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摘要 /IrR,bvA %X0NHta~@ 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ]@ Sc} Z3abem<Q
[d^: IQk# 该用例展示了… gvTOCF 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ?sjZ13 SUa 倾斜光栅介质 v8U1uOR,% 体光栅介质 }Pm(oR'KTJ 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 w.T=Lzp qUoMg%Z%l LrM.wr zI/ (IWix){ 光栅工具箱初始化 }!Diai*C 8[`^(O#\E
Ip7FD9
^ 初始化 q563,s 开始-> aaf_3UH.B 光栅-> ,SJK 通用光栅光路图 eMm~7\
R 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 k+q6U[ce 光栅结构设置 O)RzNfI^`N 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 w
/W
Cj4` 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 e`Zg7CaDd 堆栈可以固定到基底的一边或两边 O"J.k&C<,
ELgae1 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 )QSt7g|OF QIMv9; 堆栈编辑器 <Z_wDK/UR <zDw&s2 |B{$URu |`(?<m 堆栈编辑器 Q~w G(0'8 _#YHc[Wz ]}l+ !NV< 涂层倾斜光栅介质 J6["j ?k:])^G5 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ndCS<ojcBP 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 4 _U,-%/ 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 MZP><Je& 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 1=q?#PQ M%5$-;6~_
WtdkA Sj oCdOC5 涂层倾斜光栅介质 M(h H#_$ W$t}3Ru Bc|x:#`C\{ ^9*|_\3N 涂层倾斜光栅介质 xXU/m| 堆栈周期允许控制整个配置的周期 qn"T?
O 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 *UL|{_)c 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 iUG/ A%m`LKV~@ U_{JM`JY zs&`: 涂层倾斜光栅介质参数 !VJa$>, RBD7mpd
LjQ1ar\ x&fCe{5 涂层倾斜光栅介质参数 SQKY;p U)/Ul>dY NdSxWrD`m O+o%C*`K 高级选项&信息 WJSHLy<a 在传输菜单中,多个高级选项可用 Z8dN0AqZ 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 /GSI.tO 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ihBl",l&Hq 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 _TN$c 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 'TN{8~Gt* 8}#Lo9:,d S5
nw muX4 Y1M_ 高级选项&信息 :kx#];2i 高级选项标签提供了结构分解的信息 KZ}4<{3 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 "!/_h > 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 YTPmS\ H _ 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 g+/U^JIc4l 2V"gqJHv
Rw{v"n 8kc'|F\ 高级选项&信息 ,M h/3DPgE u[|S*(P
*4^]?Y\* LLHOWD C(2 高级选项&信息 |M/
\'pOe dVt@D& WAa1H60VkS ;_\ 体光栅介质 h-rj !>@V#I 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 IIn\{*|mW 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 ~ kJpB t7M 同时,两个平面界面作为介质的边界 I64:-P[\ kZ[yv Q0; gF? 9la~3L_g 体光栅介质参数 +,^M{^% M)pi)$&c 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 6Vzc:8o> 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 vhEs +j 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 `LU,uz 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ;<@O^_+ %R"/`N9R, #R PB;#{ zwrZ^ 体光栅介质参数 ;k%sKVP a[cH@7W.# #*M$,ig &&S4x 高级选项&信息 wP1VQUL FH21m wV ;f^jB;\< 0a%ui2k 高级选项&信息 "K!BJQ *AQbXw]w
4H?Ma|, )-"L4TC) 在探测器位置处的备注 fDHISJv 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 Z_~DTO2Qg 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 s(.-bjR 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 p%
%Y^=z 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) qm5pEort 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 3D
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Z|dZc wo 4:PP[2? 文件信息 Y1+lk^ b}*bgx@< 7 ~8Fs@ SZD2'UaG 6yM dl~. QQ:2987619807 ]LOtwY
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