[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 HmxA2 ~C  
nlv8HC  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 zq ;Y
E  
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OhUEp g[  
该用例展示了… iDp'M`(6h  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： @uru4>1_dy  
倾斜光栅介质 @wa2Z  
体光栅介质 1
u4)  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 mI5BJ  
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p(B> N!:  
2M`]nAk2a  
光栅工具箱初始化 M[aF3bbN  
jhs('n,  
a:$h
K%^ \  
 初始化 {Dv^j#  
开始-> (J!FW(Ma|=  
光栅-> )a:j_jy  
通用光栅光路图 7S"W7O1>  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Skm$:`u;  
光栅结构设置 p'# (^  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 3]Jl\<0  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 y*i_Ec\h  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 k 4|*t}o7  
}6YD5?4  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 >eF4YZ"  
0#K?SuY.eN  
堆栈编辑器 3aMfZa<=  
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V4c$V]7  
\_H-TbU8  
堆栈编辑器 ssdp
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oSGx7dj+  
RPH]@  
涂层倾斜光栅介质 A\{dq:  
,{4G@:Fm  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ?|Q[QP  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 #9HQW:
On  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 if|j)h&  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 6Xu^cbD  
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j Wa%vA  
/]0-|Kg+R  
涂层倾斜光栅介质 "rnZ<A}
  
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>FrF"u:kM  
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涂层倾斜光栅介质 -K+" :kiS  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 1_chO?&,I  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 y^M~zOe  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 'A#`,^]uLF  
z:Sr@!DZ  
q(tdBd'o6  
Vfm (K  
涂层倾斜光栅介质参数 ql Z()  
a'sa{>  
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涂层倾斜光栅介质参数 *k&yD3br-V  
<IiX_*  
'|v??`o#  
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高级选项&信息 mkJC*45  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 pn},ovR;  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 E=Z;T  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 RTHe#`t  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 y.KFz9Qv  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 _RzwE$+9  
wUnz D)  
{9yv3[f3  
@-uV6X8|  
高级选项&信息 fgmu*\x<  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 HM'P<<  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 y)`f$Hl@1  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ]Q?`|a+i  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述
%t*_Rtz\o  
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高级选项&信息 7=$@bHEF#*  
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高级选项&信息 hJuR,NP  
i{#5=np H  
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体光栅介质 pS1f y]  
6 WD(  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 7~gIOu  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 8T:?C~"  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Z0Tpz2m  
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`v]|x,l+C  
JG]67v{F  
体光栅介质参数 PP2>v|  
|4=Du-e  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 sj"zgE)  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 z.NJu q  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Bh'_@PHP  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） qDMVZb-(#  
)<fa1Gz#^  
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S;!l"1[;  
体光栅介质参数 \!+sL JP  
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高级选项&信息 QYm]&;EI  
k9V#=,K0  
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P^wDt14>  
高级选项&信息 ~,*=j~#h  
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在探测器位置处的备注 q+KGQ*  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 @-L4<=$J  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 z5V~m_RO  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Yqpe2II7  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 91|0{
1  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 1E1oy(\V  
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文件信息 4
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QQ：2987619807 .B9i`)0