[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 %82:?fq  
d7Cs a c  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 UQb|J9HY4  
7D~~<45ct  
;<F^&/a|yQ  
bXM&VW?OP  
该用例展示了… urL@SeV+$  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ( pCU:'"  
倾斜光栅介质 &-vHb  
体光栅介质 [*H h6  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 3"Kap/[h  
Cs vwc%  
>@-BZJg/k  
(K ]wk9a  
光栅工具箱初始化 gla'urb[i|  
ij}{H#0S-  
q03nu3uDI  
 初始化 Hr}\-$  
开始-> 4~vn%O6n  
光栅-> LF:~& m  
通用光栅光路图 [xdVuL
;N  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ZxCXru1  
光栅结构设置 oy=ej+:  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 3]&le[.  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 F}B2nL&  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 zvv/|z2(r  
W yP]]I.
 
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 A(+V{1L'  
[_C([o'\KY  
堆栈编辑器 wjKc!iB  
+.u HY`A  
B+c,3@)x  
sr<\fW  
堆栈编辑器 =6qSo @  
0OtUb:8LX  
)~w bu2;  
涂层倾斜光栅介质 vhU#<59a1  
?uF3Q)rCk  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 {{ 1qkG9$  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Z3X9-_g  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 +}f}!h;  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） #1'p?%K.  
&mba{O  
>GDf* ox[  
~UwqQD1p
 
涂层倾斜光栅介质 T9>,Mx%D[  
2Fbg"de3-  
y XCZs  
HeHo?<>|d  
涂层倾斜光栅介质 WjvgDNk  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 $o ;48uV^  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Q 9<i2H  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 8;3I:z&muQ  
@A-E  

)qDV3   
OHH\sA  
涂层倾斜光栅介质参数 4y,pzQ8a  
T4;gF
6(0]  
Ai`0Ud,M@  
)s ?Hkn  
涂层倾斜光栅介质参数 L~Xzo  
xr^fP~V|)0  
hz-^9U  
{@t6[g++  
高级选项&信息 A%EGu4  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 =o[H2o y  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 XU`vs`/  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 J c:j7}OOV  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 uLt31G()  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 'pT8S  
80LN(0?x  
E/C3t2@-  
6 _#Cv
Q  
高级选项&信息 [-nPHmZV[  
 高级选项标签提供了结构分解的信息
Mw6 Mt  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 KP gzB^>  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ]QF*\2b-I2  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 6+SaO !lR  
3nx*M=  
a.XMeB  
8~iggwZ~h"  
高级选项&信息 rpL
]5e!  
\Bl`;uXb  
@:P:`Zk  
yY80E[v  
高级选项&信息 ~@D{&7@  
=^w:G=ymS  
Y>CZ  
2))pB/  
体光栅介质 ^B(:Hv}G(:  
|1m2h]];Q  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 U)_x(B3d/  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 }t1J`+x%  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 o^x,JT  
rKr\Qy+q  
A3Vj3em  
H `_{n<  
体光栅介质参数 _Hv@bIL'  
{fn1sGA  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 C=DC g  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 bO }9/Ay  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 dMa6hI{k  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件）
9@YhAj  
eY(JU5{  
<1kK@m -E  
F>aaUj  
体光栅介质参数 G@,XUP  
i5czm?x  
(q=),3/<pU  
+wm%`N;v<  
高级选项&信息 Gi,4PD-ro  
H) q_9<;  
8/W2;>?wKc  
$6/CTQ  
高级选项&信息 cTdX'5  
o AM)<#U>  
o3oT
u  
LbnW(wr6:(  
在探测器位置处的备注 /Hyi/D{W  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 F7JF1HfCP  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 A7zL\
U4
 
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 1-8G2e  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） =L,7~9  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ]=(PtzVa  
Jmun^Q/h  
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文件信息 q'`LwAU}  
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QQ：2987619807 X=%e'P*X