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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 /IrR,bvA  
    %X0NHta ~@  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ]@ Sc}  
    Z3abem<Q  
     ^ :  
    IQk#  
    该用例展示了… gvTOC F  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ?sjZ13 SUa  
    倾斜光栅介质 v8U1uOR,%  
    体光栅介质 }Pm(oR'KTJ  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 w.T=Lzp  
    qUoMg%Z%l  
    LrM.wr zI/  
    (IWix){  
    光栅工具箱初始化 }!Diai*C  
    8[`^(O#\E  
    Ip7FD9 ^  
     初始化 q563,s  
    开始-> aaf_3UH.B  
    光栅-> ,SJK  
    通用光栅光路图 eMm~7\ R  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 k+q6U[ce  
    光栅结构设置 O)RzNfI^`N  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 w /W Cj4`  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 e`Zg7CaDd  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 O"J.k&C<,  
    ELgae1  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 )QSt7g|OF  
    QIMv9;  
    堆栈编辑器 <Z_wDK/UR  
    <zDw& s2  
    |B{$URu  
    |`(?<m  
    堆栈编辑器 Q~w G(0'8  
    _#YHc[Wz  
    ]}l+ !NV<  
    涂层倾斜光栅介质 J6["j   
    ?k:])^G5  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ndCS<ojcBP  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 4 _U,-%/  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 MZP><Je&  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 1=q?#PQ  
    M%5$-;6~_  
    WtdkA Sj  
    oCdOC5  
    涂层倾斜光栅介质 M(h H#_ $  
    W$t}3Ru  
    Bc|x:#`C\{  
    ^9*|_\3N  
    涂层倾斜光栅介质 xXU/m|  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 qn"T? O  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 *UL|{_)c  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 iUG/   
    A%m `LKV~@  
    U_{JM`JY  
    zs&`:  
    涂层倾斜光栅介质参数 !VJa$>,  
    RBD7mpd  
    Lj Q1ar\  
    x&fCe{5  
    涂层倾斜光栅介质参数 SQKY;p  
    U)/Ul>dY  
    NdSxWrD`m  
    O+o%C*`K  
    高级选项&信息 WJSHLy<a  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 Z8dN0AqZ  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 /GSI.tO  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ihBl",l&Hq  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 _TN$c  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 'TN{8~Gt*  
    8}#Lo9:,d  
    S5 nw  
    muX4Y1M_  
    高级选项&信息 :kx#];2i  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 KZ}4<{3  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 "!/_h >  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 YTPmS\ H _  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 g+/U^JIc4l  
    2V"gqJHv  
    Rw{v"n  
    8kc'|F\  
    高级选项&信息 ,M h/3DPgE  
    u[|S*(P  
    *4^]?Y\*  
    LLHOWD C(2  
    高级选项&信息 |M/ \'pOe  
    dVt@D&  
    WAa1H60VkS  
    ;_\  
    体光栅介质 h-rj  
    !>@V#I  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 IIn\{*|mW  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 ~kJpBt7M  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 I64:-P[\  
    k Z[yv  
    Q0; gF?  
    9la~3L_g  
    体光栅介质参数 +,^M{^%  
    M)pi)$&c  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 6Vzc:8o>  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 vhEs+ j  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 `LU,uz  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ; <@O^_+  
    %R"/`N9R,  
    #R PB;#{  
    zwrZ ^  
    体光栅介质参数 ;k%sKVP  
    a[cH@7W.#  
    #*M$,ig  
    &&S4x  
    高级选项&信息 wP1VQUL  
    FH21mwV  
    ;f^jB;\<  
    0a%ui2k  
    高级选项&信息 "K!BJQ  
    *AQbXw]w  
    4H? Ma|,  
    )-"L4TC)  
    在探测器位置处的备注 fDHISJv  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 Z_~DTO2Qg  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 s(.-bjR  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 p% %Y^=z  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) qm5pEort  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 3D dG$@  
    [ =2In;  
    Z|dZc wo  
    4:PP[2?  
    文件信息 Y1+lk^  
    b}*bgx@<  
    7 ~8Fs@  
    SZD2'UaG  
    6yM dl~.  
    QQ:2987619807 ]LOtwY  
     
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