[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 L4dbrPE*0  
U9@q"v-  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
"XH]B  
?{FxbDp>  
:O{:;X)  
E{FNsa  
该用例展示了… @}[)uH  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ljk-xC p/  
倾斜光栅介质 H<qR^a  
体光栅介质 h.c)+wz/%C  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构  l[ L{m7  
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gU8'7H2  
光栅工具箱初始化 yXkgGY5  
0wc+<CUW  
O[N{&\$  
 初始化 vg)zk2O  
开始-> Zw }7vD0  
光栅-> YX~H!6l  
通用光栅光路图 Yu8WmX,[  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 %Jw;c`JM  
光栅结构设置 KsHMAp3  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 F6fm{  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 c  xX  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 2\7]EW  
Z,
!Rj7wZ  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 pE=wP/#  
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堆栈编辑器 C[[z3tn  
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Q.5a"(d@  
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堆栈编辑器 
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&^z~wJ,]  
涂层倾斜光栅介质 r<"1$K~Ka  
r*kk/$,2  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 t4,6`d?C  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 /+3|tb  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 /423!g0Q  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） QK;A>]  
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`B^?Za,xN  
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涂层倾斜光栅介质 Ex~OT  
oW-luC+  
D F0~A  
s'i1!GNF B  
涂层倾斜光栅介质 P$qIB[Xi  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 N<?RN;M  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 PI }A')Nq.  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 X3'z'
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x; :[0(st}  
涂层倾斜光栅介质参数 rJR"[TTJ  
vZ|m3;X  
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涂层倾斜光栅介质参数 2&P'rmFm  
4,uH 4[7  
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* \f(E#wa  
高级选项&信息 \<V{6#Q=  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 {-H6Z#b[  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 [ UQzCqV  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 =:5yRP  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 uGgR@+7?Z  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 j#o0y
5S  
I2D<~xP~2+  
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zX|CW;  
高级选项&信息 5q" ;R$+j  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ?. CA9!|   
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 $T~|@XH  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 CkIICx  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 sexnO^s  
O'o`

  
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*O+YhoR?  
高级选项&信息 w0VJt<e*  
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高级选项&信息 T|r@:t[  
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体光栅介质 fq_6xs  
s+^YGB  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 y~''r%]  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 }kGJ)zh  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ^[lg1uMW  
Z=4Krfn  
3,W2CN}  
Nmns3D  
体光栅介质参数 YtE V8w_$  
>\%44ba6  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 rB)m{)  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 }yC ve  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 .}%$l.#a  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 8kX3.X`  
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体光栅介质参数 +u:8#!X$RD  
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高级选项&信息 XLI'f$w&  
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高级选项&信息 n!A')]y"  
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在探测器位置处的备注 (SU*fD!t  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 JPS L-j  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 _LxV)  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Y+F$]!hw  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） t? yMuK  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 SG$/v  
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文件信息 4cTJ$" v  
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QQ：2987619807 Bm;{dO