[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 >Q~"/-bN)  
k*4?fr  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 F|V co]"S1  
X/1Z9a+W  
iR#jBqXD  
l1odkNf|  
该用例展示了… )^!-Aj\x  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： =*'X  
倾斜光栅介质 e?G*q)l  
体光栅介质 2|~&x~  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 pAmTwe  
.)Se-'  
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Y@.> eS  
光栅工具箱初始化 Smk]G))o{  
O)5-6lm  
B>47Ic  
 初始化 cf@#a@7m9  
开始-> #U/B,`= >  
光栅->
No[xf9>t  
通用光栅光路图 VH*j3  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 W,agPG\+  
光栅结构设置 U(./LrM05  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 raJyo>xXb5  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 @V:b Co  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 xs &vgel>  
d(a6vEL4  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 <R{\pz2w  
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堆栈编辑器 l:@.D|(o3  
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n? s4"N6  
堆栈编辑器 f\(Kou$  
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m@c2'*&Y  
涂层倾斜光栅介质 q>omCk%h  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 E$G"R=  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Pq4sv`q)S  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 % 9WWBxS  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） @pkozE-  
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V u!,tpa.  
涂层倾斜光栅介质 n6uobo-  
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涂层倾斜光栅介质 N]=.I   
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 i([A8C_A  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 R\+$^G}#6  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 cALu  
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涂层倾斜光栅介质参数 be@MQ}6>  
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涂层倾斜光栅介质参数 @LmUCP~  
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高级选项&信息 @)0gXg  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ,#m\W8j  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 7:;V[/  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 O,;SA  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 {M$8V~8D  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 oyd{}$71d  
TUUBC%  
lk'RWy"pw  

KVntBe]I  
高级选项&信息 ~>EVI=?  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 l{3utQH-=z  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 #nd,cn  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 oc?VAF  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 u/zfx;K  
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5u8Sxfm",  
_1Eyqh`oh  
高级选项&信息 =wQ=`  
n#R!`*[  
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高级选项&信息 dvf*w:5K!  
4H:WpW*r  
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R}]FIu  
体光栅介质 a"zoDD/  
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]xcM'b  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ubQ(O uM"  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ,)RdXgCs  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ~DD/\V  
`l}-S |a  
oMVwIdf  
WAEKvM4*i0  
体光栅介质参数 o?3R HP47  
q}!4b'z^  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 F~Li.qF  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 uu:)jxi  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Vh<`MS0X  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） C/bttd  
(X9V-4  
A_.QHUjpx  
3%} Ma,  
体光栅介质参数 EI;\of2,  
(gZ!o_  
A0XFu}  
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高级选项&信息 ~JXHB
X  
J-}NFWR;t  
I%p#E#[G  
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高级选项&信息 5-OvPTY`M  
cC4T3]4l'  
d}ZHY[  
/K^cU;E,  
在探测器位置处的备注 #RF=a7&F  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 cGp^;> ]M  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 <-F"&LI{<  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 _a&|,ajy>  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ;i9CQ0e?  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 #-;BU{3*  
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文件信息 HhL%iy1  
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QQ：2987619807 *3$,f>W^