[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 m,5?|J=  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 @'P
ay)P  
I,Jb_)H&t  
EAC
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h>Z`&  
该用例展示了… d<m.5ECC}  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： fL-$wK<p<  
倾斜光栅介质 +KTHZpp!c2  
体光栅介质 rzvKvGd#N  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 _1YC9}  
^oE#;aS  
{=U*!`D  
fMM%,
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光栅工具箱初始化 PH^Gj
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HHs!6`R$0c  
Bf[`o<c  
 初始化 {DUtdu[  
开始-> <LJb,l"  
光栅-> Bob-qCBV  
通用光栅光路图 F]0 qt$GO  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 &xt GabNk  
光栅结构设置 Jy('tfAHp  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ]9W7]$  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 50T^V`6  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 `9T5Dem|#  
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|n<*}  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 s5*HS3D  
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堆栈编辑器
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Tgbq4xR(  
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#]gmM  
堆栈编辑器 Zzb?Nbf  
NnU`u.$D  
V"}Jsr  
涂层倾斜光栅介质 Z B!~@Vf  
xZ>j Q_}  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 K(WKx7Kky^  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 kZi/2UA5Z  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 S a
}P |qI  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） y3PrLBTz  
#nAq~@X  
NBLjBa%eL  
A<(DYd1H  
涂层倾斜光栅介质 L9F71bs59  
XBO( *6"E  
+!$`0v
  
Zp9kxm'  
涂层倾斜光栅介质 2. {/ls  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Ap4.c8f?Q-  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 f"zmNG'  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 j"VDqDDz  
33&\E- Q>  
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O}}rosA  
涂层倾斜光栅介质参数 |f.,fVVV;  
h@y>QhYU0  
(=EDqAZg  
tvq((2  
涂层倾斜光栅介质参数 TZ!@IBu  
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WU)/  
BL"7_phM,  
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高级选项&信息 5OX[)Li  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 Zs,6}m\  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 9jM7z/Ff  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 KeXt"U  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 }6=)w@v  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 KDH<T4#x  
kQQDaZ8  
18Ju]U  
"^;h'  
高级选项&信息 NSH4 @x  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 LIQ].VxIs  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 j2.7b1s  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 Q;A\M  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 P|]r*1^5  
@2*Q*  
Uqy/~n-v<  
?)(-_N&T  
高级选项&信息 qPN9Put  
D{[{&1\)r  
Re %dNxJ=  
D!.1R!(Z  
高级选项&信息 I3d}DpPx%  
o P;6i  
m]vV.pwv  
FouN}X6  
体光栅介质 E0EK88  
R^P>yk8  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ffBd  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 n${k^e-=  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 |r36iUHZS  
cO5zg<wF  
Ym!e}`A\F  
Kfr1k  
体光栅介质参数 ASre@pW  
g.
vE%zKL  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 )5gj0#|CG@  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ela^L_NhF  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制  (/,l0  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） slUi)@b  
6)P.wW  
%Ta"H3ZW  
W I MBwmg  
体光栅介质参数 o[fg:/5)A  
& d2`{H  
KAI2[ gs  
 X0$q!  
高级选项&信息 Y:t?W  
y$SUYG'v  
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+F2OPIanT~  
高级选项&信息 ^2+Vt=*  
6$'*MpYF4  
k0K$OX
*:e  
'?L^Fa_H  
在探测器位置处的备注 g=Vu'p 3u  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 UeLO`Ug0;  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ,w H~.LHi  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Qz#By V:  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） G8klWZAJ  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ,m5i(WL  
J'$NBws  
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文件信息 =\5WYC  
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QQ：2987619807 iaeNY;T