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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 )!G 10  
    D)S_ p&  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 _,e4?grP#  
    gt~u/Z%  
    hew"p(`  
    7,uD7R_  
    该用例展示了… '[_.mx|cd`  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: E4.A$/s8[  
    倾斜光栅介质 4 &:|h  1  
    体光栅介质 k!WeE#"(  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 BXz g33  
    J?4dafkw  
    Of9 gS-m  
    P^ lzbWj^  
    光栅工具箱初始化 muFWFq&yP  
    &#.>-D{  
    ]ZI@?H? O  
     初始化 EW `WFBjj  
    开始-> j*GS')Cm  
    光栅-> wCj)@3F  
    通用光栅光路图 cqm:[0Xf5>  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 8&qtF.i-6  
    光栅结构设置 Z,~@_;F  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 REsw=P!b  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 _?I*:: I  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 Wu8zK=Ve(  
    z XUr34jF  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 U5?QneK  
    hx:^xW@r4P  
    堆栈编辑器   
    ;!3: 3;  
    =xSf-\F  
    Wk!<P" nHd  
    堆栈编辑器 V <ilv<  
    #hXvGon$?  
    53bVhPGv  
    涂层倾斜光栅介质 <HpUP!q8v  
    {/48n83n  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 MvaX>n !o  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 m6gMVon  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ?papk4w  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) OF-g7s6VH  
    E!L_"GW  
    E7/i_Xkk  
    :1]J{,VG  
    涂层倾斜光栅介质 _U^G*EqL*  
    rcH{"\F_/  
    $Ny:At  
    n+2>jY  
    涂层倾斜光栅介质 ?_T[]I'  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 m)r,  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Q DKY7"H  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 s={IKU&m[  
    Dg}EI^ d  
    f*p=j(sF  
    zp``e;gY  
    涂层倾斜光栅介质参数 mDuS-2G=D  
    Wq}W )E  
    2 ksbDl}  
    7[0CVWs,  
    涂层倾斜光栅介质参数 ~|LAe-e"  
    W?[ C au-  
    :" JEC'  
    J?hs\nA  
    高级选项&信息 p )WRsJ8  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 ;sx4w!Y,  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 o/=61K8D  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 nAX/u[  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Q6N?cQtOT  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 ,8!'jE[d  
    9j5-/   
    O&VA79\UO  
    !lM.1gTTC  
    高级选项&信息 "}oo`+]Cq  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 @,LU!#y(  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9eR";Wm])  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 >Qg-dJt[  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 )a%E $`   
    sG^{ cn  
    HLL=.: P  
    bwJluJ, E  
    高级选项&信息 {j4&'=C:  
    |A+,M"F?  
    7c6- o"A  
    d\8j!F^=  
    高级选项&信息 %CUwD  
    _!w69>Nj  
    V`1x![\  
    u}rJqZ  
    体光栅介质 ;3%Y@FS@  
    NW&2ca  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 u('`.dwkc  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 _3#_6>=M  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 <vb7X  
    [*5hx_4%B  
    QB ;TQZ  
    [<d_#(]h'  
    体光栅介质参数 H;ujB \+  
    0w vAtK|Q  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 +I}!)$/  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 VA %lJ!$  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ^/xb-tuV  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ,jl4W+s  
    Vo|[Z)MO`  
    APCE }%1U  
    U r8JG&,  
    体光栅介质参数 S,a:H*Hf  
    Yjl:i*u/  
    $4^h>x  
    ,D&-.`'E  
    高级选项&信息 Ht@5@(W]I  
    -"XHN=H  
    R0G!5>1i  
    fw a*|y;  
    高级选项&信息 czB),vooz  
    -KZ9TV # R  
    j(M.7Z7^  
    }Nma %6PfV  
    在探测器位置处的备注 OM`Ws5W}f  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 NceK>:: 56  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 E 5mYFVK  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 A7T(p7pP  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) mcs!A/]<  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 U8</aQLGF  
    3FMYs&0r4  
    =Ew77  
    kovJ9  
    文件信息 zy|h1 .gd  
    8~O0P=  
    \VypkbE+  
    }C$D-fH8sW  
    O:8Ne*L`D  
    QQ:2987619807 0W~1v  
     
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