[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ^qS[2Dy  
{-7];e  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 bn~=d@'  
[0Z r z+q  
H2E!A2\m  
|XLx6E2F  
该用例展示了… _dmgNbs
  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： "_}Hzpy5k  
倾斜光栅介质 V78QV3  
体光栅介质 C8-4 m68"  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Do=*bZ;A  
[-{L@  
%_KNAuM  
RUlM""@b  
光栅工具箱初始化 M_Z*F!al<  
N&-d8[~  
x\*`i)su  
 初始化 ~Q0jz/#c  
开始-> ^ :6v- Yx  
光栅-> VkRvmKYl  
通用光栅光路图 UF|v=|*{#  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 eH(
8T  
光栅结构设置 iVFHr<zk  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度  Ae<v  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 (`<l" @:_*  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 [NQ`S ~_:  
*G.6\  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 z"Gk K
T  
BN|+2D+S  
堆栈编辑器 D?)"Z$  
fY}e.lD  
:@`Ll;G  
u/hFf3  
堆栈编辑器 T,TKt%  
\T/~" w  
4IG'Tm  
涂层倾斜光栅介质 n-#?6`>a  
;B:'8$j$  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 BBnj}XP*4  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ZgcA[P  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 A%"mySW  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） z%hB=V!~91  
]mn(lK  
Fm#4;'x5E  
pV=X  
涂层倾斜光栅介质 s~6?p% 2]  
\(cu<{=rU  
ujXC#r&  
sG%Q?&-
 
涂层倾斜光栅介质 ']Nw{}eS`  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ";J1$a  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Y@c!\0e$  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 l=Jbuc  
B;SYO>.W  
J
a4O*C<  
Y`uL4)hR5  
涂层倾斜光栅介质参数 HH&`f3  
KA0Ui,q3  
JY(_}AAu  
PB.@G,)  
涂层倾斜光栅介质参数 ^+Ie   
G[)Ll=  
Q$iYhR  
'ZgrN14  
高级选项&信息 ]uI#4t~  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 SaH0YxnY+  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 S#/[>Cb  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ;$ D*,W *  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 nr
Jl>H  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 <Qe30_<K  
lM3UjR|@  
,P3nZ  
]E .+)>  
高级选项&信息 nbj&3z,  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 c`yLn%Of%  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 :rnn`/L  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 zF[kb%o  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 L~%@pf>  
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xL3-(K6e
 
z4D[>2*  
高级选项&信息 Vahfz8~w/  
4yW9}=N!  
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高级选项&信息 ng(STvSh:  
FaYDa  
tY-{uHW&h  
\Bg;}\8X  
体光栅介质 R*lJe6  
v@_b"w_TY  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 paF$o6\  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 CvW*/d q  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ZW{pO:-  
p^_2]%,QeM  
4:GVZR|-  
sPuNwVX>}I  
体光栅介质参数 yANk(  
x9)^0Hbo  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Tp2`eY5  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 'te4mY}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 }SIUsh'  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） bx`s;r=  
J8>y2rAi  
PzbLbH8A  
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体光栅介质参数 H3"90^|,@  
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高级选项&信息 7t &KKKV  
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高级选项&信息 BO)K=gl;8  
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在探测器位置处的备注 VX0q!Q  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ?UCK  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 \6~(#y  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 @(Q'J`  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） /qp)n">  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 w-9M{Es+j  
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文件信息 3.,O7 k7y  
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QQ：2987619807 $*a'[Qot#