[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 $yR{ZFo  
//4p1^%  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 NZi'eZ{^`  
EP% M8  
R,(+NT$
 
:">~(Rd ZH  
该用例展示了… e2VL/>y`  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： FrE/K_L  
倾斜光栅介质 u+, jAkr  
体光栅介质 S4uR\|  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 $7k04e@]  
^HU=E@  
G1n>@Y'j''  
4=#QN  
光栅工具箱初始化 (t]R#2{  
+MZ2e^\F  
\[hrG?A  
 初始化 )9;kzp/  
开始-> =fu_ Jau}  
光栅-> J3!k*"P  
通用光栅光路图 07HX5 Hd  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ]T28q/B;k  
光栅结构设置 6b1 Uj<  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Q=9VuTE  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 r0XGGLFuZl  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 KcMzZ!d7m  
;tIIEc  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 `:^)"#z)
 
_|2";.1E  
堆栈编辑器 5E!|on  
5tbiNm^X  
r%?}5"*  
=*O9)$b  
堆栈编辑器 @o-evH;G  
vA $BBXX  
8i+jFSZ
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涂层倾斜光栅介质 E<.{ v\  
{Ac3/U
M/  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 'XjHB!!hU  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 )7BNzj"~  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 VE+p&0  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） r|sy_Sk/{  
U S~JLJI
 
A_dYN?^?|  
s!zr>N"  
涂层倾斜光栅介质 Vt 5XC~jK  
@x\gk5  
ieK'<%dxF  
-Z#]_C{Y-)  
涂层倾斜光栅介质 E"vi+'(v  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 "q#g/T  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 'G By^hj?  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 pRfHbPV?  
dYttse'  
< oG\)!O  
v,
O&UrZ  
涂层倾斜光栅介质参数 PfMOc+ q  
[@71  
L&F\"q9q71  
kKTED1MW&W  
涂层倾斜光栅介质参数 >Sl:Z ,g;  
y#SD-#I-  
w+ )GM  
zK]%qv]  
高级选项&信息 ;{#M  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 D"><S<C\C  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 U8@*I>vA  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 SOY#, Zu  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 dXSb%ho  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ~<Qxw>S#  
+/ d8d  
.*..pf|/  
TEy.zzt  
高级选项&信息 
A&|(%  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 GAe_Z(T  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 +R jD\6bJb  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ;bu;t#  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 k{$"-3ed  
j;c^pLUP  
olW`.3f  
bSKV|z/x  
高级选项&信息 1+[|pXT}  
0hr)tYW,G  
P=hf/jOv9  

\%Ih 6  
高级选项&信息 )=y6s^}  
K":tr~V;  
9S`b7U=P  
$XzlW=3y  
体光栅介质 Nd!=3W5?  
:BiR6>1:  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ]uXsl0'`V  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 <Gt{(is  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 CF 0IP  
?DTP-#5Ba  
QRix_2+  
k:yu2dQh  
体光栅介质参数 H s 3*OhK\  
J:!Gf^/)  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 :9< r(22  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Q ?<9  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ed2&9E>9b  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） [Cr~gd+q  
--hnv/AjI  
>dH*FZ:c  
\?IwR]@y  
体光栅介质参数 gDBQ\vM8  
tUnVdh6L.B  
69w"$Vk  
+opN\`  
高级选项&信息 `^Sq>R!;  
zIm!8a  
jCa;g{#@  
?Gu>!7  
高级选项&信息 -C]a2  
$+N^ s^  
J<O_N~$$*  
L-TVe  
在探测器位置处的备注 O/~^}8TLL  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 YCdxU1V  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 sM_e_e  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 t9l7 % +y  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） BGjTa.
&  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 2C&%UZim;P  
pZn%g]nRD  

Bbp9Q,4  
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文件信息 jg/<"/E  
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QQ：2987619807 
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