[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 W?eu!wL#p  
{dL?rQ>5L  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 n>A98NQ  
;=<-5;rI  
(tCUlX2  
HcedE3Rg  
该用例展示了… -T&.kYqnb$  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： s
rYJp^sC  
倾斜光栅介质 s/7 A7![  
体光栅介质 05snuNt]-  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 i
thewup  
g8w2Vz2/  
`2`\]X_A{  
.\8X[%K9nc  
光栅工具箱初始化 ^=:9)CNw(  
+,yK;^b  
^Ve<>b  
 初始化 t=u Qb=  
开始-> {X*^s5{
;H  
光栅-> Gg~QAsks   
通用光栅光路图 #7ov#_2Jd  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 >IX/< {);M  
光栅结构设置 549jWG  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Rb%%?*|  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 M
)+$wp  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 C=s1R;"H  
k6Uc3O  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 Vpr/  
o/C\d$i'  
堆栈编辑器 9_QP!,  
@&]#uRl|[  
H-3Eo
#b#  
[tg^GOf '  
堆栈编辑器 8a_[B~  
M.nvB)  

8E8N6  
涂层倾斜光栅介质 WHAQu]{  
+uBLk0/)>  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 52.>+GC  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 R-Z~V  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 P
i Fm|  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） +3a?`Z  
C-8qj>  
4;HJ;0-ps  
(
ewe"N+  
涂层倾斜光栅介质 }BiiE%a  
L:(1ZS  
*]h`KxuO  
,
ZQZ}`x(  
涂层倾斜光栅介质 0QvT
 
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 {CR5K9  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 i 9g>9  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 R
Jy=pNztm  
8scc%t7  
'kYwz;gp  
=C
L} $_  
涂层倾斜光栅介质参数 gPu2G/Y  
S,U Pl}KF  
:QWq"cBem  
`)qVF,Z}  
涂层倾斜光栅介质参数 bsd
99-_(4  
?88`fJ@tk?  
* ,v|y6  
VdP`a(Yd;  
高级选项&信息 5@hNnh16  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 @Kf_z5tm:  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 /m(=`aRt  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 c*`>9mv  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 []0mX70N  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 Fb/XC:AD  
ZhNdB  
SxK:]Aw  
~2d:Q6  
高级选项&信息 ?:|-Dq,  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 }n7th  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m%"uPv\  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 p'sc0@}_O  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 c}[+h5  
;Nr]X  
;f,c't@w  
V:/7f*n7  
高级选项&信息 #{9G sD  
"lNzGi-H  
5'w^@Rs5  
'a^{=+  
高级选项&信息 GpbC M~x  
BZb]SoA
L  
83cW=?UgA  
h;V,n  
体光栅介质 [ BT)l]  
577:u<Yt  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 WZ!WxX>zO  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 4f~["[*ea  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 W>M~Sk$v  
|wox1Wt|E  
D;Gq)]O  
+%N KQ'49I  
体光栅介质参数 Pv<FLo%u<  
iqhOi|!  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 IMnP[WA!  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 \n9A^v`F/  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Px5t,5xT8  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） mL~z~w*s  
8hA^`Y  
0Q593F  
p.fF}B  
体光栅介质参数 $jI>[%  
_,6f#t  
Ufo>|A6;$  
}.)s%4p8  
高级选项&信息 *m+5Pr`7  
4gdY`}8b^}  
yBLUNIr  
;r=b|B9c  
高级选项&信息 FVF-:C
 
5j"1z1_&  
&~B5.sppnB  
g8ES8SM  
在探测器位置处的备注 RA a[t :|  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 %;z((3F  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ~un%4]U  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 `-B+JQmen  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Y{f7 f'_  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 j2h[70fWC  
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文件信息 %Hi~aRz  
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QQ：2987619807 %@ mGK8