[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 v{<[)cr  
`.2hjO  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 LA[g(i 7  
Cbs5dn(Y  
J4YBqp  
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7LJ&g/)  
该用例展示了… !7d*v3)d  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： !SKV!xH9  
倾斜光栅介质 =KT7nl  
体光栅介质 UgN28YrW  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 s[Ur~Wvn  
/xJqJ_70X  
_U{&@}3  
Y[SU&LM  
光栅工具箱初始化 pZZf[p^s
|  
p*l$Wj  
<*EZ@XoN>  
 初始化 4m-I5!=O  
开始-> /1`cRyS  
光栅-> |7@O($b  
通用光栅光路图 xE-7P|2  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 $Q+s/4\  
光栅结构设置 -]:GL>b  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 x#C@8Bxq=  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Ay{t254/  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ]h9!ei [  
X_$a,"'~)  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ggb|Ew  
#?B%Ja% ;W  
堆栈编辑器 =IKEb#R/  
B ZMu[M  
z}Jr^>  
gf)t)-E  
堆栈编辑器 M|io4+sy  
MP>n)!R[`  
V|MY!uV  
涂层倾斜光栅介质 tD$lNh^  
;PyZ?Z;  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 NV r0M?`4  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 23DJV);g8  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 AD('=g J  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） D,ly#Nn  
b @;.F!x  
IK^~X{I?  
e1q"AOV6  
涂层倾斜光栅介质 Wd(86idnc  
;pRcVL_4  
tK%c@gGU9  
D';eTy Y  
涂层倾斜光栅介质 y0ckm6^  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 s4T}Bsr  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 RD<75]**{  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 8n?kZY$,  
P(omfD4  
[{&jr]w`|  
G.U5)4_^  
涂层倾斜光栅介质参数 %1:chvS  
}PeZO!K  
?PPZp6A3L=  
V7t!?xOL  
涂层倾斜光栅介质参数 2}t&iG|0/  
?HR%bngK  
,R wfp=*E  
w>~M}Ahj  
高级选项&信息 uL?vG6% ^1  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 YTyX`Y#  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 K6pR8z*?  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 5@u~3jPd  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 KhM.T
c  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 J^3H7 ]  
?$%%
Mp(  
.\5$MIF  
{)K](S ~  
高级选项&信息 5^)_B;.f  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Jfg7\&|  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 XrN- 2HTV  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 2Ji+{,?,  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 )fh0&Y; R  
_dU P7H (  
aU<s<2O)  
9XV^z*E(J  
高级选项&信息 5 d ;|=K  
PJ 9%/Nrh  
?~2Bi^W5  
QD<eQsvV  
高级选项&信息 {K7YTLWY  
6f]rQ9  
Bh`IXu  
F=&;Y@t  
体光栅介质 @"1}16b#f  
]
h~o],:  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 8sw,k   
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 )mkS5j`5\  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 7U:=~7GH  
W(&6  
zLek&s&-  
l_+A5Xy  
体光栅介质参数 5}a"?5J^  
k:P$LzIB  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Q\#UWsN(T/  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Gc;B[/:  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 !A[S6-18%-  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） If.n(t[M9  
GNghB(  
xv0M  
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体光栅介质参数 `-D$Fsl  

dt~iw  
s)tpr
 
FDq{M?6i  
高级选项&信息 j-* TXog  
%N{sD[^  
 ? ICDIn  
;c)! @GoA  
高级选项&信息 j)6G7T|  
*g$agyOfh  
@"8~Y|L93  
ylkqhs&  
在探测器位置处的备注 /c^e&D  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 W uf/LKj  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #{w5)|S#JD  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 h[H%:743  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） (rMZ  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 MOLO3?H(  
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文件信息 B"[{]GP BY  
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QQ：2987619807 
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