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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 !o~% F5|t  
    dA> t  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 PCnE-$QH  
    <uNBsYMuC  
    x{<WJ|'B  
    ~PaD _W#xP  
    该用例展示了… #*q`/O5n  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: /_v5B>  
    倾斜光栅介质 %lz\w{  
    体光栅介质 9Q- /Yh  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ]]@jvU_?kS  
    a*hOT_;#  
    i`7{q~d=  
    wl^bvHG  
    光栅工具箱初始化 L?&+*|VxI  
     CJg &  
    bO1J#bcZ  
     初始化 L q8}z-?  
    开始-> 4q[C' J  
    光栅-> E-_)w  
    通用光栅光路图 /,$;xt-J35  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 9 Am&G  
    光栅结构设置 1g9Q vz3  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 Je2o('MA  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 @i&LKr8  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 W?~G_4  
    KL# F5\ E  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 aUSxy8%  
    @gENv~m<OI  
    堆栈编辑器 X}p#9^%N  
    Xhtc0\0"(  
    .Br2^F  
    ~1wAk0G`n  
    堆栈编辑器 ,0NVb7F;k  
    ?XL[[vyr  
    }$#e&&)n  
    涂层倾斜光栅介质 6kGIO$xJ)  
    @!fy24R]D  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ,)'!E^n  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 |M#b`g$JO,  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 "5%G [MB  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) pBiC  
    W+BM|'%}|  
    %75|+((fC  
    9=@j]g|  
    涂层倾斜光栅介质 #9O *@  
    GZ/.eYE  
    ?H eC+=/Z  
    fF[n?:VV  
    涂层倾斜光栅介质 FMhwk"4L  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 Fzh%#z0  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6[wej$ u  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 &WN4/=QW-J  
    ~cy/\/oO  
    kLMg|48fdI  
    suj? e6  
    涂层倾斜光栅介质参数 3ag*dBbs  
    ps"crV-W  
    NLw#b?%  
    !FipKX  
    涂层倾斜光栅介质参数 _7~O>.  
    d]VL( &  
    %\\l/{`eW  
    wfM$JYfI  
    高级选项&信息 ` B) ~  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 {5 -4^|!  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 :y!e6  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ,Bp\ i  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Un^QNd>  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 ?;,s=2  
    h|yv*1/|  
    4LtFv)i  
    r1EccY  
    高级选项&信息 {,*G }/9<  
     高级选项标签提供了结构分解的信息  }XaO~]  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ! 1C3{  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 c?CwxI_b8  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 gQ.yNe  
    V;L^q?v !  
    dn$1OhN8M  
    QOlm#S  
    高级选项&信息 k^ J~l=?v  
    6/hY[a!  
    $6XSW  
    # ,u7lAz  
    高级选项&信息 upQ:C>S  
    L-^vlP)Vu  
    Hhr/o~?;}#  
    {\ P$5O{%  
    体光栅介质 { > {|3  
    I7 pxi$8f  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 :1q+[T/ @  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 :HYqm*v;W  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 @y;N u   
    ~1`.iA  
    *;Dd:D9  
    %O%+TR7Z  
    体光栅介质参数 lu`\6  
    I$\dT1m$  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 m8rKH\FD}  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 D5\$xdlJy  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ]NNLr;p  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) 5znLpBX<N  
    $7a| 9s0  
    : &mYz(1q  
    ' jZ2^  
    体光栅介质参数 8JAA?0L"'  
    fa=#S  
    c ^G\w+_  
    /wK5YN.em  
    高级选项&信息 j2cLb  
    <^U B@'lCm  
    KwN o/x| v  
    =$}P'[V  
    高级选项&信息 5~<> h~yJ  
    f_Y[I :  
    D%LqLLD  
    H#E   
    在探测器位置处的备注 _R1UEE3M  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 ;} gvBI2e  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 %\}|&z6  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 dg4"4\c*P  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) N$/{f2iC  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 TIW6v4  
    KA`1IW;  
    kNI m90,g  
    HoT5 5v!o  
    文件信息 enF.}fo]  
    Z%`} `(  
    B+jT|Y'  
    +LQ2To  
    BXa1 [7Z  
    QQ:2987619807 !}"npUgE  
     
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