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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 lbM)U  
    rg Gm[SL*<  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 NA%M)u{|  
    $|+q9 o\  
    #ra"(/)  
    2d:<P!B  
    该用例展示了… WJH-~,u  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: Q9,H 0r-%  
    倾斜光栅介质 B#RBR<MFC  
    体光栅介质 }diB  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 I(LBc  
    %04N"^mT'~  
    fik*-$V`  
    v4M1uJ8  
    光栅工具箱初始化 zN}1Qh  
    <T]BSQk  
    QTZf e<m0  
     初始化 ( R2432R}J  
    开始-> 5G5P#<Vv  
    光栅-> /.PjHTM<  
    通用光栅光路图 .|>zQ(7YC  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 dkTewT6'  
    光栅结构设置 ,H6*9!Dv2  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 -+vA9,pI  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 5f5bhBZ<  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 tBR"sBiws  
    LxD >eA  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 ^{z@=o<o  
    yX%q7ex  
    堆栈编辑器 zadn`B#2  
    Rb!|2h)  
    SvR:tyF  
    7G,{BBB  
    堆栈编辑器 ey'x3s_  
    p)_v.D3i  
    >`\f,yq l6  
    涂层倾斜光栅介质 ,-!h  
    zj~(CNE  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 pPI'0x  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 61qs`N=k  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 LjZvWts?  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) "9mVBa|Q  
    n*%o!=  
     :{#%_^}k  
    y2"PKBK\_  
    涂层倾斜光栅介质 NBLiwL37{  
    &x~&]  
    +rT%C&ze  
    um/2.Sn>  
    涂层倾斜光栅介质 Z0o+&3a6  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 wUU Dq?!k\  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 2oY.MQD7iW  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 =+I~K'2  
    z"cF\F  
    4 h}03 oG  
    bCv=Uo,+6  
    涂层倾斜光栅介质参数 xZmO^F5KHj  
    !_zp'V]?  
    rL{3O4O  
    q_0So}  
    涂层倾斜光栅介质参数 $f++n5I  
    `2}Frw+?  
    aT9+] Ig  
    Y}db<Cz X  
    高级选项&信息 4!%@{H`3  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 j@yK#==k  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 "nkj_pC  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 1 _A B; ^  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 7'c ;$~  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 j41)X'MgJ  
    tyEa5sy4  
    hxwo<wEg  
    s& INcjC  
    高级选项&信息 s^atBqw,  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 GM1z@i\5  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 U;o$=,_p  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 8$!&D&v  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 = [N= mC  
    ]4{ )VXod  
    dA)JR"r2  
    R?%J   
    高级选项&信息 hxCSE$f4  
    {P'_s ]B)  
    xiWP^dIF  
    2sezZeMV  
    高级选项&信息 74[wZDW|(  
    GJu[af  
    >GbCRN~  
    i~};5j(  
    体光栅介质 iy<|<*s2D  
    y4@zi"G  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Y/%(4q*'  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 qocN:Of1  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 q <, b  
    (D.B'V#>  
    >MTrq%.  
    a#huK~$~  
    体光栅介质参数 $#ve^.VHv  
    9<e%('@[  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 m;_gNh8Ee  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 bv&#ay 7  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 9\QeH'A  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) &["s/!O1R  
    ~pZ<VH;h  
    lQ8h-Tz  
    GiZv0>*x  
    体光栅介质参数 0[# zn  
    4# L}&  
    6-fdfU  
    Gu#Vc.e  
    高级选项&信息 xJ$/#UdP  
    Z! /!4(Fh  
    z[cs/x  
    Cr7T=&L  
    高级选项&信息 ]+"25V'L  
    }&*wJ]j`L  
    [%0{7pz}  
    [%uj+?}6O  
    在探测器位置处的备注 ~E8L,h~  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 #`HY"-7m_  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 /e:kBjysJ  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生  ?W3l  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) 18HmS>Qo  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 f-!P[6bY  
    (^G @-eh  
    X([8TR  
    S"@/F- 81  
    文件信息 mA?fCs  
    fi,h`mdT?  
    sTS Nu+  
    {!L25  
    5r)]o'? s  
    QQ:2987619807 SSAf<44e  
     
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