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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 pL/.JzB  
    5m7Ax] \  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 p>tdJjnt  
    wYMX1=  
    ?| LB:8  
    /^eemx  
    该用例展示了… G{Enh<V  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 9c % Tv  
    倾斜光栅介质 1LIV/l^}f  
    体光栅介质 RrpF i'R  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 |j}F$*SE[  
    Eg29|)qsz  
    j4SG A#;v  
    zomNjy*  
    光栅工具箱初始化 X|1YGZJ  
    LqsJHG  
    ~d `4W<1a  
     初始化 Q!e0Vb  
    开始-> 6Oba}`)q9  
    光栅-> yi;t  
    通用光栅光路图 [_hhC  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 i6:yNb ='  
    光栅结构设置 j"u)/A8*  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 xy3%z  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 hsO.521g  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 ~%:p_td  
    O:p649A  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 bCe-0!Q  
    \\Tp40m+  
    堆栈编辑器 eniR}  
    TC{Qu;`H+U  
    *+Q*&-$  
    PM>XT  
    堆栈编辑器 ,4W((OQ^  
    @5G7bY7Nz  
    TPFmSDq  
    涂层倾斜光栅介质 /(pChY>  
    BIf].RY  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 slfVQ809  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Y mjS!H  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 :=eUNH  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) J\D3fh97-  
    2B dr#qr  
    :Rj,'uH+h)  
    1ZFSz{  
    涂层倾斜光栅介质 ea>\.D-S  
    m9c T}x&j  
    |bnjC$b*  
    -Ep6 .v  
    涂层倾斜光栅介质 \%Q rN+WQ  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 #zs\Z]3#  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 4PM`hc  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 G@!9)v]9  
    A_|FsQ6$P  
    @\}36y  
    T=dvc}  
    涂层倾斜光栅介质参数 ):ZumG#o  
    " <a|Q,!  
    P[8N58#  
    zRFM/IYC  
    涂层倾斜光栅介质参数 nW'x#0-  
    K({,]<l5  
    ITlkw~'G  
    )1 j2  
    高级选项&信息 c (8J  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 j)qh>y)  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 M[_I16s  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 uwA3!5  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 yo?Q%w'Nh  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 UdJV;T'rm  
    @{lnfOESl  
    >;W(Jb7e  
    /z:K#  
    高级选项&信息 :XZ pnjj  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 TeqsP1{?  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 pk1M.+  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 F| Q#KwN  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 jMbK7 1K%  
    V1A3l{>L  
    Ngnjr7Q={T  
    =LnAMl#9  
    高级选项&信息 )aSkUytg"  
    G)7sXEe  
    A,qG*lv  
    m5{SPa,y  
    高级选项&信息 `oBzt |f5  
    O_^h 7   
    1PSb72h<  
    {H2i+"cF  
    体光栅介质 54w-yY  
    \/v$$1p2  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 [=+/  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 IhLfuyFWu  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 '%N)(S`O7P  
    d*L'`BBsp  
    CI{x/ e^(  
    J]B5w{??b  
    体光栅介质参数 sN2l[Ous  
    {+Yo&F}n  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 h[T3WE  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 {A UEVt  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 H #_Z6J  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ,-)1)R\.  
    %>TdTt  
    @jKB!z9{  
    2l?J9c}Wo  
    体光栅介质参数 @4$E.q<0  
    7ZZt|bl  
    fZ$2bI=  
    t/|^Nt@XT  
    高级选项&信息 's<}@-]  
    <lR8MqjM_  
    ny=iAZM>q  
    51x,[y+Xe  
    高级选项&信息 mz1g8M`@[D  
    o@. !Z8  
    X;h~s:LM  
    '! (`?  
    在探测器位置处的备注 1~ Nz6  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 "Q1hP9xV  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 z/b*]"g,  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 =xoTH3/,>  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) )f Rh^6  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 -eTGRr  
    rtm28|0H'  
    Sf9+TW  
    GcuZPIN%D  
    文件信息 Lrq&k40y  
    $G3P3y: [  
    71_N9ub@z  
    0W> ",2|z  
    ']Z8C)tK  
    QQ:2987619807 t&_lpffv  
     
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