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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 rnr7t \a~]  
    HiC\U%We  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 6"DvdJ0MB  
    r#XDgZtI  
    cZu:dwE  
    C?O{l%0  
    该用例展示了… <ygO?m{  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: !hq7R]TC+  
    倾斜光栅介质 sJr$[?  
    体光栅介质 H.9J}k1S  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Cpj_mMtu  
    x!< C0N>?z  
    4MM#\  
    z+ 4R[+[  
    光栅工具箱初始化 b &JPLUr  
    ;#;X@BhS  
    eE&F1|8  
     初始化 rN}^^9  
    开始-> Ev()2 80  
    光栅-> sLTf).xh  
    通用光栅光路图 p])km%zB(  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 3]!(^N>V  
    光栅结构设置 ^I0SfZ'Y  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 S2*:]pYf}  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 !yxb<  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 G67BQG\av  
    -B_dE-l,  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 PH]q#/'  
    .VUZ4e  
    堆栈编辑器 qb! vI3  
    GL/\uq  
    zYep V  
    #*9*[Xbi  
    堆栈编辑器 &v:iC u^|  
    lu>>~vy6  
    oreS u;`$  
    涂层倾斜光栅介质 9Kqr9U--v  
     E5o0^^  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 WaH TzIa[  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 5'o.v^l  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 x[vX|oE!A  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 7 724,+2N  
    04( h!@!g:  
    rGN-jb)T+  
    vOqYt42  
    涂层倾斜光栅介质 #>233<  
    l/TH"z(  
    HloP NE&}  
    cJqPcCq(wn  
    涂层倾斜光栅介质 bDr'W   
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 MM97$  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 jReI+ pS  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 o]]Q7S=  
    i P/I% D  
    bk8IGhO|m!  
    ] 03!K E  
    涂层倾斜光栅介质参数 ]$z~;\T  
    P[Qr[74 )  
    4gYP .h:,  
    s#d>yx_b  
    涂层倾斜光栅介质参数 9_HEImk  
     UWu|w  
    9J>DLvl;  
    2bCa|HTv  
    高级选项&信息 1s*I   
     在传输菜单中,多个高级选项可用 $mpfr#!&3o  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 UboOIx5:  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 $H_4Y-xOi  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ok7DI  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 n%ld*EgY  
    D$j`+`  
    *{C)o0D  
    YN\ QwV  
    高级选项&信息 l]%|w]i\  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 MY0Wr%@#0  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 MM^tk{2?.  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 YGxdYwBwf  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述  R z[-  
    /1O6;'8He  
    atPf527\`  
    ;aD_^XY  
    高级选项&信息 (=p}b:Z  
    Y}4dW'  
    1pcSfN:"1  
    Ue8_Q8q5  
    高级选项&信息 fA|'}(kH  
    ,@<-h* m  
    ZkqC1u3  
    Q(%uDUg%  
    体光栅介质 Ir]b. 6B  
    zO!`sPP  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 L:'Y#VI{  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 AjZT- Q0L  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 |Q7Ch]G  
    Z-:$)0f  
    ~L?p/3m   
    L*FnFRhU  
    体光栅介质参数 fF>H7  
    dkCSqNFL)  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 8l?]UFM>C  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 jP+4'O!s[  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 /AWHG._  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) u D . 0?*_  
    Qy15TJ  
    !N!M NsyDz  
    mTcLocx  
    体光栅介质参数 z.{y VQE  
    r"rEVx#1=  
    ph69u #Og  
    J@1(2%)|Z  
    高级选项&信息 TzPVO>s  
    sX@e1*YE_  
    gzw[^d  
    o6{XT.z5qx  
    高级选项&信息 B[y1RI|9  
    +K+ == mO&  
    ib& |271gG  
    SqEO ] ~  
    在探测器位置处的备注 :?lSa6de  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 6Q\n<&,{  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 1)k))w9  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 Y/{Z`}  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) Xst&QKU  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 2Q<_l*kk(  
    jQf1h|e  
    iPE-j#|  
    S$V'_  
    文件信息 KX*e2 /0  
    <Qwi 0$  
    .]8 Jeb  
    I |BLAm6j  
    ?5Lom#^  
    QQ:2987619807 R|tjvp-[}  
     
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