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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 J^:~#`8  
    @jHio\/_  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 MF`'r#@:wa  
    fW _.  
    9o`3g@6z  
    EMG*8HRI>r  
    该用例展示了… MeX1y]<It  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 2e"}5b5  
    倾斜光栅介质 RHbwq]  
    体光栅介质 F!{SeH:  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 YC'~8\x3z  
    $w\, ."y  
    6ZBD$1$A!  
    b G)MG0<TT  
    光栅工具箱初始化 `t6L'%\  
    mQd?Tyvn  
    rRYf.~UH@P  
     初始化 V{{x~Q9  
    开始-> &u-Bu;G.e  
    光栅-> Ysu/7o4  
    通用光栅光路图 Oe`t!&v  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 G.8b\E~  
    光栅结构设置 $P3nP=mf  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 [2V/v  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ]||=<!^kn  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 U@nwSfp:G  
    JuSS5_&  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 ;kBies>V  
    [<QWTMjR  
    堆栈编辑器 GwBQ p Njy  
    \<**SSN  
    S!_?# ^t  
    [[Z>(d$8  
    堆栈编辑器 46Nf|~  
    fx:KH:q3  
    4a!7|}W  
    涂层倾斜光栅介质 '.,.F0{x  
    3:1 c_   
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 uszSFe]E  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 gH3kX<e  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 1o>R\g3  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) WmUW i{  
    "~C#DZwt{  
    rrYp^xLa`  
    :'~ gLW>j  
    涂层倾斜光栅介质 4tJ4X' U  
    [dlH t;S  
    /}_c7+//  
    C} _:K)5q  
    涂层倾斜光栅介质 ( y*X8  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 p]Zabky  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 y$o=\:  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 WG}CPkj  
    j9'XZq}  
    \/'n[3x  
    a] =\h'S  
    涂层倾斜光栅介质参数 y4We}/-<  
    &>.1%x@R  
    x=Jn&4q  
    NqE7[wH  
    涂层倾斜光栅介质参数 ID#qKFFW  
    cu!bg+,zl  
    g4aX  
    GD{fXhgk  
    高级选项&信息 pm@Z[g  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 A>%UYA  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 %L>nXj  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 R(N(@KC  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 l~TIFmHkh%  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Sx9:$"3.X  
    N3p 7 0  
    I7z/GA\x  
    Fi% W\Y'  
    高级选项&信息 *jw$d8q2  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 DPQGh`J  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 F%Umau*1  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 Tv,.  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 H9Q7({v  
    f\_!N "HW  
    0k 0c   
    >ydb?  
    高级选项&信息 bSR+yr'?  
    )]?egw5l  
    Jo aDX ,  
    GL =XiBt  
    高级选项&信息 m2q;^o:J  
    *r,&@UB  
    *R\/#Y|  
    C1B3VG  
    体光栅介质 gq_7_Y/  
    QC5f:BwM  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 GHC?Tp   
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 ph12x: @B  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 P,;b'-5C  
    4:eq{n  
    G q:4rG|  
    ddq 1NW  
    体光栅介质参数 ciGpluQF  
    4IP\iw#w  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 kH8$nkeev  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 m7wc)"`t  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 a3dzok  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) +V);'"L  
    CziaxJ  
    |;U=YRi  
    ?+,*YVT  
    体光栅介质参数 D PS1GO*  
    RnA&-\|*  
    OT}Yr9h4  
    _{*$>1q  
    高级选项&信息 Dj ]Hgg  
    ?F87C[o  
    tk)>CK11  
    @Tfwh/UN  
    高级选项&信息 e8ULf~I  
    <qq'h  
    o(d_uJOB  
    C*EhexK,}  
    在探测器位置处的备注 aEEz4,x_  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 `gt&Y-  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 %%+mWz a  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 -_EY$ ?4  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) przubMt  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ),;D;LI{S  
    Ck3QrfM  
    N(_ .N6  
    Q k;Kn  
    文件信息 cbh#E)[ '  
    9QOr,~~s  
    dI_r:xN  
    t(j_eq}J  
    8_<&f%/  
    QQ:2987619807 uP(B<NfL:'  
     
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