-> wCj)@3F 通用光栅光路图 cqm:[0Xf5> 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 8&qtF.i-6 光栅结构设置 Z,~@_;F 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 REsw=P!b 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 _?I*::
I 堆栈可以固定到基底的一边或两边 Wu8zK=Ve( z XU r34jF 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 U5?QneK hx:^xW@r4P 堆栈编辑器 ;!3: 3; =xSf-\F Wk!<P"
nHd 堆栈编辑器 V<ilv< #hXvGon$? 53bVhPGv 涂层倾斜光栅介质 <HpUP!q8v {/48n83n 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 MvaX>n!o 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 m6gMVon 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ?papk4w 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) OF-g7s6VH E!L_"GW
E7/i_Xkk :1]J{,VG 涂层倾斜光栅介质 _U^G*EqL* rcH{"\F_/ $Ny: At n +2>jY 涂层倾斜光栅介质 ?_T[]I' 堆栈周期允许控制整个配置的周期 m )r, 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 QDKY7"H 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 s={IKU&m[ Dg}EI^ d f*p=j(sF zp``e;gY 涂层倾斜光栅介质参数 mDuS-2G=D Wq}W )E
2 ksbDl} 7[0CVWs, 涂层倾斜光栅介质参数 ~|LAe-e" W?[
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JE C' J?hs\nA 高级选项&信息 p
)WRsJ8 在传输菜单中,多个高级选项可用 ;sx4w!Y, 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 o/=61K8D 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 nAX/u[ 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Q6N?cQtOT 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 ,8!'jE[d 9j5-/
O&VA79\UO !lM.1gTTC 高级选项&信息 "}oo`+]Cq 高级选项标签提供了结构分解的信息 @,LU!#y( 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9eR";Wm]) 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 >Qg-dJt[ 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 )a%E $` sG^{
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HLL=.: P bwJluJ,E 高级选项&信息 {j4&'=C: |A+,M"F?
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o"A d\8j!F^= 高级选项&信息 %CUwD _!w69>Nj V`1x![\ u}rJqZ 体光栅介质 ;3%Y@FS@ NW&2ca 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 u('`.dwkc 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 _3#_6>=M 同时,两个平面界面作为介质的边界 <vb7X [*5hx_4%B QB;TQZ [<d_#(]h' 体光栅介质参数 H;ujB \+ 0w vAtK|Q 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 +I}!)$/ 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 VA %lJ!$ 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ^/xb-tuV 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ,jl4W+s Vo|[Z)MO` APCE}%1U U r8JG&, 体光栅介质参数 S,a:H*Hf Yjl:i*u/ $4^h>x ,D&-.`'E 高级选项&信息 Ht@5@(W]I -"XHN=H R 0G!5>1i fwa*|y; 高级选项&信息 czB),vooz -KZ9TV # R
j(M.7Z7^ }Nma %6PfV 在探测器位置处的备注 OM`Ws5W}f 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 NceK>::56 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 E
5mYFVK 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 A7T(p7pP 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) mcs!A/]< 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 U8</aQLGF 3 FMYs&0r4
=Ew77 kovJ9 文件信息 zy|h1.gd 8~O0P= \VypkbE+ }C$D-fH8sW O:8Ne*L`D QQ:2987619807 0W~1v
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