[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 LigB!M  
+:.Jl:fx4  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 172G  
]=00<~ l*q  
qh~bX i!  
Cy]=Y  
该用例展示了… Cf=H~&`Z  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ,Y/B49  
倾斜光栅介质 V.P<>~W  
体光栅介质 .J)TIc__|A  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 TVD~Ix  
E$)|Kv^  
b&U1
^{(  
}tW-l*\U  
光栅工具箱初始化 L/"};VI  
D*%am|QL  
G%erh}0~  
 初始化 R&Y_  
开始-> Sf*)Z3f  
光栅-> f8]sjeY  
通用光栅光路图 \X8b!41  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 !CGX\cvW  
光栅结构设置 K3?5bT_{  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 W[8Kia-OD  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 U>E: Ub0r  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 1MLL  
~T1W-ig4[*  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 I\.|\^  
tK%ie
\  
堆栈编辑器 Tc6c
Be,  
@V%\Gspv  

b/'bhE=  
i.Rl
&t  
堆栈编辑器 >|QH I d8  
Zhq_ pus"a  
}`"}eN @,  
涂层倾斜光栅介质 N(&{~*YE  
n[3z_QI  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 a: "1LnvR  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 }iUK`e  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 /f3/}x!po  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） =0)|psCsM  
P1eSx#3bR  
(9]Uuvfp6"  
aA`eKy) \  
涂层倾斜光栅介质 +:FXtO>n"  
:;+!ID_
  
]8p{A#1  
<Ua~+U(FR0  
涂层倾斜光栅介质 pDR~SxBXr  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 {*yvvb  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 pbVL|\oB}  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 @{y'_fw  
/Q1*Vh4  
TA[%eMvA  
?xj8a3F  
涂层倾斜光栅介质参数 uH[WlZ4  
Rt8[P6e"q  
PtfG~$h?  
C >*z^6Gz  
涂层倾斜光栅介质参数 rqamBm 5  
j6qtR$l|  
C]ss'  
l]]NVBA])  
高级选项&信息
7Nq< o5  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 UleT9 [M  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 qOo4T@t3  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 sVFO&|
L  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 4Q|>k)H  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 z=D5*  
t#NPbLZ  
S2$E`' J  
OgF[=  
高级选项&信息 ,>j3zjf^  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 A0{xt*g   
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 zj`c%9N+  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 n8,%<!F^  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 8~'cP?  
^z *0  
#HcQ*BiF3  
_^<vp  
高级选项&信息 R$:-~<O  
9)!Ksg(h  
4:V +>Jt  
)M8d\]  
高级选项&信息 iJTG+gx  
@yTu/U  
TK5$-6k  
,cxqr3 o  
体光栅介质 .O-)m'5  
f.g!~wGD  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 LK h=jB^bT  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 $xu2ZBK  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 7'wpPXdY1  
khX/xL  
4phCn5  
voZaJ2ho/O  
体光栅介质参数 }u^bTR?3  
2zj` H9  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Hca(2 ]T-  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率  <$nPGz)}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 "@x(2(Y&  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） :V9Q<B^  
LW=qX%o{  
\9+,ynJH8z  
Z_ElLY  
体光栅介质参数 5H._Q  
NZGO8u  
&OU.BR>  
|]kiH^Ap  
高级选项&信息 /qQx~doK  
I]ej ]46K  
h#zm+([B*  
ZRhk2DA#FF  
高级选项&信息 :lu!%p<$  
ca
=MUm=B  
r,eH7&P9{  
3n2^;b/]  
在探测器位置处的备注 caEIE0H~  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 GVT 6cR  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 6Emn@Mn=  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 -n:2US<  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Yte*$cJ=  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 !d##q)D f?  
#7fOH U8v  
$Y/z+ea  
q`AsnAzo&  
文件信息 >uCO=T,|  
Z{3=.z{&^=  
_3 !s{  
42`Uq[5Y  
B)k/]vz)*D  
QQ：2987619807 f?.}S]u5