[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 tu}!:5xi  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 _RaE:)  
Lng. X8D  
_{jC?rzb  
]AYP\\Xi  
该用例展示了… A`uHZCwJ5  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： C][$0  
倾斜光栅介质 WK6,K92  
体光栅介质 6bPxEILm  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 DKjiooD  
_8.TPB]n
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K;6#v%  
光栅工具箱初始化 $BdwKk !k  
1%v6d !  

gk|>E[.  
 初始化 qKD  
开始-> 4G,FJjE`p  
光栅-> a]r+np]vTy  
通用光栅光路图 "kP,v&n  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 $bG*f*w  
光栅结构设置 1L!;lP2  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Odo)h  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ?SNacN@r  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 N)"8CvQL  
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EeL/.  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 bJIYe ld  
~pZ0B#K J  
堆栈编辑器 +KbkdYZ  
qj;i03 +@  
%4LoEm=U  
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堆栈编辑器 &ww-t..  
)Dz]Pv]H'  
wnC} TWxX  
涂层倾斜光栅介质 qob!AU|  
CK[8y&  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 A M[f  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 sm`c9[E  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 kf'(u..G  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） v;\cM/&5  
"<=4]Z  
"Ol:ni1  
SEM?vQ 0"}  
涂层倾斜光栅介质 JPZp*5c6A  
X:UlL"G  
Tv"T+!Z  

i(|ug_^  
涂层倾斜光栅介质 x6,ozun  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 5@xR`g-  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ]jD\4\M}  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 GM2}]9  
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US)O  
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涂层倾斜光栅介质参数 %/uLyCUZ  
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涂层倾斜光栅介质参数 ')v,<{  
)IcSdS0@M  
QwX81*nx  
Ypzmc$Xfu  
高级选项&信息 d'W2I*Zc<  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 _5rKuL  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Xr K29a  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 T{ @@
V  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 &lLk[/b  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 iQ" LIeD  
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B}TY+@  
oW^x=pS9  
高级选项&信息 ~+1mH  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 _+48(QF<  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 2vpQ"e- A  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 /V*SI!C<f  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 >fYcr#i0[  
m+XHFU  
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9KX% O-'  
高级选项&信息
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高级选项&信息 qfXt%6L  
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体光栅介质 CtMqE+j^  
BlpyE[h T  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 vQCb?+X&  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 :PBFFL
e  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 bK6^<,~  
8a*&,W  
2n3&uvf'TL  
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体光栅介质参数 =-Hhm($n  
C5^WJx[  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 L|WrdT D;  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 \2;!}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 1Z ~C3)T=  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ez32k[eV!  
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B](R(x>L  
体光栅介质参数 kk`K;`[tB  
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高级选项&信息 ;-"!
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高级选项&信息 P<X?  
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在探测器位置处的备注 3:Nc`tM_  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 mC@v,"  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 \dU.#^ryp  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 MJX4;nbl  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Il4]1d|  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 0p[k7W u  
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文件信息 m7NW
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QQ：2987619807 HqsqUS3[