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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 3 *G 7H  
    JLsy|}>  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 G)b6Rit  
    1.]Py"@:  
    m8F-#?~  
    $=f,z>j  
    该用例展示了… =N,Mmz%  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 3S-nsMs.  
    倾斜光栅介质 nT0FonK>  
    体光栅介质 |IqQ%;H  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &L,zh{Mp  
    %,rUN+vW  
    8>Hnv]p  
    '&5A*X]d  
    光栅工具箱初始化 (5%OAjW  
    &eQF[8 ,  
    ^tIi;7k  
     初始化 v\#69J5.>)  
    开始-> d18%zY>  
    光栅-> >3 Q%Yn  
    通用光栅光路图 Y@._dliM  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 NZ/>nNs  
    光栅结构设置 ~A+D H  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 =<I90j~)  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 IZczHHEL`b  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 *5iNw_&  
    }"j7Qy)cs  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 y&NO[  
    _e AZ_@  
    堆栈编辑器 :Vc+/ZyW  
    4,kT4_&,  
    k#T onT  
    Bry\"V"'g  
    堆栈编辑器 $D8eCjUm  
    bZk7)b;1o  
    -.: [a3c?  
    涂层倾斜光栅介质 Vd[[<  
    a DuO!?Cm  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ?<\ K!dA  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ^1M:wX r  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 yw`xK2(C$  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) lL~T@+J~  
    /"+ n{*9  
    8moX"w\~_h  
    EUj'%;s z-  
    涂层倾斜光栅介质 +rbj%v}Fh  
    ;w@PnY  
    GcQO&oq|  
    b(dIl)Y4 :  
    涂层倾斜光栅介质 }!b9L]  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 rxQn[  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 2xH9O{  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ZKyK#\v<  
    mmm025.   
    E_]L8UC;m  
    l?v-9l M  
    涂层倾斜光栅介质参数 KK`P<^8J  
    /u{ 9UR[g  
    |*"uj  
    hHF YAh   
    涂层倾斜光栅介质参数 .Ya]N+r*  
    ^EE 3E'  
    uBw1Xud[YI  
    a0OH  
    高级选项&信息 1SeDrzLA  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 .?9+1.`  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 {XiBRs e  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 "| V{@)!t  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 v:(_-8:F  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 N7k<q=r-  
    w~QUG^0Fx  
    O/$pT%D1x  
    rxjMCMF  
    高级选项&信息 o0^'x Vv  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 'x BBQP  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ;|e{J$  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 (Y\aV+9[  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 IF%^H K@  
    4UmTA_& Io  
    &=5  
    1tU}}l  
    高级选项&信息 ;AK;%  
    J6/Mm7R  
    J:Uf}!D  
    'F^nW_ryW  
    高级选项&信息 "*|plB  
    S/v+7oT  
    7$x~}*u  
    q}*"0r  
    体光栅介质 Fy5xIRyI\F  
     (-DA%  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 t=J\zyX!  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 l;zpf|.Vc  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 }2-<}m9}  
    m{Jo'*%8f  
    c)gG  
    K-F@OSK'  
    体光栅介质参数 9B")/Hz_  
    >lQ&^9EI%  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 LivPk`[  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 saQA:W;  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 R4GmUCKB=  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) mz;S*ONlV  
    q/~U[.C  
    @@K@;Jox  
    #$7 z  
    体光栅介质参数 awN{F6@ZE  
    YP{)jAK  
    5"Q3,4f  
    DG}YQr.L  
    高级选项&信息 2GQ q(_  
    b;K>Q!(|  
    j$<uE{c  
    68?oV)fE  
    高级选项&信息 L+2!Sc,>  
    0o2o]{rM{2  
    GCCmUR9d  
    tyFhp:ZB  
    在探测器位置处的备注 |4//%Ll/  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 'jWd7w~(  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 jXq~ x"(  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 |j53' >N[  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) e_s9E{(  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 |E$Jt-'  
    =0 W`tx  
    +N1oOcPC>C  
    4} uX[~e&  
    文件信息 g{w IdV  
    <r]7xsr  
    CL%?K<um  
    ;K38I}  
    |g]TWKc*  
    QQ:2987619807 +RS>#zd/=  
     
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