[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 T6,lk1S'=  
bG&qgbN>  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 {vH8X(m  
"nefRz%j+  
d!X?R}  
UCWU|r<s,  
该用例展示了… !'MD8  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： A&7jE:Ew  
倾斜光栅介质 0`thND)?O  
体光栅介质 3//v{ce1]  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 CyU>S}t  
24T
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E,$uNw']  
fh3 6  
光栅工具箱初始化 l85"C  
xr2:bu  
qs b4@jt+  
 初始化 CYu8J@(\~g  
开始-> =w8 YZs8w  
光栅-> OE"Bb  
通用光栅光路图 U,S286  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 u^uG_^^,
/  
光栅结构设置 K!~](_W!  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 f$'D2o, O  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 K7Vr$,p  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 aKy|$ {RC  
OY#_0p)i  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 m>!#}EJ|  
Q!{Dw:7  
堆栈编辑器 t*#&y:RG  
h:NXO'  
u5_fM*Ka  
bW|y -GM  
堆栈编辑器 c%!wKoD  
iT"Itz-^#  
u\wd<<I']  
涂层倾斜光栅介质 OXB-.
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w1b <>A?87  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 :[39g;V}c  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ?0a 0 R  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 R2s>;V.:  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） t} M3F-NZ  
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涂层倾斜光栅介质 OEW,[d  
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A'8K^,<  
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涂层倾斜光栅介质 ^'4uTbxP_!  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 {[?|RC;\Y  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ;gnr\C*G  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 . 6dT5x8u  
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涂层倾斜光栅介质参数 %
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涂层倾斜光栅介质参数 ~S!kn1&O  
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高级选项&信息 |GQ$UB  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 5.#9}]  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 uLljM{I  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 M3 u8NRd5|  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 F4%[R)  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 z]AS@}wWqg  
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<1BK5%?  
高级选项&信息 ie5ijkxZ(  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 MA#!<b('  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Y{|yB  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 J*X.0&Toc  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ^)l@7XxD  
T+h{Aeg  
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H>iZVE  
高级选项&信息 D.R  
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高级选项&信息 R7c)C8/~  
$yFuaqG`Wo  
E]?HCRa5R  
g GT,PP(k  
体光栅介质 [F[<2{FQF  
Ec*7n6~9  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Bjj^!T/#  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 L6=RD<~C  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 #@s~V<rW  
RyWOiQk;  
+STzG/9#  
+/86
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体光栅介质参数 hg'!
  
6XK`=ss?  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 HCkqh4  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 L)Ar{*xC  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 v^_]W3K  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） !>Y\&zA  
-f|^}j?  
S{7ik,Gdg  
Nw&}qSN  
体光栅介质参数 FXEfD"  
DB'KIw  
@/NZ>.  
[mzF)/[_2  
高级选项&信息 LEnP"o9ZW  
4qXRDsbCf  
E(kb!Rz  
-U;LiO;N  
高级选项&信息 Xb:BIp!e  
Fd,+(i D  
xYVjUb(,X  
vek:/'sj3p  
在探测器位置处的备注 YGV#.  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 7oLf5V1~  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 f%[
ukMj&  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 *([)X2A@+  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） o/9LK  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 9Y@?xn.\  
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文件信息 nC.2./OwMf  
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QQ：2987619807 FO>(QLlH