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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 6][1 <}8  
    \f Lvw  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 USPTpjt8R  
    >cR)?P/o  
    ,?-\ x6  
    |M~ON=  
    该用例展示了… 2#5,MP~r  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: xytr2V ]aV  
    倾斜光栅介质 =y]$0nh  
    体光栅介质 ?.bnIwQe  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 g!J0L7 i|  
    n(;:*<Rh  
    +a+`Z>  
    y2yKm1<Ru<  
    光栅工具箱初始化 xFF r  
    )Hw:E71h2  
    6[dur'x  
     初始化 GG6% bF  
    开始-> yJ2B3i@T 4  
    光栅-> E;(Rm>lB  
    通用光栅光路图 m7|RD]q&  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 8<#U9]  
    光栅结构设置 /2uQCw&x-  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ;[0&G6g  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 GH4iuPh]  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 =tdSq"jh  
    i%{X9!*%TX  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 zY9 H%  
    <G3&z#]#4  
    堆栈编辑器 7v"lNP-?jU  
    }iN2KeLAF  
    /.Jb0h[W1  
    '/%zi,0  
    堆栈编辑器 ' [0AHM  
     Qo0H  
    ]F*3"y?)2  
    涂层倾斜光栅介质 i76 Yo5  
    c+' =hR[  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 D&:yMp(  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Bx~[F  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 }xb=<  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 12`_;[37  
    udqS'g&  
    L\aBc}  
    rjWLMbd.<  
    涂层倾斜光栅介质 wsfd8T4  
    <9A@`_';Aq  
    TYgQJW?  
    zsl,,gk9Y  
    涂层倾斜光栅介质 N=1JhjVk"  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 3 /6/G}s  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 TCVl8)j  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 jx`QB')kX  
     -7]Xjb5  
    9h,u6e  
    H:{7X1bV  
    涂层倾斜光栅介质参数 \l#>dq"Y  
    J{"kw1Lu  
    QL7>;t;  
    Vy)hDa[&  
    涂层倾斜光栅介质参数 2ef;NC.&n  
    F phDF  
    !^fa.I'mM  
    S[:xqzyDg  
    高级选项&信息 ZXb0Y2AVx  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 hq>Csj==@  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 GR4?BuY,  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 k!XhFWb  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 rp34?/Nz  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 kAzd8nJ'  
    tx7~S Ur  
    4/> Our 5  
    748CD{KxW  
    高级选项&信息 QP I+y8N=  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 WgR4Ix^L#  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 S5=Udd"  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 |01?w|  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 JN3cg  
    5ua?I9fY  
    b B  
    *e"a0  
    高级选项&信息 3NK ^AaTK  
    i^z`"3#LE  
    !mfJpJ  
    ,\PVC@xJ  
    高级选项&信息 Zy"=y+e!E;  
    MFit|C  
    v[k5.\No  
    6iezLG 5  
    体光栅介质 Bn wzcl  
    h+7>#*DH  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 eOl KbJU  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 5t:8.%<UK  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 Al"3 kRJJ  
    :Waox"#=g  
    > R^@Ww;|q  
    i^Ut015q%  
    体光栅介质参数 2h~-  
    m 40m<@  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 *e.*=$  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 +54aO  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ]L_w$ev'  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) &wH:aD  
    Xg<[fwW  
    H. ,;-  
    |  FM }  
    体光栅介质参数 #} ,x @]p  
    3-Bl  
    aC=['a>)  
    |(IO=V4P  
    高级选项&信息 Q%ad q-B  
    'JmBh@A  
    w; TkkDH  
    jRZ%}KX  
    高级选项&信息 (yrh=6=z  
    ks(SjEF  
    6.Ie\5-a;  
    cA`4:gp  
    在探测器位置处的备注 P~$< X  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 V-W'RunnW  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 t=wXTK5"  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 nL `9l1  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) Nud,\mXrY[  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 (RL>Hn;.  
    <>&=n+i  
    ;<Qdy` T  
    D#rrW?-z  
    文件信息 <lwuTow  
    GlYly5F  
    i2,U,>.  
    pK_?}~  
    _2Py\+$  
    QQ:2987619807 d.F)9h]XHO  
     
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