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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 W`)<vGn=Y  
    A o/vp-e  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ^twivNB  
    $P {K2"Oc  
    ${r[!0|   
    7&%^>PU7  
    该用例展示了… ff2d @P,!  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 9Sg<K)Mc  
    倾斜光栅介质 Jfhk@27T  
    体光栅介质 )e%}b -I'r  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 AR&:Q4r|  
    DSyXr~p8  
    t#wmAOW  
    smy}3k  
    光栅工具箱初始化 ?u$u?j|N  
    ! fl4"  
    p9[6^rjx8  
     初始化  HEF?mD3h  
    开始-> #/-_1H  
    光栅-> p3x?[ Ww  
    通用光栅光路图 4Y ROB912  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 h0|}TV^UJ  
    光栅结构设置 /n5n )P@L  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 `N8 7 h"  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 `C72sA{M.  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 1=VJ&D;  
    O1y|v[-BW  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 |\9TvN^$`  
    Im72Vt:p-  
    堆栈编辑器 <=um1P3X  
    V%ii3  
    7}o/:  
    l?qqqB  
    堆栈编辑器 |zsbW9 W*m  
    LF<wt2?*  
    Hh[Tw&J4  
    涂层倾斜光栅介质 ` }gbc69  
    ]`o!1(GA  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 Z*! O:/B  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 m@G i6   
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 d5m`Bm-{  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 3{7T4p.G  
    oF:v JDSS  
    K?.e|  
    .IrNa>J~  
    涂层倾斜光栅介质 $W8Cf[a  
    2)0b2QbQ  
    `#s#it'y  
    I[Ic$ta  
    涂层倾斜光栅介质 MN8H;0g-  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 ii|? ;  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 m?CZQq,  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 PRu&3BP  
    -yH,5vD  
     1jCo  
    m\u26`M  
    涂层倾斜光栅介质参数 'xK.U I  
    T2'RATfG  
    Yc Q=vt{  
    5p"BD'^:  
    涂层倾斜光栅介质参数 uXZg1 F)  
    X"asfA[6K  
    KM,|} .@:  
    QrYa%D+  
    高级选项&信息 ,ZE?{G{tuj  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 }M>r E  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置   WY  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 <E,%@  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 *s4\\Wb=  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 TV59(bG.2  
    @J 'YV{]  
    ;iYff N  
    -b;|q.!  
    高级选项&信息 L1m{]>{-  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 JgRYljQi2  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 |+,[``d>"  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 n`7f"'/:  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 `8_z!)  
    E)N<lh  
    Q+q,!w8  
    kyw/LE3$-  
    高级选项&信息 i&Fiq&V)[  
    n]Li->1  
    -~f511<  
    1QqHF$S  
    高级选项&信息 E;Y;r"  
    =<z.mzqu5  
    ;az5ZsvN D  
    l1=JrpCan  
    体光栅介质 +/{L#e>   
    {D&9UZm  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ->{d`-}m'  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 xG2F!WeF  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 n'FwM\  
    sq/]wzT:  
    *>8ce-PV  
    U977#M Xf  
    体光栅介质参数 LtgXShp_!  
    FqFapRX66Z  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 N 5zlT  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 d(`AXyw  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ecJ6  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) 9O.YOiW  
    (@0O   
    ,3i,P(?(  
    RJeDEYXeg  
    体光栅介质参数 AV8T  
    ~X(UcZ2  
    aolN<u3G  
    YGvUwj'2a  
    高级选项&信息 13'vH]S$M  
    ^eYqll/U  
    w~R`D  
    Ter :sge7  
    高级选项&信息 ">81J5qgd  
    B?rSjdY4  
    e-hjC6Q U  
    BG&cQr  
    在探测器位置处的备注 gR^>3n'  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 [%A4]QzWh  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 d5 Edu44  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 4\ c,)U}  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) MTGiAFE  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 BI?@1q}:  
    y&[y=0!  
    ikBYd }5  
     =SOe}!  
    文件信息  _?vo U  
    NG&_?|OmV  
    eas:6Q)  
    W/ay.I  
    %?C8mA'w  
    QQ:2987619807 o_M.EZO  
     
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