[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 2R.2D'4)`  
\x+3f  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 I%lE;'x  
+ WDq=S  
.p&Yr%~  
.}`hCt08  
该用例展示了… #T3h}=  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： IL!=mZ>2O  
倾斜光栅介质 ry0%a[[  
体光栅介质 %y<]Yzv.  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 y
cr"Y|  
;*cLG#&'M  
 ux-CpI  
uT_!'l$fr  
光栅工具箱初始化 u8vuwbra!  
)S@jDaU<  
.EP6oKA  
 初始化 " I
+p  
开始-> =f7r69I"  
光栅-> G|u3UhyB  
通用光栅光路图 -1r2K  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 '0t-]NAc  
光栅结构设置 b,^*mx=  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 x?yD=Mq_  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,,<PVTd  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ^TFs;|..  
=o=1"o[  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 7^:4A'  
`a]44es9q  
堆栈编辑器 xU
Wr}j4;  
BavO\{J#|0  
\nvAa_,  
O#kq^C}  
堆栈编辑器 v"Jgw;3  
e}{U7xQm1  
/^7iZ|>:M:  
涂层倾斜光栅介质

=XY
]x  
d/,E2i{I7  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 k(s;,B\  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ;%!m<S|%k  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 k|E]YvnfG  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） G*}F5.>8(  
1s7^uA$}6  

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9.+/~$Ht  
涂层倾斜光栅介质 %{5n1w  
I9y.e++/  
H7g< p"  
eC`pnE  
涂层倾斜光栅介质 M8;lLcgu.  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 F # YPOH  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6f%DpJ:$U  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 x4K`]Fvhl  
T1Ta?b  
KLQ!b,=q  
h{iEZ#  
涂层倾斜光栅介质参数 6`H.%zM  
&jQ?v@|1c  
(?&=T.*^  
n&XGBwgW  
涂层倾斜光栅介质参数 tiaR4PB  
nKh&-E  
NucM+r1P  
P`SnavQBt  
高级选项&信息  u\e\'\  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 :14i?4Fd  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 o|8`>!hF  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 tpf7_YP_!-  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 g:)DNy  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 1(dj[3Mt  
tbDoP Y  
"5|Lz)=  
]Y
yia.B  
高级选项&信息 $p* p  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 \F6LZZ2Lv  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 '\DSTr:N  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 H#d:kilNy  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 d5j_6X  
Ukphd$3J=  
%Kb9tHg  
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f*w>xS  
高级选项&信息 xK%=  
d+L#t  
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Ka_S n  
高级选项&信息 <fO4{k*&  
yubSj*  
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j9?t  
t!;/Z6\Pb  
体光栅介质 Yxd X#3  
f
|7u_
f  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 GUB`|is^  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 5_o$<\I\  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Xh+ia#K  
e(B9liXM  
b!>\2DlyJ  
Hgc=M  
体光栅介质参数 !sSQQo2Sv  
ik,lSTBD  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 }E^S]hdvz  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 alFjc.~}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 i

rBDGT~  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） wdE?SDs  
+SXIZ`  
!$qKb_#nC  
6)gd^{  
体光栅介质参数 v6a]1B
  
GJ(d
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<I*x0BM=  
?:rx1}:F  
高级选项&信息 +{`yeZ9S  
wwd'0P`/  
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ni CE\B~  
高级选项&信息 -0HkTY  
#&!G"x
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在探测器位置处的备注 ekSY~z=/u  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 jk~:\8M(A  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 &x:JD1T}  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 }qPhx6nP  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ZDLMMXx>  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 9L eNe}9v  
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文件信息 /!FWuRe^  
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QQ：2987619807 WV<tyx9Z