[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 >1BDt:G36  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 #sm@|'Q%  
?G>E[!8ev  
*E|#g  
b?,''t  
该用例展示了… sq
_ yu(  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ^]k=*>{ R  
倾斜光栅介质 K?@x'q1  
体光栅介质 pnpf/T{xpM  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 n,#o6ali>  
xey?.2K1A  
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&8HJ4Vj2  
光栅工具箱初始化 T_j0*A$  
{W'{A  
"G!,gtA~  
 初始化 RPw1i*  
开始->
+2#pP  
光栅-> Bo4iX,zu  
通用光栅光路图 wBCBZs$H  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 <YAs0  
光栅结构设置 th|'t}bWV  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 =zW`+++3  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 yRWZ/,9x   
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 F;ELsg  
x-T7 tr&(  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 xzw2~(lo  
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堆栈编辑器 Ask
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^Sc48iDc  
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堆栈编辑器 $r1{Nh  
]RuH6d2d|  
a?X#G/)  
涂层倾斜光栅介质 ;y.<I&  
rT'<6]`  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。
k&= iye(  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 `aL4YH-v  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 Uc0S
b  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ,-)ww:  
=k2"1f~e  
 )QB9zl:  
Fq!- %Y  
涂层倾斜光栅介质 $yZ(ws  
sDS0cc6e  
?mh0^G  
kOV6O?h  
涂层倾斜光栅介质 `l-R?C?*!  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 71G00@&w9D  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 y*j8OA.S  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 2(>=@q.1H  
e ls&_BPE  
|"Fm<  
`$>cQwB,D  
涂层倾斜光栅介质参数 pJ_>^i=  
W4S]2P>T  
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GI/4<J\  
涂层倾斜光栅介质参数 7WN$ rl5/  
XaYgl&x'!x  
;Rd\yAG  
pjNH0mZ  
高级选项&信息 6'JP%~QlS  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 2"B3Q:0he|  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 (Ek=0;Cr  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 6EkD(w  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 O
p ;){JT  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 \\,z[C  
YL@d+ -\  
#*;Nb  
.iH#8Z  
高级选项&信息 !@@rO--&  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 'q*:+|"  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 UE/N-K)`  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 9p9-tJfH.  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 `L?9-)m<f  
Q)ZkUmW  

Z.mnD+{  
ii]'XBSVd  
高级选项&信息 +ywd(Tuzm  
^<nN~@
j  
eZ +uW0  
Y^CbpG&-vC  
高级选项&信息 !Mk:rO-L  
U-GV^j  
Y$6W~j  
# fl%~Y  
体光栅介质 (r )fx  
LdYaJh~h  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 m7~[f7U  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Is !DiB  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 od~`q4p1(-  

&-6D'@  
DwC8?s*2H  
d<l
-Ldle  
体光栅介质参数 hX@.k|Yd  
6Bfu89  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Kq`"}&0b\  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Ig6>+Mw  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 yD!V;?EnK  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） P=9Zm  
/A) v$Bv=  
`?L-{VtM3*  
{bvm83{T  
体光栅介质参数 }qOC*k:  
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'((Ll  
<U$A_]*w  
高级选项&信息 U"v}br-kb  
R4|<Vp<U2  
v#`Wf}G  
tEl4 !vA  
高级选项&信息 ?$^qcpJCp  
')w*c  
-j_J1P0,  
VNbq]L(g  
在探测器位置处的备注 t9()?6H\  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 s:/.:e_PU  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 R`:NUGR  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 0|:Ic
,  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） oa?
e
K  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 c#e_Fs  
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41TB  
文件信息 VPTT*a`  
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QQ：2987619807 v=|BqG`