[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ,:MUf]Ky  
Bss*-K]  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 T4gfQ6#  
{4f%UnSz(  
ggYi7Wzsd  
ZrA*MN  
该用例展示了… aG4 ^xOD  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： Gl45HyY_  
倾斜光栅介质 riaL
[4c  
体光栅介质 99,=dzm  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 /h`gQyGuY  
SMRCG"3qwA  
{#`wW`U^  
S1'?"zAmd  
光栅工具箱初始化 4gdXO  
l[m*csDk"  

t}pYSSTz  
 初始化 )`\Q/TMl5  
开始-> 9.( [,J  
光栅-> MBKF8b'k  
通用光栅光路图 B9cWxe4R#  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图
*ezft&{)`  
光栅结构设置 T?=]&9Y'  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Nlwt}7  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 \_(0V"  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边
xXmlHo<D  
TeR
bW  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 T?.l_"%%d  
KZ^>_K&  
堆栈编辑器 qf<o"B|_9  
Az#kE.8b*A  
oY,{9H37b  
OPqhdqo  
堆栈编辑器 sE|8a  
Z.unCf3Q  
[O!/hppN  
涂层倾斜光栅介质 w-v8P`V  
k*F9&-rtN  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 !,5qAGi0  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
$M4_"!  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上
$-!7<a-  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） v~._]f$:  
aYHs35  
^"vmIC.h  
EUH9R8)  
涂层倾斜光栅介质 ^(7l!  
HTMo.hr
  
Tkp"mT v?<  
C$LRX7Z`o  
涂层倾斜光栅介质 F*Yx1vj  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 hg'eSU$J  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 0D `9  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 \RFA?PuY  
Dsv2p~  
QAZs1;lU  
HAs/f#zAk6  
涂层倾斜光栅介质参数 Tgi7RAY  
-JFW ,8=8  
~=oCou`XF  
}20tdD ~  
涂层倾斜光栅介质参数 tO"AeZe%|  
9fM=5  
wZ`{ i  
JPgFTr  
高级选项&信息 ,MHF  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 /!/Pk'p=/  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 B/hQvA;(  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 gssEdJ  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Fy.!amXu  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 qk0cf~gz  
"l#"c{ee{  
6vJS"+ <  
&rG]]IO  
高级选项&信息 MBQ|*}+;  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 -ntQqHs  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ]Al)>  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 R7FI{A  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 WBzPSnS2  
PBiA/dG[;  
-ni@+Dy  

9]/:B8k  
高级选项&信息 j``Ku@/x0  
QNXS.!\P  
wW<u)|>ye  
#D>:'ezm  
高级选项&信息 p2+K-/}ApP  
Ggv*EsN/cC  
65mfq&"P?  
Q!7mN?l  
体光栅介质 /WX&UAG  
?D_}',Wx  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 7c@5tCcC-  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 YNp-A.o W@  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 =i/r:  
I0^oaccM  
n+vv %  
`P*wZKlW  
体光栅介质参数 ~1
S,[5u|s  
"`a,/h'  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 5,Co(K  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 rQpQqBu  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 <si
cldz  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） {e., $'#  
l)EtK&er(}  
eqWs(`  
@TzUcE  
体光栅介质参数 8'v:26   
XuU>.T$]c  
Z 2$S'}F  
cBCC/n  
高级选项&信息 9wdX#=I  
IZd~Am3
f  
%UV"@I+  
r -uu`=,  
高级选项&信息 {L M Q  
 (8/&  
{D[z>I;D  
+)_DaL E  
在探测器位置处的备注 Ov.oy
ke4  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 7s
VO?:bj}  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 )|Ka'\x
r  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ykGA.wo7/P  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） /<o?T{z<-  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ,
z+n@sUR:  
w`zS`
+4  
xBqZ: BQ  
8Qkw
g]X  
文件信息 )cm^;(#pV  
T[J8zLO  
#VZ js`d6  
bGlr>@;-r  
u|Ng>lU  
QQ：2987619807 5<7sVd.