[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 `E@TPdu  
zO@7V>2  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 UKfC!YR2J8  
Mg7nv\6  
erhxZ|."P  
-#TF&-  
该用例展示了… Cob<N'.  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： aPELAU-  
倾斜光栅介质 $|0?$U7!  
体光栅介质  Sj,>O:p  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 be@\5  
tTX@Bb8  
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D%WgE&wtM  
光栅工具箱初始化 aDDs"DXx  
gwm}19JC  
D&)w =qIu  
 初始化 >Rnj6A|Q  
开始-> D'nO  
光栅-> U]8 @  
通用光栅光路图 ~|FKl%  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 bwr}Ge  
光栅结构设置 r[u@[  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度
JGLjx"Y  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 -pF3q2zb  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 Z`W@Od$f  

P7X':  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 y4^w8'%MC  
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堆栈编辑器  q#=}T~4j  
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o3s ME2  
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堆栈编辑器 JQ[~N-  
+WxZB  
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涂层倾斜光栅介质 65@,FDg*i  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 iJ7?6)\  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 &*w)/W  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 NHL -ll-R  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） Q\!0V@$  
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涂层倾斜光栅介质 qh40nqS;9  
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涂层倾斜光栅介质 GD]yP
..  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 '`+GC9VG  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 H*h7Y*([  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 A.D@21py  
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O|Z5SSlk  
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涂层倾斜光栅介质参数 l9zkx'xt.-  
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涂层倾斜光栅介质参数 K<_bG<tm_  
"IvFkS=*Q  
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高级选项&信息 $;1TP|  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 E|Q|Nx!6[  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 6dzY9  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 U^x
z>:~  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 3=)!9;uY  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ;(Xig$k  
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.o&Vu,/H  
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高级选项&信息 ;mi+[`E  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 `u *:wJsv  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 LXGlG  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 %]iDhXLr  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 $?e_l  
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Pf4b/w/  
v Mi&0$  
高级选项&信息 8vuA`T!~G  
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高级选项&信息 Rl%?c5U/$  
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BwpSw\\?@  
体光栅介质 6^'BhHP  
Vzs_g]V  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 qoo+=eh!  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 3T|xUY)G4  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Ow@}6&1  
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t.ci!#/d  
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体光栅介质参数 -fB;pS,  
4fq:W`9sN  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 J$/'nL<{^  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 #ox&=MY  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ?q%&"  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） mF@)l]UZ'  
C=sEgtEI  

VsrYU@V  
MKr)6PG,  
体光栅介质参数 &Se!AcvKF  
BKfkB[*F  
G|h@O'  
c=52*&  
高级选项&信息 [`]h23vRW  
4^jIV!V  
lQ]8PR t8  
I\,m6=q  
高级选项&信息 GlPd)m`  
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S7{G  
0|^/e-^  
#3h~Z)+y  
在探测器位置处的备注 \mIm}+!H  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 W|yFjE&dr  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ALOS>Bi&  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 'Wv`^{y <^  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） dP7nR1GS  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 r) SG!;X  

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文件信息 !gKz=-C  
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