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摘要 SHc?C&^S B,q)<z6< 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 q)l1tC72 u?F^gIw
j].=,M<dxE z"D0Th`S6 该用例展示了… BvLC% 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: !X5LgMw^ ; 倾斜光栅介质 !C& ^%a 体光栅介质 !gm@QO cF 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 d4m@u$^1B x
MFo dHkI9; {.j030Q 光栅工具箱初始化 6J]8BHJn+ Rb_%vOM
ri2`M\;gt 初始化 KY%LqcC 开始-> &R))c|>OT& 光栅-> >g;995tG 通用光栅光路图 V"|`Z}XW 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 YO9ofT 光栅结构设置 S-[S?&c` 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ]i/Bq!d l 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,_UTeW6M 堆栈可以固定到基底的一边或两边 eMLcmZJR Y<t(m$s 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 #Y0ru9 Gn %"B6 堆栈编辑器 &u4;A[-R >rYkVlv %,+&Kl
I U;=1v:~d 堆栈编辑器 1=_Qj}!1 Eq=j+ch7 FOAXm4" 涂层倾斜光栅介质 %l3f . YCq:] 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 n#5S-z1KNw 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 P&h]uNu 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 Ae;mU[MK/ 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) ]G~Z'fs<( X>i{288M3
`|<? sjY 1pz-jo,2' 涂层倾斜光栅介质 &
h\!#X0 y7Nd3\v [\ AqT}^fS PVSz%" 涂层倾斜光栅介质 C;%1XFzM 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Ri>ZupQ6 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 K@vU_x0Sl 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 2%/+r
RgVnx] IF G0h e'BR )XDbg> 涂层倾斜光栅介质参数 m7u" awM^ SPp|/ [i7
(K('@W%\? AYAbq}'Yt 涂层倾斜光栅介质参数 k3T374t1b Mzw:c# rYM@e ~
\b~ 高级选项&信息 'A9Z (( 在传输菜单中,多个高级选项可用 30O7u3Zrb 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 VNs3. 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 buDz]ec
b 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 V@nZ_. 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 d(K}v\3! TUARYJ6= BDCyeC,Q3 "y60YYn-#J 高级选项&信息 .vie#,la 高级选项标签提供了结构分解的信息
WtC&Qyuq 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 n7|,b-
< 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 -@XOe&q 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 HP\5gLVXY O=jzz&E+
o+Mc%O Z V{fG~19
高级选项&信息 Hzz v 6k mNsd&Rk'
j9X|c7| !;K zR& 高级选项&信息 ijDXh y /6Kx249Dw m
?*h\NaB xUTTRJ(\ 体光栅介质 HQnc`2 4(,M&NC
另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 lqmr`\@) 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 d5`D[,]d 同时,两个平面界面作为介质的边界 ay#f\P!1 VB`% u= HBZ6 Pj 8T[<&<^- 体光栅介质参数 ^9><qKbO bn7g!2 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ]<K"`q2 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 pK ^$^*# 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 Y[W :Zhl; 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) N( f0, R\<d&+q@ 57q?:M=^ de;CEm<n 体光栅介质参数 qFl|q0\ A 7-0j8$` Zy.3yQM9i Ug384RzHN 高级选项&信息 q,> C^p|2b /}
h"f5 QKhGEW~G $/ $Hi U`. 高级选项&信息 :^-\KE`3 2H`>Kj
y0p\Gu;3j )[u'LgVN/L 在探测器位置处的备注 dkqyn"^ 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 7u
rD 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 Xoha.6$l5 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 UFC^lv 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) rHuzGSX54 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 5"(FilM }0f~hL24
G:@1.H` dk"@2%xJ2d 文件信息 RS@[ +! :t z.+%{_pe Az-!X!O*f dpX Fx"4A IM,4Si2 QQ:2987619807 <
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