[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 -byaV;T?"  
VQ2'a/s  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 dWi.V?K4z  
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hcYqiM@8>  
~ oq.yn/1  
该用例展示了… :M`~9MCRf  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： KjF8T7%  
倾斜光栅介质 >dw 0@T&p  
体光栅介质 Z0'LD<  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 v^p* l0r6:  
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K&gE4;>  
cG@Wo8+  
光栅工具箱初始化 "WXUz  
-*ZQ=nomN  
-{z[.v.p  
 初始化 $3ZQ|X[|+  
开始-> t.O~RE  
光栅-> _F4=+dT|  
通用光栅光路图 yzL9Ic  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图  z.2UZ%:  
光栅结构设置 4 CiRh  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 U;u4ey  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 d>#X+;-k  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 u%1JdEWZd  
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 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 4"iI3y~Gw  
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堆栈编辑器 Ytqx0  
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堆栈编辑器 8 K)GH:a  
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6  
涂层倾斜光栅介质 zA$ f$J7\^  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 d#ab"&$bv  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 [
x`),3qD  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 opzlh@R 3  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ]z=dRq  
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涂层倾斜光栅介质 ~qTChCXP  
XI`s M~'  
U!BZsVx  
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涂层倾斜光栅介质 ]1h9:PF  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 !kh:zTP  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 KMl3`+i  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 m?4HVv  
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ALInJ{X  
涂层倾斜光栅介质参数 am| 81)|a  
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涂层倾斜光栅介质参数 'fzJw  
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高级选项&信息 q!h'rX=_-  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 lD# yXLaC\  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 z$/s` |]  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 J~ *>pp#U  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 {8%KO1xB  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 Gu2=+?i?h  
U`)d `4"  
DD>n-8M@>  
4JH^R^O<n  
高级选项&信息 ,d^HAg^j  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 VP
Vg\K{  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 .+lx}#-#  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 {9Q**U`w  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 j~9![s!  
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Fd%JF#
Hk  
~eiD(04^r*  
高级选项&信息 K
z]\o"K
 
q+?q[:nR-  
YCdtf7P=q  
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高级选项&信息 Wk }}f|O0  
lgbq^d  
br?pfs$U  
1k$5'^]^9]  
体光栅介质 ClPE_Cfw~  
DW)81*~g  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 7WNUHLEt  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 I(/*pa?m{  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 3A! |M5  
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"837b/>/  
(7??5gjh  
体光栅介质参数 R|*Eg,1g -  
q1rD>n&d  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 7eF
FKl  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 '_91(~P  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 v++&%  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 5ne&6  
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体光栅介质参数 }YU\}T-P  
J)H*tzg  
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@F|pKf:M+  
高级选项&信息 F84<='K  
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高级选项&信息 ?lU(FK  
!2.eJ)G  
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在探测器位置处的备注 zXIdup@  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 v&sl_w/tn  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 >h$Q%w{V  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Q-yNw0V}F  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ;O<-4$  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 7gRR/&ZK  
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文件信息 1%";|  
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