[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 n~ >h4=h  
V"by9p|V`  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 3).o"AN  
uWB:"&!^  
Rs F3#H  
b({Nf,(a2  
该用例展示了… e9`uD|KAS|  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： yEUNkZ5^  
倾斜光栅介质 >6[ X }  
体光栅介质 .)@tXH=}+  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &:
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光栅工具箱初始化 h lkvk]v  
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 初始化 :#\B {)(  
开始-> qHR^0&  
光栅-> _(6B.  
通用光栅光路图 [7e{=\`=  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 .:Bwa  
光栅结构设置 rO(TG  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 5hJYy`h~  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 2z.8rNwT  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 uRm_  
y*}vG}e%  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 XewXTd#x  
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堆栈编辑器 Gf H*,1x  
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堆栈编辑器 @L[PW@:SZ  
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涂层倾斜光栅介质 X;OsH  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 Zk/' \(5  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 0q[p{_t`  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 #QTfT&m+G}  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） <78$]Z2we  
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涂层倾斜光栅介质 M<{5pH(K  
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涂层倾斜光栅介质 }osHA`x"2  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 xb =
8t!  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ,7^d9v3t  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 q+A<g(Xu  
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涂层倾斜光栅介质参数 [&h#iTRT  
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涂层倾斜光栅介质参数
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高级选项&信息 )XLj[6j0  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ?^%YRB&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 pN\)(:"8v  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 $}qDV> qo  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 = EQN-{#  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 )KSisEL  
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高级选项&信息 <8u>_
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 高级选项标签提供了结构分解的信息 UWQtvQ f  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 K :1g"  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 8[8|*8xqs  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 .)LZ`Ge3F  
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高级选项&信息 R[x7QlA;  
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高级选项&信息 &MCy.(jN  
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体光栅介质 %b=Y <v  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 *6:v}#b[  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 30D:ZmlY  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 s(Z(e %  
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体光栅介质参数 :.Y|I[\E%  
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 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Hal7 MP  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 \Ke8W,)ew  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 1o8wy_eSs  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） xpF](>LC(  
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体光栅介质参数 Kl{-zX  
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高级选项&信息 n
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高级选项&信息 QIQfI05  
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在探测器位置处的备注 X/l;s  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 _g[-=y{Bb  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 Jm4#V~w  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 k0L] R5W  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） r088aUO P  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 'TL2%T/)t  

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文件信息 r4u z} jl{  

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