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摘要 rnr7t \a~] HiC\U%We 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 6"DvdJ0MB r#XDgZtI
cZu:dwE C?O{l%0 该用例展示了…
<ygO?m{ 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: !hq7R]TC+ 倾斜光栅介质 sJr$[? 体光栅介质 H.9 J}k1S 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Cpj_mMtu x!< C0N>?z 4MM#\ z+4R[+[ 光栅工具箱初始化 b &JPLUr ;#;X@BhS
eE&F1|8 初始化 rN}^^9 开始-> Ev()2 80 光栅-> sLTf).xh 通用光栅光路图 p])km%zB( 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 3] !(^N>V 光栅结构设置 ^I0SfZ'Y 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 S2*:]pYf} 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ! yxb< 堆栈可以固定到基底的一边或两边 G67BQG\av -B_dE-l, 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 PH]q#/' .VUZ4e
堆栈编辑器 qb! vI3 GL /\uq zYep
V #*9*[Xbi 堆栈编辑器 &v:iC
u^| lu >>~vy6 oreSu;`$ 涂层倾斜光栅介质 9Kqr9U--v E5o0^^ 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 WaHTzIa[ 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 5'o.v^l 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 x[vX|oE!A 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 7
724,+2N 04(h!@!g:
rGN-jb)T+ vOqYt42
涂层倾斜光栅介质 #>233< l/TH"z( HloP NE&} cJqPcCq(wn 涂层倾斜光栅介质 bDr'W 堆栈周期允许控制整个配置的周期 MM97$ 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 jReI+
pS 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 o]]Q7S= i P/I% D bk8IGhO|m! ]03!KE 涂层倾斜光栅介质参数 ]$z~;\ T P[Qr[74)
4gYP .h:, s#d>yx_b 涂层倾斜光栅介质参数 9_HEImk
UWu|w 9J>DLvl; 2bCa|HTv 高级选项&信息 1s*I
在传输菜单中,多个高级选项可用 $mpfr#!&3o 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 UboOIx5: 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 $H_4Y-xOi 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ok7DI 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 n%ld*EgY D$j`+` *{C)o0D YN\
QwV 高级选项&信息 l]%|w]i\ 高级选项标签提供了结构分解的信息 MY0Wr%@#0 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 MM^tk{2?. 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 YGxdYwBwf 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 R
z[- /1O6;'8He
atPf527\` ;aD_^XY 高级选项&信息 (=p}b:Z Y}4dW'
1pcSfN :"1 Ue8_Q8q5 高级选项&信息 fA|'}(kH ,@<-h* m ZkqC1u3 Q(%uDUg% 体光栅介质 Ir]b.6B zO!`sPP 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 L:'Y#VI{ 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 AjZT- Q0L 同时,两个平面界面作为介质的边界 |Q7Ch]G Z-:$)0f ~L?p/3m L*FnFRhU 体光栅介质参数 fF>H7 dkCSqNFL) 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 8l?]UFM>C 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 jP+4'O!s[ 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 /AWHG._ 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) uD. 0?*_ Q y15TJ !N!M
NsyDz mTcLocx 体光栅介质参数 z.{yVQE r"rEVx#1= ph69u #Og J@1 (2%)|Z 高级选项&信息 TzPVO>s sX@e1*YE_ gzw[^d o6{XT.z5qx 高级选项&信息 B [y1RI|9 +K+
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]~ 在探测器位置处的备注 :?lSa6de 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 6Q\n<&,{ 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 1)k))w 9 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 Y/{Z`} 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) Xst&QKU 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 2Q<_l*kk( jQf1h|e
iPE-j#| S$V'_ 文件信息 KX*e2 /0 <Qwi 0$ .]8 Jeb I|BLAm6j
?5Lom#^ QQ:2987619807 R|tjvp-[}
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