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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 m,5?|J=  
    "d0D8B7HI@  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 @'Pay)P  
    I,Jb_)H&t  
    EACI>  
    h >Z`&  
    该用例展示了… d<m.5ECC}  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: fL-$wK<p<  
    倾斜光栅介质 +KTHZpp!c2  
    体光栅介质 rzvKvGd#N  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 _1YC9}  
    ^oE#;aS  
    {=U*!`D  
    fMM%,/b{  
    光栅工具箱初始化 PH^Gjm  
    HHs!6`R$0c  
    Bf[`o<c  
     初始化 {DUtdu[  
    开始-> <LJb,l"  
    光栅-> Bob-qCBV  
    通用光栅光路图 F]0 qt$GO  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 &xt GabNk  
    光栅结构设置 Jy('tfAHp  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ]9W7]$  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 50T^V`6  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 `9T5Dem|#  
    ao|n<*}  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 s5*HS3D  
    l<7SB5  
    堆栈编辑器 O{U j  
    Tgbq4xR(  
    *!dA/sid  
    #]gmM  
    堆栈编辑器 Zzb?Nbf  
    NnU`u.$D  
    V"}Jsr  
    涂层倾斜光栅介质 Z B!~@Vf  
    xZ >j Q_}  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 K(WKx7Kky^  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 kZi/2UA5Z  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 S a}P |qI  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) y3PrLBTz  
    #nAq~@X  
    NBLjBa%eL  
    A<(DYd1H  
    涂层倾斜光栅介质 L9F71bs59  
    XBO( *6"E  
    +!$`0v   
    Zp9kxm'  
    涂层倾斜光栅介质 2. {/ls  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 Ap4.c8f?Q-  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 f"zmNG'  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 j"VDqDDz  
    33&\E- Q>  
    <vD(,||  
    O}}rosA  
    涂层倾斜光栅介质参数 |f.,fVVV;  
    h@y>QhYU0  
    (=EDqAZg  
    tvq((2  
    涂层倾斜光栅介质参数 TZ!@IBu  
    )8SWU)/  
    BL"7_phM,  
    @YG-LEh  
    高级选项&信息 5OX[)Li  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 Zs,6}m\  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 9jM7z/Ff  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 KeXt"U  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 }6=)w@v  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 KDH<T4#x  
    kQQDaZ 8  
    18Ju]U  
    "^;h'  
    高级选项&信息 NSH4 @x  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 LIQ].VxIs  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 j2.7b1s  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 Q;A\M  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 P|]r*1^5  
    @2 *Q*  
    Uqy/~n-v<  
    ?)(-_N&T  
    高级选项&信息 qPN9Put  
    D{[{&1\)r  
    Re %dNxJ=  
    D!.1R!(Z  
    高级选项&信息 I3d}DpPx%  
    o P;6i  
    m]vV.pwv  
    FouN}X6  
    体光栅介质 E0 E K88  
    R^ P>yk8  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 f fBd  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 n${k^e-=  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 |r36iUHZS  
    cO 5zg<wF  
    Ym! e}`A\F  
    Kfr1k  
    体光栅介质参数 AS re@pW  
    g.vE%zKL  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 )5gj0#|CG@  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 ela^L_NhF  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制  (/,l0  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) slUi)@b  
    6)P.wW  
    %Ta"H3ZW  
    W I MBw mg  
    体光栅介质参数 o[fg:/5)A  
    & d2 `{H  
    KAI2[ gs  
     X0$q !  
    高级选项&信息 Y:t?W  
    y$SUYG'v  
    :zPK  
    +F2OPIanT~  
    高级选项&信息 ^2+ Vt=*  
    6$'*MpYF4  
    k0K$OX*:e  
    '?L^Fa_H  
    在探测器位置处的备注 g=Vu'p 3u  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 UeLO`Ug0;  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 ,w H~.LHi  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 Qz#By V:  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) G8klWZAJ  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ,m5i(WL  
    J'$NBws  
    31alQ\TH  
    !]82$  
    文件信息 =\5WYC  
    >RAg63!`  
    3IlVSR^py  
    k:R\;l5  
    k4{|Xn  
    QQ:2987619807 iae NY;T  
     
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