[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 eC`G0.op  
465?,EpS  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 p8MN>pLP%  
f@0Km^aUc  
QBjvbWoIG(  
T@d4NF#  
该用例展示了…
oj[<{/,C9  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 0zE(:K  
倾斜光栅介质 h059DiH  
体光栅介质 4A)_D{(SH  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 hVh,\d&2t  
 8;O/x  
s#FX2r3=Fg  
wZt2%+$6m  
光栅工具箱初始化 x{S2   
" 
f.9u  
JZ/T:Hsh4  
 初始化 5C-XQ
S1  
开始-> B?9"Ztb  
光栅-> (3&P8ZGNR  
通用光栅光路图 T!-ly7-`  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 bycnh  
光栅结构设置 c]NZGn*  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 f=-R<l  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 AE=E"l1]  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 [`'K.-?#  
Ks-$([_F   
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 c9Q_Qr0'  
Y?:"nhN  
堆栈编辑器 =nv/ r  
rW+}3] !D/  
=d/
$B!t{  
^M+aQg%  
堆栈编辑器 gdS@NUM  
\{={{O  
4ULdf|oP"  
涂层倾斜光栅介质 Y^eF(  
<(l`zLf4p  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 zA|)9Dq  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ,
;n[_f  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 w`[`
:H_z  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） eE@7AM  
YcW)D  
} wx(P3BHD  
)gV @6w  
涂层倾斜光栅介质 7h`t-6<!q  
WQMoAPfqL  
yh{U!hG  
b1yS1i D  
涂层倾斜光栅介质 `E|>K\  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 63kZ#5g(Dw  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 S7j U:CLJ  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 &;U F,  
r`e6B!p  
1^2]~R9,9  
ysFp$!9Ux  
涂层倾斜光栅介质参数 i:H]Sb)<b  
!\\OMAf7  
S 9;FD3  
z&z5EtFUTh  
涂层倾斜光栅介质参数 #I#_gjJkx  
NT{'BJ  
GN+!o($  
MHS|gR.c  
高级选项&信息 E5\>mf ,;u  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 =69sWcC8  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 YD#L@:&gv  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 qNUd "%S  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 EjP)
e;  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 \/9O5`u*V  
n!U1cB{  
G<Urj+3/Xo  
.e\PCf9v  
高级选项&信息 6t gq.XL^n  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 F(w<YU%6  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 }S{VR(i`J  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 [K1z/e
a)V  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 HcpAp]L)  
<3x:nH @  
(]-RL A>  
zrwzI+4  
高级选项&信息 10_>EY`  
pv^:G;  
QN#tj$x  
<2wC)l3j*  
高级选项&信息 xu@xP5GB^  
e@PY(#ru  
Wr8}=\/  
)Jh:~9L%='  
体光栅介质 vnqLcNB H  
TXqtE("BDl  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Ob]J!.  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 6 kD.
 
 同时，两个平面界面作为介质的边界 4W=fQx]  
+kq+x6&  
:bkmm,%O  
b]*OGp4]5  
体光栅介质参数 c`oW-K{  
]Mv
pec_B  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
QFFFxaeJg  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 <(1[n pS&+  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 !:v7SRUXb  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） k|$?b7)"@  
eKRE1
DK  
HIda%D  
K*M1$@5  
体光栅介质参数 #!P>.".  
u R]8ZT")  
x#hSN|'"  
|{MXDx  
高级选项&信息 -*qoF(/U  
(~fv;}}v  
3;AJp_;  
'_ys4hz}  
高级选项&信息 t(}g;O-  
'f8'|o)  
N(P2Lo{JF  
GtKSA#oYZB  
在探测器位置处的备注 @Thrizh  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 nuw7pEW@?  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 BE!l{  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 /h@3R[k  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） D-e?;<  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 N|/gwcKe  
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文件信息 gL`aLg_  
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QQ：2987619807 f/"IC;<~t>