[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 k%aJ%(  
UA*Kuad  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 I\Cg-&e  

Fr(;C>  
8kE3\#);\  
H!l9a  
该用例展示了… : JS
uC  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： k[f_7lJ2  
倾斜光栅介质 XPnHi@x  
体光栅介质 m3&b)O7  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ocZ^rqo2w  
\]dvwN3x  
(CJx Y(1K  
3~Ap1_9  
光栅工具箱初始化 [ A 7{}  
9o3?  
Y.#fpG'  
 初始化 +wI<w|!  
开始-> fX>y^s?y  
光栅-> J=HN~B1  
通用光栅光路图 vskp1Wi(  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 /a6i`  
光栅结构设置 SzfMQ@~  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ^ohIJcI-  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 vTIRydg2b  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 .nEiYS|T  
WF2t{<]^e  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 3.KNAObO  
dQ
O5  
堆栈编辑器 iO2jT+i  
}02(Y!Gh  
s=556  
W! J@30  
堆栈编辑器 e0<O6  
o8NRu7@?  
s#(%u t  
涂层倾斜光栅介质 5Yww,s  
FPM l;0{  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 o^r\7g6\  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 V7cr%tY5  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 8# x7q>?  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） xJA{Hws  
t6lwKK  
>2X-98,  
: LT'#Q8  
涂层倾斜光栅介质 9}H]4"f7  
BO%'/2eV  
KKWvV4u  
IFhS(3YK[  
涂层倾斜光栅介质 
H6U5-  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Kx?8HA[5  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 iq,rS"  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 !(Y,2{  
;|:R*(2   
E
xeZj8U  
@[Q`k=h$  
涂层倾斜光栅介质参数 ;uzLa%JQ  
2(m#WK7>F  
V)vik  
?0?3yD-!9  
涂层倾斜光栅介质参数 C2\zbC[qm  
y0~ttfv  
B&6lG!K'?  
C7DwA/$D  
高级选项&信息 ia_lP  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 VKf&}u/  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 5}c8v2R:B  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 0N$FIw2  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 cLw|[!5:  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 II!~"-WH  
PC|ul{[*}  
1aCpeD4|)  
g4952u  
高级选项&信息 V Ew| N)  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 r4<aEj;l  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 k+vfZ9bD(J  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 QHc([%oV  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 NFKvgd@  
}r!hm?e  
%l6E0[  
;mvVo-r*q  
高级选项&信息 * ^V?u  
1ANb=X|hig  
't5`Ni  
S>S7\b'  
高级选项&信息 Aa4Tq2G  
y%spI/(  
L"n)fe$  
s~9n13z  
体光栅介质 HIx%c5^  
L(sT/  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 I~&9c/&  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 -V;BkE
76  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 WqF$-rBJG^  
i^V(LGQF  
wy0?*)~  
S!+>{JyQ  
体光栅介质参数 44|tCB`  
B?- poB&  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案  bLAHVi<.  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 bI8uw|c  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 k~ByICE  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） {]Hv*{ ]  
m}\QGtJ6  
H-U_  
eZN"t~\rX  
体光栅介质参数 Y#tur`N  
D79:L:  
Z7RBJK7|.  
_B&Lyg!J  
高级选项&信息 Z6A-i@  
r[H8;&EL  
rp{|{>'`.q  
(Bd'Pj]:  
高级选项&信息 "Y=`w,~~  
q$mc{F($D  
0GXY2+p}S  
13`Mt1R  
在探测器位置处的备注 mbGma  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 D fzsA4  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 >3Q|k{97  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 yxo=eSOM  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） OTdijQLY  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Y`Io}h G$  
>([,yMIY  
});Rjg  
cgSN:$p(R  
文件信息 kMMgY?  
n=vDEX:'  
a4=(z72xe  
%kjG[C  
,0q1Id  
QQ：2987619807 q*3keB;X