[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 jfZ)  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。  f^[m~  
Nh6!h%  
#jw%0H;l]  
^K^rl9  
该用例展示了… Jz-RMX=  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： eW[](lGWM  
倾斜光栅介质 Ul|htB<1:  
体光栅介质 EsLtC5]  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 hTQ]xN)  
tCu9 D  
kO,vHg$  
DF"*[]^[  
光栅工具箱初始化 .y#>mXm>  
H8!lSRq  
PB@jh}  
 初始化 }`uq:y  
开始-> z@xkE ,j>  
光栅-> RP6hw|  
通用光栅光路图 qnw8#!%I  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 [Y6ZcO/-i  
光栅结构设置 et`rPK~m  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 "T6s;'k  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ~&+8m=   
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 uHyc7^X>  
P)UpUMt;k  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 J8DKia|h(  
4aG}ex-s|  
堆栈编辑器 ='HLA-uT  
IVG77+O# }  
M =GF@C;b  
e`%<D[-  
堆栈编辑器 @G=_nZxv  
iM{cr&0  
8{p#Nl?U1  
涂层倾斜光栅介质 5+*CBG}  
<J!?eH9f  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 "^Vfo$q  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Qr[".>+  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 \0^Je>-:U  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） oF5~|&C  
*0%G`Q  
'zYx4&s  
Qh4Z{c@  
涂层倾斜光栅介质 QeD ;GzG  
HO39>:c  
P? LpI`f  
v?S3G-r  
涂层倾斜光栅介质 '_o(I  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ImI,q:[67  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 E)(Rhvij  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 oo!JAv}~  
!Bb^M3iA  
@5TJ]=  
t8"yAYj  
涂层倾斜光栅介质参数 6 kAXE\T  
fMRMQR=6B  
`HsI)RmX  
Tw
9?U,]  
涂层倾斜光栅介质参数 h,P#
)^"  
hdxq@%Vs  
x5W. 3*  
o$,e#q)8  
高级选项&信息 Uj>bWa`  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 IVSd,AR7yY  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 [!b=A:@  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 {us"=JJVN  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 R8fB 8 )  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 RL1cx|  
|j7{zsH  
|ea}+N  
&13#/  
高级选项&信息 P}mn2Hs  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 bJ9K!6s??`  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 2k"!o~s^  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 # ,27,#  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 0o-KjX?kP  
g;G.uF&  
{~eVZVv  
kY`L[1G$  
高级选项&信息 dzyp:\&9  
w;KNS'  
;TG<$4N  
bupDnTF  
高级选项&信息 "A,-/~cBV  
ER*Et+>  
RJT=K{2x  
O{nM yB  
体光栅介质 zsha/:b  
53X5&Bwh  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 jsnk*>j  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 W\JwEb9Y  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 cSs??i D"q  
 K na  
NU$?BiB?R  
rP7f~"L  
体光栅介质参数 ,xsFBNCC  
}o MY  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 u.L{3gkT  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 gN/6%,H}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 lq\/E`fc`  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） OMVK\_oXo  
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DZ~qk+,I  
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体光栅介质参数 i$!-mYi+Q!  
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o$+"{3svw?  
E8s&.:;+  
高级选项&信息 6+Wkcrh  
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高级选项&信息 rkz_h  
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_MC\\u/C/  
NRgNW1#  
在探测器位置处的备注 dwAFJhgh  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 O4i5fVy{  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 WGeTL`}dh  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 m?Qr)F_M
 
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ME%W,B.|"s  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ]5}C@W@_  
Ysz&/ry  
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文件信息 KixS)sG  
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QQ：2987619807 -1 Ok_h"