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摘要 \49LgN@\ vi?{H*H4c VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 0>hV?A 6 ,jp-`
+Hx$ABH dqwCyYC
介质目录中的斜光栅介质 } LuPYCzpu !14aw9Q
heQ<%NIA" A0{ !m 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 ={&}8VA 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 dXr=&@1 zK.%tx}+=k 斜光栅介质的编辑对话框 3S4'x4* rPaUDR4U !ceT>i90h JU^{!u 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 >C,=elM 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 y9W6e" 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 b0W~*s [4 斜光栅介质的编辑对话框 /C)mx#h] xXG-yh
S!!i ap|7./yg 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Y r3h=XY 以下参数可用: W
vh3Y,|3 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) Gvg)@VNr - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ,\*PpcU - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) m$nT#@l5bH - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) OO)m{5r,{ kmHIU}Z 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 bvyX(^I[q TI
'( 斜光栅介质的编辑对话框 'N1_:$z@( 4`Com~`6"
aju!A q54G JP$@*F@t 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 {2u#Q7]| 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 6J/"1_ aD
yHIh8 斜光栅介质的编辑对话框 yEYlQ= [# O'tVZ!C#J Nb.AsIR^ t~mbe E,"?RbG 首先,必须选择涂层材料。 cEkf9:_La 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 ;r(hZ%pD 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 4
ZD~i e 7A7=~:l\G 斜光栅的编辑对话框 S3cjw9V
?xTMmm
=HJ)!( t;wfp>El SplEY!.k 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 p3?!}VM!y 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 r!/=Iy@ Rw4"co6 堆栈使用的评论 ~ Iin| 63hOK
6{2LV&T=u 7:fC,2+
s>}ScJZK 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 DP E NYr 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 /S}0u}jID? 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 CiE 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Jw%0t'0Zi \@yx;}bdI 斜光栅介质的采样配置 sT|$@$bN INca 斜光栅介质采样 |\g =ua+h JffjGf-o ~jK'n4 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 eow6{CD8 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 /cn=8%!N 在右边,显示了介质的预览。 i:ar{ q 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ]y*AA58; j$l[OZ:#
OnO56,+S^ cID{X&or 采样斜光栅#1 HKA7|z9{ IooAXwOF
CA2 , wwnl_9a 采样斜光栅#2 FBit/0 SrMg=a
Lf+M
+^l <uGc=Du 采样斜光栅#3 Rs@2Pe$3 an+`>}]F XA`<*QC< MCN}pi 采样斜光栅#4 $$E!u} v-`RX;8 &A=>x Fb#_(I[aj 文档信息 _c*0Rr B j!{JcM-^
.ztO._J7f ^l\U6$3 s&vREx( QQ:2987619807 IY$H M3t7
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