[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ojafy}  
S ^"y4-2  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 rx'RSo#1O  
]GMe\n  
4-?C>  
lsgh#x  
该用例展示了… 9eGyyZg  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： $ZUdT  
倾斜光栅介质 J28
M@cn  
体光栅介质 QCD.YFM  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 #pT"BSz]  
c'^?/$H|  
fX(3H1$"  
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光栅工具箱初始化 %<)2/|lCd  
BHIRHmM<Y  
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}HF.  
 初始化 @GPCwE1  
开始-> spGb!Y`mR  
光栅-> }d[ kxo  
通用光栅光路图 !Xh=k36  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ]
jtK I4  
光栅结构设置 Y4OPEo5o  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 qt"G[9;  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 'OE&/ C[  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边  Hu^1[#  
T%x}Y#U'`  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 e h&IPU S  
%r<rcY  
堆栈编辑器 ZEXc%-M  
Um}  
9?A)n4b;  
bH-ub2@qO  
堆栈编辑器 +s"hqm  
[8.c8-lZ^  
9 3U_tQ&1?  
涂层倾斜光栅介质 <vnHz?71c  
teOe#*  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 A;G;^s  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 j>*S5y.{  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 6h>wt-tRC  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） K#l:wH_  
@:;)~V  
a[v0%W ]u  
q?,).x nN  
涂层倾斜光栅介质 W$QcDp]#p}  
G !<Z.]  
qBU-~"2t  
ZufR{^W  
涂层倾斜光栅介质 ,ZKr.`B  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 h&|[eZt?F  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ];}Wfl  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 PvR6 z0  
7wWFr  
7@C<oy_bb  
&*sP/z  
涂层倾斜光栅介质参数 y6@0O%TDN  
u=Fv2  
*zNYZ#  
OBgkpx*Q  
涂层倾斜光栅介质参数 @(
l^]9(V\  
O7u(}$D L  
2;xIL]  
`+`Z7  
高级选项&信息 BK*x] zG$  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 .\K_@M  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Twh!X*uQ  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 909?_v  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 OL5v).Bb  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 gep;{G}
 
< |e,05aM  
}L &^xe  
zFfoqb#*g  
高级选项&信息 agkA}O  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 yH7F''O7  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 1h(0IjG8  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ]5BX:%  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 }{M#EP8q+  
fz;iOjr>  
:#2Bw]z&z  
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NUw_^  
高级选项&信息 H/,gro  
R{RwTN<  
;V@WtZv  
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高级选项&信息 ~a%Z;Aj  
7ByTnYe~S  
J5*tJoCYS  
8m5p_\&  
体光栅介质 Q)"C&)`l  
4B=2>k  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 SH3|sXH<  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 n-5W*zk1  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 =b38(\  
aHlcfh9|  
`/_o!(Z`  
Gn&-X]Rrl  
体光栅介质参数 Z.d7U~_  
tc_286'x  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 pqUCqo!m\  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率  R=.4  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 "-_fv5jL  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） LY6;.d$J  
BLN^ <X/  
$4-$pL6"  
1[kMOp  
体光栅介质参数 ?P
4w]a  
)q0.0<f  
]'5;|xc9$/  
MzPzqm<  
高级选项&信息 A
GH|"EWG  
qs|mj}?  
$\b$
}wy*  
kR]!Vr*yh  
高级选项&信息 dX\.t<  
x??pBhJH  
W-Fu-Cz=  
/V=24\1Ky  
在探测器位置处的备注 ~CtL9m3tO  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 J%V-Q>L  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 $=5=NuX  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 tS|9fBdCs  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） QF-LU  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 1?)Xp|O  
GQ*wc?f3  
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文件信息 7uT:b!^f[  
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QQ：2987619807 Kk(9O06j