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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 k129)79  
    TC<_I0jCh  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 p4fU/  
    ]pzf{8%  
    }<[@)g.h.  
    }{n[_:[7  
    该用例展示了… `$AX!,<!G  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: HKP<=<8/O  
    倾斜光栅介质 }~:`9PV)Z%  
    体光栅介质 MIsjTKE  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ^}a..@|%W  
    BB.^-0up  
    fx_7X15  
    kbN2dL  
    光栅工具箱初始化 Ww{bh -nyq  
    7s4G|N[wR\  
    Xat>d>nJ]  
     初始化 kOfbO'O9  
    开始-> ~dkS-6q~Q  
    光栅-> ;/XWX$G@  
    通用光栅光路图 L09YA  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 #e}Q|pF  
    光栅结构设置 {dH87 nt  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 7.,C'^ci  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 bz[U<  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 _U?   
    t3}>5cAxy  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 CCNrjaA  
    Q_$aiE  
    堆栈编辑器 F/tGk9v  
    5V':3o;D__  
    C*a>B,H  
    tda#9i[pkH  
    堆栈编辑器 9{RCh 9  
    DI{VJ&n66  
    W4%I%&j  
    涂层倾斜光栅介质 )\s{\u \  
    x"9`w 42\r  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 93Kd7x-3  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 r5M {*  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 Hz ) Xn\x  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) F0t-b%w,  
    { 0RwjPYp  
    0ft81RK  
    fd! bs*\X  
    涂层倾斜光栅介质 s;Q0  
    *'H0%GM  
    B5{ wSr  
    (HbA?Aja  
    涂层倾斜光栅介质 rE$0a-d2B  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 !w2J*E\  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 <'N"GLJ  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ^SM>bJ1Z_  
    NX%"_W/W  
    $ @g\wz  
    Tsg;i;  
    涂层倾斜光栅介质参数 NXo$rf:  
    I!1|);li  
    ##!idcC  
    o5LyBUJ  
    涂层倾斜光栅介质参数 ;}1O\nngR  
    uE] HU  
    Vl'Gi44)3"  
    TS4Yzq,f  
    高级选项&信息 \GYrP f$  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 xKl\:}Ytp  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 `& ufdn\j  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Yw=7(}  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 K93L-K^J  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 '^B[Krs'Z`  
    0OCmyy  
    H j [!F%  
    i&mcM_g32  
    高级选项&信息 9UDanj P  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 )hG4,0hv&  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9`y@2/!Y  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 {$qE>ic  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 Lmsc ~~  
    41uiW,  
    sE^ee2]OI@  
    $,u>,  
    高级选项&信息 p{|!LcSU$2  
    ]QC9y:3  
    Jlp nR#@  
    E<RPMd @a  
    高级选项&信息 VO JA}$  
    ;n,xu0/  
    w1Txz4JqB  
    2$r8^}Nj?  
    体光栅介质 ci 4K Nv;  
    QjOO^6Fh  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 )DB\du   
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 H^ 'As;R  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 d! {]CZ"@  
    :A7\eN5  
    MB7`'W  
    @*Tql:Qcd^  
    体光栅介质参数 x52#md-Z  
    w)N~u%  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 gFpub_  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 .Ht;xq  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 Ie4\d2tQ;  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) S-'R84M,F  
    Gsn$r(m{K  
    CY~ S{w  
    +Tt.5>N  
    体光栅介质参数 HmiG%1+{A  
    tm&,u*6$W?  
    @AtJO>w  
    qCkC 2Fy(  
    高级选项&信息 }7*|s+F(f  
    z~"Q_gme  
    _?> x{![  
    .(RZ&*4  
    高级选项&信息 qxB|*P `  
    U ,NGV0  
    ''dS {nQs  
    +=:_a$98  
    在探测器位置处的备注 OxQ5P;O  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 |\2>n!  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 b)eoFc)lc  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 e%s1D  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) h0R.c|g[  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 qjObu\r  
    q68CU~i*  
    jW]"Um-]  
    AJ+\Qs(0  
    文件信息 -Uan.#~S  
    $DXO7;#  
    2vTO>*t  
    in K]+H]{  
    9wlp AK  
    QQ:2987619807 \ZM5J  
     
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