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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 SHc?C&^S  
    B,q)<z6<  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 q)l1tC72  
    u?F^gIw  
    j].=,M<dxE  
    z"D0Th`S6  
    该用例展示了… BvLC%  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: !X5LgMw^;  
    倾斜光栅介质 !C&  ^%a  
    体光栅介质 !gm@QO cF  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 d4m@u$^1B  
    x MFo  
    dHkI9;  
    { .j030Q  
    光栅工具箱初始化 6J]8BHJn+  
    Rb_%vOM  
    ri2`M\;gt  
     初始化 KY%LqcC  
    开始-> &R))c|>OT&  
    光栅-> >g;995tG  
    通用光栅光路图 V"|`Z}XW  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 YO9ofT  
    光栅结构设置 S-[S?&c`  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ]i/Bq!d l  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,_UTeW6M  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 eMLcm ZJR  
    Y<t(m$s  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 #Y0ru9  
    Gn%"B6  
    堆栈编辑器 &u4;A[- R  
    >rYkVlv  
    %,+&Kl I  
    U;=1v:~d  
    堆栈编辑器 1=_Qj}!1  
    Eq=j+ch7  
    FOAXm4"  
    涂层倾斜光栅介质 %l3f .  
    YCq:]  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 n#5S-z1KNw  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 P& h]uNu  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 Ae;mU[MK/  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) ]G~Z'fs<(  
    X>i{288M3  
    `|<? sjY  
    1pz-jo,2'  
    涂层倾斜光栅介质 & h\!#X0  
    y7Nd3\v [\  
    AqT}^fS  
    P VSz%"  
    涂层倾斜光栅介质 C;%1XFzM  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 Ri>ZupQ6  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 K@vU_x0Sl  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 2%/+r  
    RgVnx]IF  
    G0he'BR  
    )XDbg>  
    涂层倾斜光栅介质参数 m7u" awM^  
    SPp|/ [i7  
    (K('@W%\?  
    AYAbq}'Yt  
    涂层倾斜光栅介质参数 k3T374t1b  
    Mzw:c#  
    rY M@e  
    ~ \b~  
    高级选项&信息 'A9Z ((  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 30O7u3Zrb  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 VNs3.  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 buDz]ec b  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 V@nZ_.  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 d(K}v\3!  
    TUARYJ6=  
    BDCyeC,Q3  
    "y60YYn-#J  
    高级选项&信息 .vie#,la  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 WtC&Qyuq  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 n7|,b- <  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 -@XOe&q  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 HP\5gLVXY  
    O=jzz&E+  
    o+Mc%O Z  
    V{ fG~19  
    高级选项&信息 Hzz v 6k  
    mNsd&Rk'  
    j9X|c7|  
    !;K zR&  
    高级选项&信息  ijDXh y  
    /6Kx249Dw  
    m ?*h\NaB  
    xUTTRJ(\  
    体光栅介质 H Qnc`2  
    4(,M&NC  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 lq mr`\@)  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 d5`D[,]d  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 ay#f\P!1  
    VB`% u=  
    HBZ6Pj  
    8T[<&<^-  
    体光栅介质参数 ^9><qKbO  
    bn7g!2  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ]<K"`q2  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 p K ^$^*#  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 Y[W:Zhl;  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) N( f0,  
    R\<d&+q@  
    57q?:M=^  
    de;CEm<n  
    体光栅介质参数 qFl|q0\ A  
    7-0j8$`  
    Zy.3yQM9i  
    Ug384RzHN  
    高级选项&信息 q,> C^p|2b  
    /} h"f5  
    QKhGEW~G  
    $/$Hi U`.  
    高级选项&信息 :^-\KE` 3  
    2H`>Kj  
    y0p\Gu;3j  
    )[u'LgVN/L  
    在探测器位置处的备注 dkqyn"^  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 7u rD  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 Xoha.6$l5  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 UFC^ lv  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) rHuzGSX54  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 5" (FilM  
    }0f~hL24  
    G:@1.H`  
    dk"@2%xJ2d  
    文件信息 RS@[ +!:t  
    z.+%{_pe  
    Az-!X!O*f  
    dpX Fx"4A  
    IM,4Si2  
    QQ:2987619807 < +k dL  
     
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