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摘要 ~coG8r"o .quc i(D VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 cFQa~ dno*Usx5d0
HN%ZN} =r8(9:F! 介质目录中的斜光栅介质 54&2SU$kx Joj8'
/8R1$7 :=@[FXD4 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 l.!
~t1i 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 38^_(N 5E8PbV-l 斜光栅介质的编辑对话框 ^&%?Q_] 4B]a8 uOx$@1v, b%F*N r 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 *']RYu?X 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 DJ.Ct4 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 #.RI9B 斜光栅介质的编辑对话框 *lSIT]1 8wd2\J,]
s+11) ~ U_?RN)>j 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 \I=:,cz*, 以下参数可用: &0`L; 1R - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) `,O^=HBM - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) M
5h U.3.L - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ORTM[cL
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) OZ&aTm : ADDp m-] 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 :H{8j}" ~jaGf 斜光栅介质的编辑对话框 I{$|Ed1 *`W82V
&!=3Fbn X}Lp!.i9o 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 w_ m 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 LY MfoXp
;L7<mU 斜光栅介质的编辑对话框 P\R3/g $H}Q"^rs li[g =A,
o0q{:An_Z =Ev } v 首先,必须选择涂层材料。 %rsW:nl 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 K67x.P Z 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 wU3Q wJ}8y4O!N 斜光栅的编辑对话框 UcZ3v]$I G7yxCU(I\
:;EzvRy J_,y?}.e3 wRKGJ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 "o1/gV 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 {`: != 1/z1~:Il
堆栈使用的评论 S=o/n4@} _%x|,vo`(
'=r.rW5 q7;)&_'
84k;d; 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 @!-= :<h 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 OG.`\G| 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 61]6N;kJ; 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 _Nd\Cm 607#d):Y 斜光栅介质的采样配置 4):\,>%pK C][`Dk\D{ 斜光栅介质采样 7HzKjR=B jN[Z mJz' umi#Se3& 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 xKxWtZ0 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 (GZm+? 在右边,显示了介质的预览。 :ZUy(8%Wl 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 0Y\u,\GrxW TGg* (6'z
Ws=J)2q h"[
][ 采样斜光栅#1 E\QSU88^ k&Sg`'LG8
%K zURv '?QZ7A 采样斜光栅#2 JL<}9K )%Y$FLB
4X^0:.bT& 3M^ / 采样斜光栅#3 fUa`YryQ (bXCc M+Dkn3bx ?&?y-&.5- 采样斜光栅#4 2WKA] l; k|w6&k3 >~6
;9{@ 1[!Idl ?m 文档信息 bO-8<IjC_3 h.DQ6!?;s
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S QQ:2987619807 g|W~0A@D
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