[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 OyG_thX  
UG^?a  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 vo}_%5v8  
f)ucC$1=  
l9ch  
I/e2,  
该用例展示了… x1&b@u  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： JQ{zWJlt  
倾斜光栅介质 anKb
 
体光栅介质 edImrm1f  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 m_PrasZ>  
Ilt L@]e  
6S+K*/w  
;?HZ,"^I  
光栅工具箱初始化 3ZJagJ\O  
V.P5v{  
v|,[5IY  
 初始化 7}iewtdy,  
开始-> Y/eN)  
光栅-> rz%[o,s  
通用光栅光路图 ,P; a/{U  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 sgb+@&}9n  
光栅结构设置 ;&t1FH#=  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 '@}?
NV0  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 e$xv[9  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 r{6B+3J  
O( 5L2G  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ]cGz~TN~  
q3pN/f;kr,  
堆栈编辑器 }5Tyz
i(  
l)!woOt  
z
N8V~M;  
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堆栈编辑器 luxKgcU  
}9+1<mT9a/  
 j5VRv$P  
涂层倾斜光栅介质 ,h(f\h(9  
HTtGpTsF  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 (=3&8$  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 "<n"A7e  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 f29HQhXqS  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） YV_I-l0  
.V)2T
z  
 [k&s!Qp  
5z(>4d!  
涂层倾斜光栅介质 1n5e^'z  
h C`p<jp/  
(+Nmio  
;x0KaFk  
涂层倾斜光栅介质 aXid;v,  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 4[V6so0  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 '/qe#S  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 g]#zWTw(   
*~oDP@[S  
H1b%:KRVK  
[\%t<aa  
涂层倾斜光栅介质参数 JjO/u>A3;7  
!CMVZf;u  
Ud(dWj-/  
1eR{~ ,  
涂层倾斜光栅介质参数 +so o2cb  
t T/*ZzMq#  
&7kSLat+9{  
VA r?teY  
高级选项&信息 2Lu{@*  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 HE<%d  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ="TOa"Zk  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 xfV2/A#h  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Ywb)h^{!  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 *CD=cmdD*  
f'yd{ihFp  
D '_#?%3^  
= Ow&UI  
高级选项&信息 *oJ>4S  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 JI; i1@|b  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 c94PWPU  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 /n}V7  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 fq!6#Usf;i  
eOmxA<h  
M@z/gy^  
gR6T]v  
高级选项&信息 o;-!?uJ  
{1&,6kJF&9  
=,;3z/k%  
9-<V%eNX  
高级选项&信息 qhGhUyNX  
Xwq2;Bq  
Oes+na
'^  
x,*t/nzR  
体光栅介质 3~09)0"!d  
'GO..m"G  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ?\$/#zak  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 (I 0t*Se  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 F(n))`(  
cmLu T/oV  
8@#Y <{  
lMf5F8  
体光栅介质参数 0#nXxkw  
,>%r|YSJ)  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 q&S.C9W  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 v2z
/|sG  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 -~aEqj#?  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） <NsT[r~C  
f6C+2L+Hr  
.Bn2;
nO  
bg. KkJMrR  
体光栅介质参数 '0]_8Sy&  
Hx0,kOh)  
F!t13%yeu?  
\ku{-^7  
高级选项&信息 Q9V4-MC9  
6$.Xj\zl  
WU@,1.F:  
v0J1%{/xs  
高级选项&信息 ';V+~pi  
6Ky"4\e  
daNIP1Qn  
2DQC)Pe+z  
在探测器位置处的备注 iKKWn*u  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 _n g
MC]-T  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的  ]bSt[  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 A84HaRlkF5  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） _kLoDju%  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ;VBfzFH  
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文件信息 Agf!6kh  
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QQ：2987619807 a{,t@G