[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 Ep<YCSQy$i  
J,9%%S8/C  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ;c$@@l  
wz h.$?~  
72u db^  
p+vh[+yp  
该用例展示了… U[bgu#P;  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 8sH50jeP  
倾斜光栅介质 t|<FA#  
体光栅介质 2Sjt=LOc="  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 F'rt>YvF
 
&/iFnYVhy  
22|"K**3J|  
? -CV %l  
光栅工具箱初始化 *<UGgnmLE  
.N!{ U  
9N^+IZ@l  
 初始化 BD4`eiu"  
开始-> (U_wp's  
光栅-> gd_^  
通用光栅光路图 4j{oaey  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 `2,a(Sk#  
光栅结构设置 Ox~ 9_d  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 \1]rlzXGUT  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 }s(C^0x  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 rpSr^slr  
"9%qbMB  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 %EWq2'/5  
qfa}3k8et  
堆栈编辑器 Hv8H.^D>  
'u1=XX h  
mTJ"l(,3  

g#|oif9o  
堆栈编辑器 !VFem~'d  
@UV{:]f~e  
_0.pvQ  
涂层倾斜光栅介质 Fe5jdV<  
*%I[ ke *  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。
(_U^  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 05"qi6tncz  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 F3Ap1-%z  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） W_%W%i|  
8""mp]o9  
E23w *']  
VXwPdMy*L  
涂层倾斜光栅介质 <ZVZ$ZW~D  
9qre|AA  
xHe^"LL  
KJdzv!l=  
涂层倾斜光栅介质 GQ[pG{_+  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 K#wK1
 Sv  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 @701S(0'7  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 =U c$D*  
UGCox-W"  
8kS~ENe?o  
<6R"h-u"  
涂层倾斜光栅介质参数 ami09JHy  
Z7KXWu+6`m  
P5Dk63z]  
Oy%Im8.-A#  
涂层倾斜光栅介质参数 >(3'Tnu  
B=dseeG[To  
"S(yZ6r"  
5 q65nF  
高级选项&信息 lJ&y&N<O  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ]4o?BkL  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 {xToz]YA  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 5VKcV&D  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 '?8Tx&}U8  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 OX^3Q:Z=  
m8HYWzN  
YZ**;"<G  
(Q_2ODKo  
高级选项&信息 )2V@p~k?  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 GI_DhU]~)  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Z/7dg-$?'0  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 |xeE3,8  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 {*$9,  
fI]bzv;  
mW +tV1XjG  
r.<
JDdj  
高级选项&信息 UJn/s;$.e  
hfv%,,e  
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M@cfo  
H`el#tt_  
高级选项&信息 )*D'csGc  
+ Kk@Q  
H;y}-=J+  
F~R7~ZE  
体光栅介质 GO~k '  
B6%&gXr\  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 CL1;Inzl  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 @ae
>b  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 wDw<KU1UK  
@c]Xh:I  
6pm~sD  
|[LE9Lq/  
体光栅介质参数 8[R1A  
Q.ukY@L.'  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 C{&)(#*L  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 g`3H(PVg  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 75AslL?t  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） u]bz42]  
e8q4O|I_  
'hI
U_  
<+q$XL0  
体光栅介质参数 t3>$|}O]t  
oIxH3T  
A{(T'/~"  
3]`mQm E  
高级选项&信息 ^*>n4U  
aDveU)]=1  
]/44Ygz/  
WsB3SFNG  
高级选项&信息 G=cNzr9  
GA@ Ue9  
"teyi"U+  
QiU_hz6?v  
在探测器位置处的备注 2GUupnQkD  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Ux_<d?p  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 v$3_o :  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 F`srE6H  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） tW
(+xu36  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 +?V0:Kz]  
)Mi'(C;  
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-[$&s FD  
文件信息 F.0d4:A+  
N&x:K+Zm.  
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QQ：2987619807 5~[N/Gl