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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 U w`LWG3T  
    |2 wff?  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 <p0$Q!^dK=  
    |H_)u  
    (\/HGxv  
    e#HP+b$  
    该用例展示了… 8rp-Xi W  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: pmW=l/6+V3  
    倾斜光栅介质 Nyqm0C6m^  
    体光栅介质 EJtU(HmW  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 A#  M  
    1v\-jM"  
    .DvAX(2v  
    V!U[N.&$  
    光栅工具箱初始化 >;3c; nf  
    Z|?XQ-R5  
    \+AH>I;vO  
     初始化 l*:p==  
    开始-> P/PS(`  
    光栅-> \!V6` @0KC  
    通用光栅光路图 ;W*$<~_  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 -5ec8m8  
    光栅结构设置 "&+0jfLY+  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 -<O:isB   
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 6Rf5  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 ^ KjqS\<  
    G<dXJ ]\\  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 86I*  
    YWZF*,4  
    堆栈编辑器 Go67VqJr  
    O46/[{p+8  
    kv4J@  
    B&$89]gs|  
    堆栈编辑器 8Z!ea3kAT  
    _/=ZkI5  
    2Ls<OO  
    涂层倾斜光栅介质 PYf`a`dH  
    )yK!qu  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 -?'CUm*Od  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 g:clSN,  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 yN o8R[M  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 7@"X~C  
    J@TM>R  
    N.`]D)57  
    By_Ui6:D  
    涂层倾斜光栅介质 [Bh]\I'  
    Z7/dRc   
    YBO53S]=  
    !jW32$YTR  
    涂层倾斜光栅介质 bcs!4  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 ?f`-&c;  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 aS7zG2R4H  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 >D;hT*3  
    YC_^jRB8n  
    ^hgAgP{{  
    7a<qP=J  
    涂层倾斜光栅介质参数 IXN4?=)I  
    1W g8jr's  
    Chup %F  
    D+3Y.r 9  
    涂层倾斜光栅介质参数 z>:7}=H0  
    K5lp -F  
    eQx"nl3U%  
    4Dia#1$:J  
    高级选项&信息 q': wSu u  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 kI'A` /B l  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 J4g;~#_19  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 jQ)>XOok  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 bZXNo  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 dE]"^O#Mc  
    "/?qT;<$)  
    .[fz x`  
    QO.gt*"  
    高级选项&信息 ? ^CGJ1  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 C(|5,P#5  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 }6> J   
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 m4wTg 8LJ  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 Ol9 fwd  
    )''wu\7A)'  
    '>Y 2lqa  
    { NJ>[mKg  
    高级选项&信息 Z5L1^  
    lKUm_; m  
    h.;CL#s  
    ?myXG92  
    高级选项&信息 7y Te]O  
    O97bgj]  
    5ba[6\Af  
    <WJ0St  
    体光栅介质 X); Zm7  
    ^&H=dYcV>/  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 i q:Q$z&  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 Sp,Q,Q4  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 E$Pjp oQTf  
    vCSB8R  
    -0 da"AB  
    oQnk+>}%  
    体光栅介质参数 Zw][c7%  
    D(6x'</>?  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 t=rAc yNM  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 dm=F:\C  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 V?59 .TJ  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) -Q PWi2:k  
    (mIJI,[xn  
    .Pes{uHg  
    qd~98FS  
    体光栅介质参数 aiZo{j<6  
    NJf(,Mr*|  
    -5v.1y=!L  
    uQ]]]Z(H'  
    高级选项&信息 J%:/<uCmZ  
    vj&5`  
    BDkBYhz;7  
    L1kM~M  
    高级选项&信息 QlYs7zZ  
    p_qm}zp  
    iEVA[xy=D  
    pJIE@Q|hi  
    在探测器位置处的备注 Vt=(2d5:p  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 +^DRto=  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 )_ ^WpyzF1  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 ~]W[ {3 ;  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) Dbdzb m7  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 (:-Jl"&R@  
    aXbNDj ][  
    :~3{oZGX&  
    H<Kkj  
    文件信息 EKeh>3;?  
    d&T6p&V$  
    [AX"ne# M*  
    gJ5wAK+?  
    vdT+,x`  
    QQ:2987619807 2PR7M.V 7  
     
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