[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 xuw//F  
K[`4vsE  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 fbi H   
zDKLo 3:  
O1l4gduN|i  
*S,v$ VX  
该用例展示了… =<Zwv\U  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： (e>RNn\  
倾斜光栅介质 }UJdE#4  
体光栅介质 rHA/  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 9Ba|J"?Y k  
xP<H,og&x=  
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V  
dw=Xjyk?h  
光栅工具箱初始化 oxxE'cx{g  
#khyy-B=  
WW,r9D:/  
 初始化 ;+aDjO2(  
开始-> btr x?k(  
光栅-> bw<~R2[  
通用光栅光路图 ]JhDRJ\  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 <S:,`v&Z  
光栅结构设置 _Ct@1}aa4x  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 64IeCAMVo  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 {H~8'K-  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 H>@JfYZ0  
a78;\{&L'  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 n57c^/A*  
q/aL8V<"z  
堆栈编辑器 ~7eUt^SD;  
'Sb6 w+  
noB}p4  
~CjmYP'o  
堆栈编辑器 FW6E)df  
D8<0zxc=(  
SWe!9Y$  
涂层倾斜光栅介质 b ?=  
^$Me#ls!  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 !X#3
w-K  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 SIyS.!k>  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 )PLc+J.I  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） m+G0<E%  
b(.o|d/P  
l[!C-Tq  
!W6    
涂层倾斜光栅介质 f;qKrw  
=*U%j  
b;t}7.V'%  
O!@KM;  
涂层倾斜光栅介质 #L
)4|  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 E<fwl1<88  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 &_Xv:?  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 'f$?/5@@  
h<z/LL8|  
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P^d.,  
涂层倾斜光栅介质参数 d}6AHS[  
QKuc21  
O(WMTa'%  
/:c,v-  
涂层倾斜光栅介质参数 1.cUolnr  

q;He:vX  
`HZHVV$~  
l{7Dv1[Ss  
高级选项&信息 L-oPb)  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 nms<6kfzL  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 e"&9G}.f  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 5qAE9G!c  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 kgI.kT(=  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 &@.=)4Y  
Z_ FL=S\  
'E6gEJ  
myo~Qqt?  
高级选项&信息 j]]ziz,E  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 &rtz&}Z
B;  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 <45dy5!Tz  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 -|iA!w#31  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 G^eFS;  
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VL,?91qwe  
K=^_Ndz  
高级选项&信息 RSVN(-wIi)  
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sp]y!zb"5  
高级选项&信息 @'| 6lG  
68G] a N3  
mjr{L{H=?+  
!gH.st  
体光栅介质 +sq,!6#G  
fw~%^*  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 { 'mY>s7  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ?+JxQlVDt-  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 w
P *a>a  
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KV&_^xSoh|  
[q|Q]O0  
体光栅介质参数 [Kj#KJxy  
U3iy
uE  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ,%DAh  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Q~8&pP8I!  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 %!/liS  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Ta5iY }  
T/.y(8!0I8  
b(rBha|  
sf&K<C](  
体光栅介质参数 yDBgSO{d  
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)RKhEm%Vr2  
J+*Y)k  
高级选项&信息 HC, 0"W  
g,]5&C T3v  
H" g&  
8Nq Iz  
高级选项&信息 Am^O{`r41  
-2u+m  
K`Zb;R X  
K`83C`w.  
在探测器位置处的备注 1|$Rzt%ge  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 RloPP  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ialk6i![  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ,]N%(>ot  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） g<5Pc,  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 +}Wo=R
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文件信息 dWWkO03|  
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QQ：2987619807 %QZ!Tb