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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 ZL-@2ZU{1  
    _hXadLt  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 =WN6Fj`  
    ~C[R%%Gu  
    :e gSW2"5S  
    a-O9[?G/x  
    该用例展示了… TCB<fS~U-  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: om@` NW  
    倾斜光栅介质 A87Tyk2Pi  
    体光栅介质 jp2l}C  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 >j\zj] -"  
    sHAzg^n}r  
    #E*jX-JT  
    jz/@Zg",  
    光栅工具箱初始化 >)!"XFbb  
    3~M8.{ U#V  
    /eZA AH  
     初始化 B<6*Ktc  
    开始-> Is-Kz}4L  
    光栅-> W"z!sf5U  
    通用光栅光路图 Px)VDs=k  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 T|oz_c\e  
    光栅结构设置 TN` pai0  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 E-&=I> B5  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 F4d L{0;j  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 -rU *)0PR  
    y8 `H*s@  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 hC~lH eH  
    [f^~Z'TIN/  
    堆栈编辑器 t?{E_70W  
    1jQz%^~  
    p`XI(NI  
    V .$<  
    堆栈编辑器 :* @=px  
    6ffrV  
    3"&6rdF\jB  
    涂层倾斜光栅介质 UB?a-jGZ K  
    i7*4hYY  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 m<r.sq&;  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Z'!jZF~4p  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 <A+Yo3|7  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) >|H=25N>;  
    }1epn#O_4  
    =7#)8p[  
    R '"J{oR  
    涂层倾斜光栅介质 N'|zPFk g  
    BL,YJM(y  
    L,Uqt,  
    !d%OoRSU'  
    涂层倾斜光栅介质 kXv -B-wOj  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 CEZ*a 0}=  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 !P#lTyz  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 A+:K!|w  
    }_XKO\  
    / ijj;9EB  
    v5 $"v?PT  
    涂层倾斜光栅介质参数 L}x"U9'C  
    8V^gOUF.  
    ef Ra|7!HK  
    I)9;4lix  
    涂层倾斜光栅介质参数 sj Yg  
    A5B 5pJ  
    RG#  
    )7[>/2aGd  
    高级选项&信息 b8Y1.y"#  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 lbTz  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 lv,8NmP5  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 vpTS>!i  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ]D%D:>9|/  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Y KeOH  
    bWG}>{fj  
    |OuZaCJG  
    N2xgyKy~  
    高级选项&信息 ]p@7[8}  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 cM.q^{d`  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 k h#|`E#,  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 N] }L*o&  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 ;sCX_`t0E  
    /V-7u  
    !#g`R?:g  
    rJ KX4,M  
    高级选项&信息 4?1Ac7bE  
    23&;28)8  
    *+lnAxRa?  
    ] QtGgWtC  
    高级选项&信息 +TA(crD  
    __'Z0?.4#  
    Xq+7l5LP  
    qdvGBdF  
    体光栅介质 FL"IPX;S  
    Fu!:8Wp!(  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 pB h [F5  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 h$4V5V  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 (a@cK,  
    zxTm`Dh;[  
    6D _4o&N  
    SQWA{f  
    体光栅介质参数 uWvl<{2  
    ib*$3Fn~  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 UFC.!t-Z  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 a(BWV?A  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 64o`7  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) yEzp+Ky  
    {b7P1}>-*  
    qeH#c=DQ  
    Vy&F{T;$  
    体光栅介质参数 /QD}_lh;,  
    pi3Z)YcT  
    Z:)\j.  
    73Tg{~  
    高级选项&信息 HC+(FymV  
    VDCrFZ!]  
    nNq|v=L  
    E!C~*l]wJx  
    高级选项&信息 (~zdS.  
    s[8<@I*u  
    _av%`bb&z9  
    mzfj!0zR*  
    在探测器位置处的备注 ]%"Z[R   
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 _H<ur?G  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 :q0C$xF  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 V92e#AR  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) T->O5t c  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 !>  
    6TlkPM$~2  
    2px l!  
    >c;q IP)Z  
    文件信息 a:H}c9 $%  
    u L/*,[}'  
    ATPc ~f  
    \E]s]ft;+  
    \CX`PZ><  
    QQ:2987619807 a~:'OW:Q  
     
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