[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 G?$|aQ0j  
0gdFXh$!e  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 [r,a0s  
Gq%q x4  
J60XUxf  
!]AM#LJ

 
该用例展示了… 7x`dEi<  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： xL8r'gV@  
倾斜光栅介质 2z9\p%MX  
体光栅介质 s;V~dxAiv  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 h8@8Qw  
Sq^f}q  
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y)iT-$bQ  
光栅工具箱初始化 Ibt~e4f  
~\_aT2j0  
`x%v&>  
 初始化 sq `f?tA?  
开始-> +>3XJlZV  
光栅-> &)`xlIw}  
通用光栅光路图 7u[U%yd  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 (iub\`  
光栅结构设置 wh4ik`S 1  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 48;6C g  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 $:IOoS|e  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 Ip#BR!$n  
}uWIF|h~  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 %Jy0?WN  
AX6z4G  
堆栈编辑器 o5=1  
TG4?"0`I5  
{ FVLH:{U^  
mS?.xu  
堆栈编辑器 r
eo  
~)>O=nR  
_,*ld#'s  
涂层倾斜光栅介质 vv='.R, D  
VB 53n'  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 hP1}Do  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 'Cw&9cL9w  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 7{<:g!  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） [:M:6JJ  
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M"cB6{st[  
涂层倾斜光栅介质 6z;C~_BV  
W(jXOgs+_  
Dn{ hU$*  
Ik{[BRzUgt  
涂层倾斜光栅介质 kb"
g  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ]O%wZIp\P  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 h)S223[  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 $ = uz  
2R}9wDP  
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涂层倾斜光栅介质参数 \#1*r'V8  
Djv0]Sm^!  
P-B3<~*i!  
21(8/F ~{  
涂层倾斜光栅介质参数 Po+I!TL'  
ly,3,ok  
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4sU*UePr  
高级选项&信息 DeqTr:  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 }^T7S2_Qy  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 \}CQo0v  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
:X1~  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ^]nnvvp  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 f~U~f}Uw4  
_
8*}S=
 
Z0o+&3a6  
z^@.b  
高级选项&信息 :.;pRz  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 (_:k s  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 &G#LQl  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 CcF$?07 i  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 XctSw  
PKDzIA~T  
*,C[yg1P  
*t_"]v-w  
高级选项&信息 ;3\oU$'  
VL^.7U  
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W/G_  
rE:"8d}z  
高级选项&信息 5|T[:m  
F0yvV6;  
0?DD!H)&w  
1_AB;^  
体光栅介质 N^G $:GC  
j41)X'MgJ  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ,r
$k79TI  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 hxwo<wEg  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 0F"W~OQ6  
(lNV\Za  
hDO\Q7  
,r=9$i_  
体光栅介质参数 uL\b*rI  
Xv1SRP#  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 &m=GkK  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 y.xt7 F1  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 c"nowbf  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） )K=%s%3h<  
bc+~g>o  
dC&OjBQ  
/G{;?R  
体光栅介质参数 ^Y;}GeA
,  
!ucHLo3:  
gdPPk=LD  
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高级选项&信息 IE)$.%q;)  
Ri<7!Y?l  
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高级选项&信息 iMT[sb  
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H[lB  
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在探测器位置处的备注 \ F\ /<  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ~CtLSyB  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #[ H4`hZ  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 (6y[,lYH  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Fjs:rZ#{  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Q)/V>QW  
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文件信息 Qkvg85  
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QQ：2987619807 VRb+
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