[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 9*;isMkq<  
82za4u$q#  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 M/a/H=J  
Y@H,Lk  
}Tr83B|  
CQ.4,S}6'  
该用例展示了… 0DB<hpC:5  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： IS2Ij  
倾斜光栅介质 ;b?+:L
  
体光栅介质 W}k?gg=  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 X/-KkC  
(4ci=*3=  
kgI=0W>  
~,!hE&LE~  
光栅工具箱初始化 :F>L;mp  
IHbow0'  
h:jI  
 初始化 /;nO<X:XV  
开始-> ~5 pC$SC6>  
光栅-> d=(Yl r  
通用光栅光路图 }gi1?a59  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 V87ee,  
光栅结构设置 J)8pqa   
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Z"~6yF  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 r(1pvcWY-  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 'RV\}gqZ  
ys[i`~$  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 EkStb#  
B#GZmv1  
堆栈编辑器 $sc8)d\B  
O3C)N I\i  
j+13H
+dN  
M,\|V3s  
堆栈编辑器 oyN+pFVB:$  
lv\F+?]a  
p=-B~:  
涂层倾斜光栅介质 h`EH~W0:z  
!v5sWVVR  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 eW"x%|/Q7  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 R!/,E  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 &Qq/Xi,bZ  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） SEQO2`]e:  
[Yx-l;78  
=>:% n  
U)`3[fo  
涂层倾斜光栅介质 @8M'<tr<z  
o >Rw}R  
Xw*%3'  
1RI#kti-"  
涂层倾斜光栅介质 nF. ;LM  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 1FD7~S|  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 n^JUZ8  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 UYcyk $da  
(iCZz{l@~  
E2qB:  
xyS2_Q  
涂层倾斜光栅介质参数 7dufY }}  
gQI(=in  
KMpDlit  
Y uw E 0  
涂层倾斜光栅介质参数 (!_X:+0_  
ui.QYAYaV  
]xJ'oBhy  
h=v[i!U-eY  
高级选项&信息 U5On-T5  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 JO&;bT<  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 }"&n[/8~  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 /\,
_P  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Ypn%[sSOp  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 I*+LJy;j
 
H#kAm!H
 
SgCqxFii  
7zJrT5   
高级选项&信息 ]|C_`,ux  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 'FPcAW^8  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 rnMG0  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 @H3s2|  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 =9DhO7I'  
xP{HjONu  
~zE 1'  
Q8;x9o@p  
高级选项&信息 0^<Skm27"  
r%Q8)
nEo  
.KiPNTh'  
R (tiI
o  
高级选项&信息 r/N[7*i  
:Bx+WW&P.i  
5(iSOsb  
bK_0NrXP  
体光栅介质 xVsa,EX b  
(!3Yc:~RE  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 eHVdZ'%x  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 g( ]b\rj  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 p~Yy"Ec;p  

U,%s;  
"fX_gN?  
"xe7Dl  
体光栅介质参数 dJdD"xj  
]97Xu_  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 8Ehy9<  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 /32Ta  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 N<L$gw+)$D  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） V9+xL 1U#  
} D/+<  
&57qjA,8<  
;x!,g5q"q  
体光栅介质参数 l1-4n*fU  
Ap F*a$),  
~=`f]IL  
T!m42EvIvE  
高级选项&信息 E@5z
d@[  
o-\ok|,)#j  
MAuM)8_P/|  
S_(&UeTC  
高级选项&信息 ~u_K&X  
!6XvvTs/<  
^;V}l?J_s  
x><zGXvvp|  
在探测器位置处的备注 KW&nDut  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 T5K-gz7A  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 Nf=C?`L  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 4ggVj*{v  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ^z[_U}N\}  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ]sX7%3P  
H/cs_i  
Q9`s_4  

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文件信息 y,'FTP9?  
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QQ：2987619807 NJ >I%u*