[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 \.9-:\'(  
HMS9_#[kE  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 N#6&t8;kTC  
PD:" SfV,G  
_E:]qv  
?#rDoYt/Sx  
该用例展示了… ?%iAkV  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： xdXt  
倾斜光栅介质 ka[]pY  
体光栅介质 H^B/ '#mO  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ,N<xyx.  
Pp@P]  
zK}$W73W^  
`Q,moz  
光栅工具箱初始化 g.s~Ph-G  
06]J]  
Zc{
at}{  
 初始化 ^$6EO)<  
开始-> zo7Hm]W`  
光栅-> U5Q `r7  
通用光栅光路图 n3g3(}Q0  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 c9=
;:E  
光栅结构设置 IyL2{5  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 [L{q  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 UCa(3p^V_  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 R3jhq3F\Y  
U9SByqa1  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ]Yp;8#:1  
V'mQ{[{R  
堆栈编辑器 t1 OnA#]/_  
3*/y<Z'H  
$eCxpb..  
u1~H1 ]Ii  
堆栈编辑器 <omSK- T
-  
f*0[[J0]  
(caxl^=  
涂层倾斜光栅介质 dArg'Dc4  
T5=3 jPQ  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ~N;kF.q&>&  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 [as\>@o  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 'hf#Q9W5  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） \@N8[  
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VWj]X7v  
涂层倾斜光栅介质 i ?%;s5<
 
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\3"4;fM!i  
K pDKIi  
涂层倾斜光栅介质 z|Q)^  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 9G[!"eZ}  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 -v/1R1$e1  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 D. fPHq  
J2f}{!b+I  
pV9$Vg?-H  
[d`J2^z}  
涂层倾斜光栅介质参数 `WboM\u  
jL8.*pfv  
]]Sz|6P  

_K<H*R  
涂层倾斜光栅介质参数 ^":UkPFCx:  

4QARrG%  
|C301ENZ  
fa//~$#"{L  
高级选项&信息 i+ ]3J/J  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 7?9QlUO  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 -|bnvPmE  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 tBd-?+~7  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ><V<}&:y$(  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 l+HmG< P  
E#[_"^n  
2Nrb}LH  
P(a!I{A(  
高级选项&信息 h6Ovl  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 0/5 a3-3{  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 2w_[c.  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 B5{ wSr  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 9AF%Y:y  
BCMQ^hP}t  
T1%_sq  
F$.h+v   
高级选项&信息 />Kd w  
{k*rD!tT  
L{1MyR7`I+  
@`xR1pXQ  
高级选项&信息 T&+*dyNxMK  
o9\J vJk  
0`UI^
Y~Q  
QiC}hj$  
体光栅介质 ##!idcC  
o5LyBUJ  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 $$F iCMI  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 cZC%W!pT  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ]Y111<Ja  
xs,,)jF(u  
g]&7c:/  

f$1&)1W[  
体光栅介质参数 ^x2zMB\t  
ZDny=&>#  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 A\ARjSdb  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 U/}YpLgdD  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 c(W
s3  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ~H`m"4zQ  
+*uaB  
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[V<  
^E~F,]dV=  
体光栅介质参数 |ht:_l 8  
AS4mJ UU9  
Xna58KF/  
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高级选项&信息 @n,V2`"  
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高级选项&信息 $Mg[e*ct  
hZ_@U?^  
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 6a}  
在探测器位置处的备注 (vP<}  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ?_ 476A  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 @cB7tY*Ski  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 n f.H0i;  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） sGFvSW  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 S^s|/!>  
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文件信息 +>3jMs~&  
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QQ：2987619807 ^XX_ qC'1