[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 RwptFO  
2^$Ha|  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 JQ)w/@Vu=  
/KH,11)yc  
'&hk?  
tjTnFP/=  
该用例展示了… (7_}UT@w-  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： NvqIYW  
倾斜光栅介质 }grel5lq  
体光栅介质 0B?t:XU,  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ;HbAk`\1A  
;XXB^,  

U}2b{  
{ vOr'j@  
光栅工具箱初始化 Tweku}D7  
ruQ1Cph  
B6#^a  
 初始化 !O}^Y  
开始-> =9AX\2w*H;  
光栅-> aBonq]W  
通用光栅光路图 )D"E]  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 !m<v@SmL\  
光栅结构设置 ~ '/Yp8(  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Oq3]ZUVa  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Q=~*oYR  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 14 Toi  
>q7/zl  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 qzt.k^'-^  
84eqT[I'  
堆栈编辑器 [DzZ:8  
u?B9zt%$-m  
Uo
p`)  
>`(]&o6<$  
堆栈编辑器 z[~ph/
^  
Q^k\q  
%!r@l7<  
涂层倾斜光栅介质 9`X}G`  
ev"f@y9Do  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 LX2Re ]&  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 &;wNJ)
Uc  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 Cl>{vSN  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ]w;!x7bU(  
P")1_!  
o/~Rf1  
'BOMFp7c  
涂层倾斜光栅介质 1HS43!  
8%EauwAx  
^ 9`O ^  
wXKg^%t\  
涂层倾斜光栅介质 &=S<StH  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 zz_(*0,Qcr  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 b[s=FH]#N  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ;5PBZ<w  
0 F-db  
A$o7<Hx  
fDD^?/^  
涂层倾斜光栅介质参数 p38RgEf  
O@-|_N*;K  
k|D =Q  
0n-S%e5  
涂层倾斜光栅介质参数 RHv|ijYy  
'}BYMEd/m%  
rMEM$1vPU  
T7qE 2  
高级选项&信息 NPjNkpWm&=  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 %&}gt+L(M  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 LzGS
N  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 P?/Mrz   
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 eB2a1<S&@  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ~;/}D0k$x  
u#Y#,:{  
o7sIpE9  
g?OC-zw  
高级选项&信息 &Fy})/F3v  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 .h r$<]  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ?w5>Z/V  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 @tzL4hy%^j  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 /:-Y7M*  
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V<ExR@|}.%  
AXT(D@sI=  
高级选项&信息 /0z#0gNp  
M T]2n{e  
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高级选项&信息 aaRc?b'/  
88g|(k/  
b`& :`  
zTS P8Q7  
体光栅介质 |{ TVW  
CKy/gTN  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 \w@V7~vA  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 JxmFUheLt  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 (,^jgv|I  
UiQF4Uc"  
7 V3r!y  
QA=mD^A  
体光栅介质参数 &e)V!o@wJV  
Z# o;H$  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Bv{DZ?{s  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ioJ|-@!#o  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 aW*8t'm;m'  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ;Z!x\{-L  
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体光栅介质参数 \V%l.P4>e  
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高级选项&信息 JIU8~D  
D* QZR;D#.  
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高级选项&信息 g]Z@_  
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在探测器位置处的备注 K;lxPM]  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 r^T+I3  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 6<Txkk  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 H:]'r5sw  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） <%"o-xZq7C  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 2bAH)=  
JmF:8Q3H  
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文件信息 E~ +g6YlT  
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X}ft7;Jpy  
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QQ：2987619807 Qb#iT}!p%