[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 m;o \.s  
?bbu^;2*f  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Er} xB~<t  
&,Dh*)k  
8YFfnk  
UMUr"-l =  
该用例展示了… ewB&PR  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： *{:FPmDU  
倾斜光栅介质 0+IJ, ;Wx  
体光栅介质 ZQND^a:  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &s_O6cqgh  
PIP2(-{ai  
)ARfI)<1b  
$Hqm 09w  
光栅工具箱初始化 [0N==Ym1  
EL80f>K  
lwPK^)|}  
 初始化 C)`ZI8  
开始-> \Oh9)X:I  
光栅-> T#?KY  
通用光栅光路图 &!JX  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 E,E:WuB  
光栅结构设置 N8:?Z#z  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 mzTF2K  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ftsr-3!Vm  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ":?>6'*1  
ohusL9D  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 q5:-?|jXJ  
A- IpE  
堆栈编辑器 YTxUKE:  
-wlob`3  
ftF?T.dx  
a9Lf_/w{&  
堆栈编辑器 ^#e:q  
K)$.0S9d  
& PrV+Lv  
涂层倾斜光栅介质  f]q3E[?/  
Q?n} ~(%&  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 S(mJ;C  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 bG67TWY)  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 L+bO X  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ULMG"."IH  
\ntmD?kA  
O:Bfbna  
zTrAk5E  
涂层倾斜光栅介质 `zRgP#  
K+Al8L?K_  
"cRc~4%K  
B`<(qPD  
涂层倾斜光栅介质 =PAvPj&}e  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期  IPa08/  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 neJNMdv@T  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ;r>?V2,tm  
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涂层倾斜光栅介质参数 nCh9IF[BL/  
I
B /.i(  
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tc\LK_@$/F  
涂层倾斜光栅介质参数 %~J90a  
FyJI@PZdI-  
u
DK`;o'F  
j[m\;3Sp  
高级选项&信息 W"AWhi{h  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 6Z ~>d;&9  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 !V$nU8p|  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 jii2gtu'U  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ^2|gQ'7<  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 a-x8LfcbF  
6(B0gBCId  
uf\Hh -+p  
QE)I7(  
高级选项&信息 @5\OM#WT~&  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Q{b ZD*  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 HI#}M|4n  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 "w=p@/C  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 NS-u,5Jt  
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71 hv~Nk/x  
高级选项&信息 1sYwFr5  
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高级选项&信息 )9##m
Ut'}  
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体光栅介质 fC.-* r  
Sq%BfP)a(  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 2$yKa5SaX  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Sq/M %z5'  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 u3Z*hs)Z%  
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.sAcnf"  
体光栅介质参数 PkF B.  
63UAN0K%  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 >wej1#\3  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ETV|;>
v  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 50rCW)[#  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） A;1<P5lo  
(NOAHV0
H  
Of7j~kdh83  
=+T{!+|6P  
体光栅介质参数 YUfuS3sX}  
=R:3J"ly0  
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高级选项&信息 a^iefwsNc  
xVuGeanCv  
jeN_ sm81b  
%((F}9_6  
高级选项&信息 (:,N?bg  
L q'*B9  
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在探测器位置处的备注 G2ZF`WQ  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 &?9p\oY[  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 9x?" %b  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 )6PZ.s/F6p  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） w?Nvm?_]  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 pTOS}A[dh  
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文件信息 2fO ~%!.G  
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QQ：2987619807 `R!0uRu