切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1769阅读
    • 0回复

    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6794
    光币
    28119
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 B7o US}M  
    X gtn}7N.  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Y@T$O<*  
    + [$Td%6  
    /ZH*t\  
    j_0l'Saj  
    该用例展示了… `49!di[  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: |8GLS4.]t  
    倾斜光栅介质 +$/NTUOP  
    体光栅介质 wnQi5P+  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 BuxU+  
    Q7/Jyx|  
    R$+"'N6p  
    :/RvtmW  
    光栅工具箱初始化 e:_[0#  
    VD =f 'D  
    frV_5yK'  
     初始化 D}-HWJQA3  
    开始-> #Pg?T%('`  
    光栅-> Y|W#VyM-  
    通用光栅光路图 :R$v7{1  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 t^%)d7$  
    光栅结构设置 PQz[IZ  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 v3kT~uv  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 x@pzgqi3  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边  J&+"  
    s!Iinc^p  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 &lxMVynL  
    vVsaGW   
    堆栈编辑器 Qkw_9  
    ?iHcY,  
    :r{W)(mm  
    <xH! Yskc  
    堆栈编辑器 vB5mOXGNq  
    rm|,+ {  
    AU9:Gu@M/  
    涂层倾斜光栅介质 %L-{4Z!"sI  
    uOZSX.o^  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 *)HVK&'  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 NvpDi&i  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 M.C`nI4  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) !9j6l 0  
    +j$nbU0U  
    zhyf}Ta'  
    c]ga) A(  
    涂层倾斜光栅介质 V=Bmpg  
    eQqCRXx  
    h_g "F@  
    ?3v-ppw%  
    涂层倾斜光栅介质 ``kesz  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 U-{3HHA  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Cwji,*  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 VwXR,(  
    zNEN[  
    l9H-N*Wx  
    piIGSC  
    涂层倾斜光栅介质参数 N2u4MI2  
    1Eryw~,,9i  
    PX?^v8wlqL  
    >F/E,U ]  
    涂层倾斜光栅介质参数 RGY#0.Z}  
    a"k,x-EL(  
    *_a jb:  
    ma`sv<f4-!  
    高级选项&信息 7EL0!:Pp3  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 CdtwR0  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Dd$8{~h"G  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 )>;387'Y  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Cth<xn(Q  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 zT hut!O  
    .Lm`v0' w  
    Y)M-?|4  
    vgr 5j  
    高级选项&信息 !__^M3S,k  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 W,nn,%  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 b}hQU~,E  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 fECmELd  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 P1`YbLER5  
    t*c_70|@k  
    ~6Odw GWV  
    XhOg>  
    高级选项&信息 grJ(z)c  
    SNHAL F  
    ^)3=WD'!  
    7~H$p X  
    高级选项&信息 #"o`'5  
    3b<;y%  
    ^4{{ +G)j  
    6(q8y(.`  
    体光栅介质 !B#tJD  
    >R\!Qk  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 !zfV (&  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 7TZ,bD_  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 pWb8X}M  
    VB4ir\nF  
    ZYz8ul$E  
    1.a:iweN  
    体光栅介质参数 RRGs:h@;  
    .5#+)] l  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 R ~#&xfMd.  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 m2F+ 6G  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 3C#Sr6  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) asbFNJG{  
    70nBC  
    Wtflw>-  
    mxCqN1:#  
    体光栅介质参数 d ?,wEfwp  
    1(Lq9hs`  
    Oc / i'  
    Acb %)Y  
    高级选项&信息 @8SA^u0  
    08nA}+k  
    Dh9C9<Ta:  
    NcIr; }  
    高级选项&信息 G-DOI  
    W!a'KI'  
    )79F"ltz h  
    kg$w<C@#"  
    在探测器位置处的备注 sTi3x)#xB  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 -.UUa  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 +Ui%}^ZZ  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 5>h# hcL  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) /I0}(;^y  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 -QQU>_  
    AD"L>7  
    H$)otDOE  
    stOD5yi  
    文件信息 d-#yN:}0  
    s&6/fa  
    lZD"7om  
    (KphAA8  
    XC[bEp$  
    QQ:2987619807 {Ytqs(`   
     
    分享到