[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要  b-yfBO  
@=isN'>]O  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ~UEft  
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b(a`  
GUJx?V/[  
gW$X8ECX  
该用例展示了… tNG0ft%a  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ,J!G-?:@n  
倾斜光栅介质 fiES6
VL  
体光栅介质 ezgP\ct  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ~\
6Kq`Y  
)zf&`T  
d[6[3B  
)Gh"(]-<  
光栅工具箱初始化 Uf1i"VY  
iQ~;to;Y  
~bf-uHx  
 初始化 iYEhrb
 
开始-> B_aLqB]U  
光栅-> OB.TAoH:  
通用光栅光路图 xi %u)p  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ncuqo'r  
光栅结构设置 eR$qw#%c*  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 1}%vZE2  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 j;WZ[g#t  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 [z'PdYQR/{  
" ;8H;U`  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 >WVos 4  
-hZlFAZi  
堆栈编辑器 :D\M.A  
D C{l.a.  
:*4b,P  
*I:^g  
堆栈编辑器 ]DHB'NOh,  
,9SBGxK5`  
x\z*iv  
涂层倾斜光栅介质 p%/

Z  
:D|"hJ  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 +*Y/+.4WE$  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Zi<Y?Vm/,O  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 b1>zGC^|  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） jNd."[IrO  
i|?EgGFG  
X0wvOs:  
He @d~9M  
涂层倾斜光栅介质 E4idEQ}H  
$Y& 8@/L  
D"UCe7  
&Azfpv  
涂层倾斜光栅介质 tbG^9d  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 w
K>a&`<  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 C^oj/}^  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Osz:23(p  
0'j/ 9vm  
)(V|d$n  
P_6JweN  
涂层倾斜光栅介质参数 2NMS'"8  
j N":9+F  
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82d~>i%T  
涂层倾斜光栅介质参数 b/"&E'5-`\  
Y<0}z>^  
jiw5>RNt  
NNDW)@p6z  
高级选项&信息 X0G6Wp  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 #2 Gy=GvV  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 t,H=;U#  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 K{DsGf,  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 2E7vuFH4c  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 d7(g=JK<  
?D[9-K4Vn  
xb8S)zO]Q  
1j4tR#L  
高级选项&信息 JO3"$s|t  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 pSMF1Oy  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 *DBm"{q%&k  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 TQhu$z<  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 <yt|!p-tS  
B L^?1x  
1V/?p<A  
':fq/k3;&  
高级选项&信息 u_31Db<  
K3g<NC  
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}o}  
高级选项&信息 dbVMG-z8  
'\g-z  
4zo^ b0v  
Pk{eGG<F$  
体光栅介质 kz30! L  
^\"@r%|  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 L'A9TW2  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 z:gp\  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 HgY [Q}7s  
VAD9mS^~  
yq7gBkS  
Q3h_4{w  
体光栅介质参数 `PoFKtVXM  
E^K<b7  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 M_BG:P5  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ,y>Sq +  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 h&|PHI  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） >v?&&FhHK<  
v~.nP} E^  
uE'O}Y95  
Nv[MU@Tv  
体光栅介质参数 %:S4OT8]  

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k.5(d.*(  
-|.Izgc  
高级选项&信息 > a?K![R  
R"2wop  
4-r5C5o,W  
+`RQ^9  
高级选项&信息 ko-,l6E  
d}:eLC  
Ea,L04K  
mxPzB#t4  
在探测器位置处的备注 ]Y.GU7`  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 z?3t^UPW  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ;n\$'"K&;  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 rWMG6+Scb  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 7ciSIJ  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 1fOH$33  
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文件信息 t@vVE{`  
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QQ：2987619807 "h`oT4j5q