[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 V.j#E1P  
B1,?{Ur  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 k~|ZO/X@l%  
nKu(XgFv  
jkCHi@  
n
pj5U/  
该用例展示了… 1^sbT[%R  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： E{oB2;P  
倾斜光栅介质 ^0eO\wc?O  
体光栅介质 j4vB`Gr]  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 E7LbSZ  
JP%RTGu  
1>;6x^_h0S  
Xj;2h{#s  
光栅工具箱初始化 `skH-lk,  
`axQd%:AC  
40+fGRyOL  
 初始化 `\e'K56W6  
开始-> *vD/(&pQ1:  
光栅-> 2<m Q,,j  
通用光栅光路图 %&2B  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 `.`FgaJ |  
光栅结构设置 wOM<XhZ  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 l]>!`'sJL  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 VLx T"]
f  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 2_I+mQ  
x3_,nl  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 9JXhHAxD  
<L%HG  
堆栈编辑器 x' ?.~  
 HFv?s  
rNxG0^k(  
Ga?UHw~
 
堆栈编辑器 m]e0X*Kg  
5@iy3olP  
NC;T( @  
涂层倾斜光栅介质 x@Sra@
 
W=F3XYS  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 > `0| X  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 4t*<+H%  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 p>!1S  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） qjzZ}  
z(jU|va{_1  
}il%AAI9}r  
EO"=\C,  
涂层倾斜光栅介质 2-PI JO  
Ag<4r  
M$#+W?m&  
>*Sv
0#  
涂层倾斜光栅介质 ;+r0 O0;9  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 e5FCqNip'  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 <kROH0+  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Fu#Y7)r  
<%he o  
>[ @{$\?x:  
2k%Bl+I  
涂层倾斜光栅介质参数 gca|
?tt  
+Z )`inw  
 I8:"h  
7%W!k zp>  
涂层倾斜光栅介质参数 ZjE~W>pkQ  
<.: 5Vx(Aw  
9'D8[p%  
ozT._C  
高级选项&信息 NT'Ie]|  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 <JGYr 4V  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 >h|UCJ1 `  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 UnJi& ~O  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 )x y9X0  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 "tpvENz2s  
n(9F:N  
H3W_}f  
|.^^|@+  
高级选项&信息  <Wp`[S]r  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Mf!owpW T  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 XA=|]5C  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 q
=T<^Tk#e  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ?SBh^/zf  
g]:..W7  
"X\q%%P=?  
bDxPgb7N=  
高级选项&信息 M|5^':Y  
"#[o?_GaJ  
?U7&R%Lh`  
}Ox2olUX  
高级选项&信息 /^nP_ID  
0%vixR52  
IO?~b XP  
"-G.V#zI  
体光栅介质 m~b#:4D3  
*C,$W\6sz  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 wI|bBfd(  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 c`Lpqs`  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 4
yJ01s  
E;ndw/GZjR  
?14X8Mb8W_  
={e#lC  
体光栅介质参数 ":5~L9&G  
 ]IN-  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 o
Y| (M_;  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 1"87EP   
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Zb5T90s%  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） gME:\ud$  
-K{\S2  

M}_M_  
b@UF PE5jy  
体光栅介质参数 q{N lF$X  
2}W6{T'  
J~PTVR
  
>B|ofwm*  
高级选项&信息 67EDkknt  
*R1d4|/G  
JC1BUheeb  
4kN:=g  
高级选项&信息 SV$ASs  
t/4/G']W  
GL
oL4el  
C 6:pY-  
在探测器位置处的备注 k;9#4^4(  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 CVn;RF6  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 U/~Zk@3j  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 |G5=>W  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） aTsy)=N  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 [NR0] #h  
*>R/(Q  
c"jhbH!u4  
l%3Q=c  
文件信息 OmQuAG ^\x  
7i%P&oB  
0o\=0bH&s  
y[Fw>g1`q  
v:!7n  
QQ：2987619807 tF)k6*+