[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 d}I(`%%)  
D@YP7  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 D vkxI<Xa  
=(r* 5vd  
P1zK2sL_  
dx_6X!=.J  
该用例展示了…  :S %lv  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： }k$4
/7ri  
倾斜光栅介质 FcbM7/  
体光栅介质 LX+5|u  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Bn wzcl  
h+7>#*DH  
")#<y@Rv  
<!^ [~`  
光栅工具箱初始化 P.WYTst=  
v@ C,RP9  
Eh8Pwt7C@  
 初始化 3C>qh{z"  
开始-> +54aO  
光栅-> j}HFs0<L  
通用光栅光路图 A/*%J74v  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 IfdI|ya  
光栅结构设置 >O`l8tM  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 \y Hen|%  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ^y.
UbI  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 8}p8r|d!ls  
K\!#4>yd  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 my\&
hCE  
[2Mbk~  
堆栈编辑器 4n( E;!s  
70W"G X&  
]TpU"JD  
PBqy F  
堆栈编辑器 c-]fKj7  
@|-OJ4[5  
&]p}+{ (>  
涂层倾斜光栅介质 ~4#B'Gy[  
'A{h iY  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 =jAFgwP\  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 @uleyB  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 -$8.3\6h  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） cSD{$B:  
%|Qw9sbd  
:KE/!]z  
<lwuTow  
涂层倾斜光栅介质 |^n3{m  
m)>&ZIXa  
#*$p-I=  
/I{R23o  
涂层倾斜光栅介质 %CH6lY=lI  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ETw]! br  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 :R6Q=g=  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 :-+4:S
  
`aSM8C\  
X T>('qy  
I}
0_nge  
涂层倾斜光栅介质参数 4
jwu'7Q  
u=K2Q4  
wz(K*FP  
p]|LV)R n  
涂层倾斜光栅介质参数 7XAvd-  
'x%x'9
OP  
APBK9ky
 
UZxmhsv  
高级选项&信息 h[Tk;h  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 &y.dmW  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 P'[<AZ  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 e1(h</MU2  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ?T'][q  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 !q/5yEJ>h  
6].:.b\qQc  
!C&%T]  
]|oJ)5P  
高级选项&信息 D(XqyN-P  
 高级选项标签提供了结构分解的信息
TUTe9;)  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 lgD]{\O$ip  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ej[Su  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ;bjnL>eW  
AlX3Wv}  
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A" !n1P
 
高级选项&信息 Z7#7N wy4  
78
Y@OL_$  
;;#nV$  
o:\XRPB  
高级选项&信息 s (PY/{8  
X#J6Umutm  
1i-[+  
\+B?}P8N*l  
体光栅介质 3E|;r _; 8  
UzQ$B>f  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ~ =.CTm]vf  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 U":"geU  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 !#}>Hv^N  
I'_v{k5ZI  
uLW/f=7L  
Jt=>-Spj  
体光栅介质参数 iJnh$jo  
TmP8q  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Rc9<^g`  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 AzjMv6N   
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 n`<S&KP|  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Auac>')&Q  
" i`8l.Lc  
rO^xz7K^  
b(&]>z  
体光栅介质参数 uPU#c\  
K-@bwB7~s  
l%PnB )F  
otnV-7)@  
高级选项&信息 _S5gcPcF"  
cjT[P"5$  
dXZP[K#  
iS-K ~qa  
高级选项&信息 IwRQL%  
7A0dl}:  
A2_Ls;]  
Q\WXi  
在探测器位置处的备注 ~d+O/:=K_  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 :uvc\|:s  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 `.8-cz  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ..$>7y}  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 8MQbLj'H  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 k~|ZO/X@l%  
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文件信息 ZbyG*5iq  

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QQ：2987619807 y4r2}8fi