[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 k54\H.  
N5,LHO  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 E}v8Q~A(  
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o-7{\%+M  
cz{`'VN}`  
该用例展示了… `:*2TLxIk  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 2[HPU M2>  
倾斜光栅介质 )GAlj;9A$  
体光栅介质 ;Q^>F6+_m  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 {it}\[3  
rq4g~e!S  

AvB=/p@]  
u[Kz^ga<  
光栅工具箱初始化 VsAJ2g9L  
[DH4
iG5  
;?tH8jf>  
 初始化 {59>U~  
开始-> \Ta5c31S+  
光栅-> P.C?/7$7Z+  
通用光栅光路图 m*A b<$y  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 4\u`MR  
光栅结构设置 _uLpU4# ?  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 jwa6`u  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 #dL,d6a  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 t(6]j#5   
( _6j@?u  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 6PYt>r&TO  
j1%8r*Jj  
堆栈编辑器 nJ]7vj,rB  
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&:&l+  
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堆栈编辑器 gBv!E9~l  
N%}J:w  
F |BY]{  
涂层倾斜光栅介质 +]A,fmI.  
$f0u  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 {)lZfj}l  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ; F'IS/ttX  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 KR?aL:RYb  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） <O0tg[ub  
el*|@#k}  
-0kMh.JYR  
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涂层倾斜光栅介质 Dg.~"h5mT  
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r=0PW_r:  
wGNEb  
涂层倾斜光栅介质 RU7+$Z0K  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 gfj_]  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 *6` ^8Y\  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 9dNkKMc@  
jq%<Z,rh  
<q!HY~"V  
7HH@7vpJ^  
涂层倾斜光栅介质参数 @i!+Z  
7>y]uT@ar  
4"kc(J`c  
)VkVZf | S  
涂层倾斜光栅介质参数 ocWl]h].  
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eLPtdP5k  
高级选项&信息 O=7S=Rm4&  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 m`-:j"]b$  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 |.$B,cEd  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 \#]%S/_ A  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 l+F29_o#  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 -%M
Xt  
!9PAfi?  
x)dLY.'|  
8QJr!#u  
高级选项&信息 _lkVT']  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 .:}<4;Qz94  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 HJN GO[*g  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 /kG?I_z  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 D
b|JR  
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Jd8ul:&e  
=@M9S  
PWl;pBo  
高级选项&信息 }||p#R@?  
BedL `[,  
2WH(c$6PWf  
g]L8Jli  
高级选项&信息 *uRDB9#9,  
1gK^x^l*f  
5*Zz_ .  
"r@#3T$  
体光栅介质 fDns r"T  
~3j+hN8<  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
6jc5B#  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 elGBX h  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 6O{QmB0KK  
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.jqil0#)Y"  
W)r|9G8T  
体光栅介质参数 seK;TQ3/7  
c!6v-2ykv  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 jm<^WQ%Cc  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ,)xtl`fc  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 PU.j(0  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） RP~67L  
3lWGa7<4Z  
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\Zq  
<Nrtkf4-O  
体光栅介质参数 kYkA^Aq  
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F~eYPaEKy!  
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高级选项&信息 F%y#)53g  
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@*xP A  
高级选项&信息 &?QKWxN  
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E.m2- P;4  
THOYx :Nr;  
在探测器位置处的备注 OjffN'a+N  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 "})OLa  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 WNjG/U  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 \PN*gDmX  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ckFPx l.  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 |qQ6>IZ  
fI;nVRfp  
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文件信息 lQ^"-zO4  
Jb> X$|N'%  
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QQ：2987619807 )g8Kicox5