[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 /d-7n|#E  
SYTzJK@vZJ  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 .](s\6'  
^zaN?0%S33  
bpeWK&  
S b3@7^  
该用例展示了… c}FZb$q#  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： *,DBRJ_*7  
倾斜光栅介质 $e
BE pN  
体光栅介质 -f:uNF]Ls  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 1e^-_Bo6'o  
?2b9N~  
2]*2b{gF,  
c =i6  
光栅工具箱初始化 = 8%+$vX  
x_5H_! \#  
4%k_c79>  
 初始化 #VEHyz6P  
开始-> }mC-SC)oSi  
光栅-> 8~|PZ,oZ  
通用光栅光路图 P1ab2D  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 4m6E~_:F  
光栅结构设置 p(Q5!3C0q  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 _#+~#U%5n  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 w#,C{6  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 I(Yyg,1Z  
9_GR\\  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 pJ5Sxgv{;  
VscEd
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kd  
堆栈编辑器 ,#r>#fi0  
L[*Xrp;/&  
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PGHl:4`Es!  
堆栈编辑器 
3l 0>  
u1&pJLK0[  
RW|3d<Fj  
涂层倾斜光栅介质 Vj"B#  
d1#;>MiU  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ~V"D|U;i +  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 sD*8:Hl  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 PDo%ob\Ym  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） g%Ap<iT  
Khxl'qj  
MI@id  
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涂层倾斜光栅介质 DEL#MD!  
a<M<) {$u  
=?3D:k7z  
yla&/K;|*  
涂层倾斜光栅介质 8hi|F\$_h  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 -lm\~VZT3  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 (AdQ6eGMb  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 kQ~*iY  
^~2GhveBV  
8|w_PP1oE  
~fE@]~f>  
涂层倾斜光栅介质参数 FMuM:%&J]  
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2  
涂层倾斜光栅介质参数 RUmJ=i'4/  
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jnX9] PkJ  
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}  
高级选项&信息 wz5xJ:Tj  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 m#mM2Guxe  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 aO?(ZL  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 1j<=TWit  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 37Z:WJ?  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 { D1.
  
"EQ-`b=I4  
}.O2xZ;}]'  
";cWK29\f  
高级选项&信息 [Zk|s9  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Q uy5H  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 r"SuE:
D  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 1y l2i|m+  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 lN)U8  
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h,qv  
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it!8+hvq9*  
高级选项&信息 Q_xE:#!;  
&)OX*y  
Hm4:m$=p4  
T@uY6))>F  
高级选项&信息 9. Q;J#;1  
!MNUp(:  
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I3D8xl>P\  
体光栅介质 )R+@vh#Q<$  
MVK='  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 2P~zYdjS  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 agN`) F!  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 c$Js<[1  
h*{{_3,  
0ejx;Mum  
a1B_w#?8  
体光栅介质参数 2GA6@-u\  
-kxNJ G
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 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 $ckX H,l_  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 W`K XO|'p@  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 _`|Hk2O  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） gR"'|c   
&!vJ3:  
.{LFc|Z[  
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体光栅介质参数  qm&}^S  
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&i4*tE3],  
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高级选项&信息 E8u:Fgs  
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_ro^<V$%  
高级选项&信息 ge9j:S{  
[WnX'R R  
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(p'yya{(  
在探测器位置处的备注 2ixg ix  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 z;@;jQ7  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 x'@0]f.  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 nellN}jYsM  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） '+N!3r{G  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 6uW?xB9  
LCx{7bN1ro  
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文件信息 E8zga)  
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QQ：2987619807 Ikql