[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 lb]k"L%KU7  
5;9.&f  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 CF5%&B  
;8gODj:dO
 
w$Mb+b$  
P2)g%$ME  
该用例展示了… %;`3I$  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 5JZZvc$au  
倾斜光栅介质 94XRf"^  
体光栅介质 }Z
`@Z'  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 C,u;l~zz  
v=H!Y";  
<pUc( tPoz  
;"%luQA<w  
光栅工具箱初始化 <zu)=W'R]  
BimM)4g  
q5w)i  
 初始化 <7X+-%yb;  
开始-> wSs78c=  
光栅-> 2K'}Vm+  
通用光栅光路图 T0}P 'q  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 =`%%
*  
光栅结构设置 ,@2d4eg4  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度
PvdR)ZEm  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义
%P]-wBJw  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 5TdI  
o-t!z'\l
O  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ?/s=E+  
nzu 3BVv  
堆栈编辑器 bRAf!<3  
s[@@INU  
P^*gk P  
YCQ+9  
堆栈编辑器 ]9pcDZB  
=j~}];I  
i@d@~M7/  
涂层倾斜光栅介质 |zL.PS  
<kor;exeJ  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 {EupB?  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ~9ILN~91  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 r,dxW5v.  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） }(XvI^K[^  
b;Im +9&  
3'2}F%!Mv  
L9U<E $%#  
涂层倾斜光栅介质 kLqFh<  
Wkv**X}  
I!Za2?  
IN]bAd8"  
涂层倾斜光栅介质 )O%lh 8fI  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 )+9D$m=P;  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 9P)
<CD0  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 )u&_}6z  
Bf88f<Z  

w02HSQ  
;7<a0HZ5!  
涂层倾斜光栅介质参数 Dl/_jM  
UwQ3q  
Xl*-A|:j  
bvR*
sT#rg  
涂层倾斜光栅介质参数 I_ .;nU1xA  
<FK7Rz:4T  
/ADxHw`k  
0KT{K(  
高级选项&信息 S8vmXlD  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 e
mS+%6U  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 90aPIs-  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 r5iO%JFg  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 cmN0ya  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 "x$S%:p  
?3z+|;t6C  
<p0$Q!^dK=  
N<>dg  
高级选项&信息 D+o.9I/{  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 JkxS1  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 8rp-Xi
W  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 o>`/,-!  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 |f?C*t',  
fp![Pbms.  
>;3c;nf  
QT&{M #Ydn  
高级选项&信息 Ju9
v n44  
!d0@^JbM"  
"^D6%I#T  
cT0g, ^&  
高级选项&信息 T&23Pf1  
GyPN)!X@.&  
%-'U9e KN  
d|NNIf  
体光栅介质 8c|IGC  
}b^lg&$(  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 BVNh>^W5B  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 x+TNF>%'D  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 X0$_KPn  
jw[`_  
v1lj/A  
 Fszk?0T  
体光栅介质参数 Cp* n2  
<C{5(=
X{  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 y d$37G|n  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 j&mL]'Zy  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 =
% JDo  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Bm7GU
`j"  
]1[;A$7  
W[m_IY  
WE7l[<b  
体光栅介质参数 >lW*%{|b$^  
7A|jnm  
rN~`4mZ  
awK'XFk  
高级选项&信息 nJya1AH;  
]xG4T>S  
T7Ac4LA  
\nyFN  
高级选项&信息 ({9!P30:  
Y"jDZG?  
;~bn@T-  
S_CtEM  
在探测器位置处的备注 W<L6,  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 yi?&^nX@9,  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 PS22$_}  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 !T~d5^l!  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） y{]%,  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 A!kyga6F5  
K0g:Q*J-  
I@ k8
^  
jb2:O,+!  
文件信息 [s2V-'2  
{ybuHC  
bSghf"aN  
YeLOd  
K
IFx&A  
QQ：2987619807 [VW;L l