[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 *b"aJ<+  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 oW6b3Q/B  
B_"PFWwg  
!^Q4ZL,-  
KBgFS%-W  
该用例展示了… b.cBg.a  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： w3"%d~/[x  
倾斜光栅介质 EfX,0NqT  
体光栅介质 9T<k|b[6  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
FaKZ|~Y e  
+9.GNu  
*`t3z-L  
-gv[u,
R  
光栅工具箱初始化 .i1|U8"X  
5YXMnYt9  
M`?ATmYy  
 初始化 Q'aVdJN,  
开始-> pbGv\SF  
光栅-> fbJa$  
通用光栅光路图 m>!aI?g  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 rE?B9BF3O  
光栅结构设置 CW,|l0i  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 b6@0?_n  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Q}1qt4xy*  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 -9R.mG  
/&5:v%L  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 Gy
c_B  
<WL] (-9I:  
堆栈编辑器 t6~~s iQI'  
va!fJ  
v3cLU7bi?2  
+; =XiB5R  
堆栈编辑器 fBKN?]BdN  
/pJr%}sc  
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涂层倾斜光栅介质 R xc  
-$`q:j  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 G#6O'G N  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 0<nW nD,z  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 y_T%xWK5  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） g ~%IA.$c  
WmE4TL^8?  
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<@;bxSUx  
涂层倾斜光栅介质 Bd[H@oKru  
X @X`,/{X  
J,k.*t:  
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涂层倾斜光栅介质 jK2gc^"t  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 \# 1p  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件  hAD gi^  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 UFeQ%oRa8  
B XO,  
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M+7jJ?n  
涂层倾斜光栅介质参数 u89Q2\z~"M  
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35YDP|XZb  
TIno"tc3  
涂层倾斜光栅介质参数 vSk1/  
DK#Tr: 7  
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f5'vjWJ30  
高级选项&信息 *?o 'sTH  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 R)%I9M,  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 m21H68y  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 (>gb9n  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ,+FiP{`  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 y>ePCDR3  
b3q&CJ4|  
K^%ONultv  
2=X.$&a  
高级选项&信息 I1JF2"{c  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 dRBWJ/ 1T  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ^h"@OEga?  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 M?I^`6IOc8  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 Y7 e1%,$v  
"1hFx=W+\  
Q=^TKsu  
](z*t+">  
高级选项&信息 _:!7M^IU  
Y5<W"[B!  
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高级选项&信息 "
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c=p!2jJ1K~  
体光栅介质 *4c5b'u  
BxesoB  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ra^"Vr  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 xU |8.,@  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 E*QLw*H  
*Z3b6X'e  
kk}_AZ0eK  
i\kDb=  
体光栅介质参数 lOHW9Z  
zEw~t&:e  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 (dHjf;  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 +(h{3Y|  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 H"wIa8A  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） )<.y{_QUN  
NBA`@K~4  
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dyl1~'K^  
体光栅介质参数 [ic%ZoZ_  
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高级选项&信息 @6H7  
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高级选项&信息 #j"GS/y"  
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在探测器位置处的备注 0+AMN-  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 *TPWLR ^  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 D0h6j0r5  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 kv<(N  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） hd)WdGJp
  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 $}=r45e0K  
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文件信息 ~w}=Oby'y  
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QQ：2987619807 IH.EvierJ