[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ; 476t  
}7PJr/IuF  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ,!= sGUQ)  
.k#PrT1C  
O4rjGTRF  
I4Do$&9<D  
该用例展示了… kZ9Gl!g  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 7qC /a c  
倾斜光栅介质 <spG]Xa<  
体光栅介质 e$LC  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 -Jv,#Z3  
.Xlo-gHk  
KOixFn1  
5Tn<  
光栅工具箱初始化 uQ=u@qtp  
#X(2  
g[cnaS|?  
 初始化 Z%~}*F}7X  
开始-> G^'We6<  
光栅-> Zpd-ob  
通用光栅光路图 ; _%zf5;'  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 8\J$\Edv  
光栅结构设置 P@y)K!{Nk  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 | BaEv\$K  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 {$S"Sj  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 r] /Ej!|  
CvIuH=,  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 = MByD&o`  
9Og  
堆栈编辑器 /qdvzv%T  
Csyh 'v  
2j f!o  
T m"B  
堆栈编辑器 "8Dm7)nB  
'IU3Xu[-.  
yp~z-aRa  
涂层倾斜光栅介质 ^"Bhp:o2  
S @[]znH  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 gj|5"'g%  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Q8m~L1//S  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 O0}uY:B  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） p3_ Qx  
&5}YTKe}|  
=1Plu5  
k;qS1[a  
涂层倾斜光栅介质 L IKuK#  
oVK?lQ~y  
\: ZDY(>1  
7a[6@  
涂层倾斜光栅介质 0 Rb3|te  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 }a OBQsnO  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Q 1i5"'][  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 0Hrvr  
YM#'+wl}`  
IAA_Ft  
Vc0j)3  
涂层倾斜光栅介质参数 ?* ~4~ZEE  
Ztk%uc8_lM  
Zl[EpXlZ  
t!4 (a0\$F  
涂层倾斜光栅介质参数 ,b^Y8_ltoT  
*vQ 6LF;y  
FOD'&Yb&  
^5Y<evjm  
高级选项&信息 J"#6m&R_q  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 '*[7O2\%/  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 h~QQ-  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 e!=7VEB  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 8K^#$,.."  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 >07i"a  

WiZkIZ  
N[9o6Nl|a  

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pv  
高级选项&信息 M19O^P>[  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 5X8 i=M;  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 5%wA"_  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 8-gl$h  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ^G qO>1U  
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FoE}j   
'RwfW|~6  
高级选项&信息 PL"=>  
2cu2S"r  
zM8 jjB  
0rX%z$D+@  
高级选项&信息 ;=0-B&+v  
Q@p'nE,  
H.hKh  
3]iw3M  
体光栅介质 E*R-Dno_F  
Vh01y f  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Ce//;Op  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 n=f?Q=h\3  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 -^np"Jk  
Rhlm  
`?^<r%*F.  
ZHwl9n#m  
体光栅介质参数 %X}D(_  
qi^kf  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 b L.Xby<Y  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 0(C[][a*u  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 '?90e4x3/  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件）  w@mCQ$  
rD6NUS  
2/ )~$0  
>;G7ty[RX7  
体光栅介质参数 n\7>_  
8\)4waz$  
K7$Q.  
ld%#.~Q  
高级选项&信息 iyR5mA  
)MV `'i  
xt@v"P2Ok  
H>\lE2  
高级选项&信息 D41.$t
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-R$Q`Xw  
yqJ>Z%)hf  
/^i_tLgb  
在探测器位置处的备注 Ug[0l)  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 x wfdJ(&  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 K-(C5 "j_  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ](+u'8  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） JBV 06T_4o  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 u3X!O  
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MsBfL  
Q>z(!'dw  
SbtZhg=S_  
文件信息 QVb{+`.7  
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QQ：2987619807 80U(q/H%9