[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 KOR*y(*8  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 GF@`~im  
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NfQQJ@*  
该用例展示了… UK'8cz9  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： i*l=xW;bM  
倾斜光栅介质 M`7lYw\Or!  
体光栅介质 Jm=3%H  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 TyO
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光栅工具箱初始化 kb$Yc)+R4  
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hH$9GL{H  
 初始化 vx$DKQK@l\  
开始-> bOYM-\ {y  
光栅-> 0f_`;{  
通用光栅光路图 EFU)0IAL[  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 >`WQxkpy  
光栅结构设置 _TdH6[9  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 `}ZtK574  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 2ETv H~23  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 |pknaz  
wg k[_i  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 3it*l-i\  
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堆栈编辑器 r0f&n;0U4  
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堆栈编辑器 #$ka.Pj  
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涂层倾斜光栅介质 )`<&~>qp  
&D|+tu{  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 "J&WH~8+N  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 T#e|{ZCbq  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 lQgavP W!  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） .i;?8?  
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涂层倾斜光栅介质 4j,6t|T  
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涂层倾斜光栅介质 # dUi['  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 r|z B?9Q  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 @d8Nr:  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 0<<ATw$aQ  
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涂层倾斜光栅介质参数 XE0b9q954  
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涂层倾斜光栅介质参数 /,<s9 :  
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高级选项&信息 #<V5sgqS  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 M
4 }))  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 A[F@rUZp  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 [T3%Xt'4  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Jh4pY#aF  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 xMpgXB!'  
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高级选项&信息  zDxJK  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 E8lq2r=  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 p&2d&;Qo0  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 [s] ZT  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 LOwd mj  
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X #$l7I9H  
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高级选项&信息 m,5?|J=  
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高级选项&信息 j]mnH`#BL  
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体光栅介质 UQP>yuSx  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ]T.+(\I  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 [4yw? U  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 alsD TQ'  
* ]D{[hV  
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g<$2#c}  
体光栅介质参数 M[u6+`  
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 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 "kVzN22  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 |v1* [(  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ,.|/B^jV  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） R`Hy0;X  
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体光栅介质参数 Y%}N@ ,lT  

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高级选项&信息 mGJRCK_  
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高级选项&信息 #veV {,g  
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在探测器位置处的备注 <:8Ew  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 h 'Hnq m  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 _w'_l>I  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 0f'LXn  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ip1gCH/?_+  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 8f65;lyN  
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