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摘要 ~\[\S!" dS~#Lzm VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 Ap9 %5:] ^3w
>:4m _kJW/3eE 4'U #<8 介质目录中的斜光栅介质 o :_'R5 LLW
xzu!< jt4c*0z V"Y-|R 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 /|aD,JVN" 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 AJR`ohh T`SpIdzB. 斜光栅介质的编辑对话框 k)B]|,g7G0 ^HI}bS1+| B&4NdL/ rd!4u14 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 h-=lZ~W~ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 I9E]zoj8
这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Nk&$b 斜光栅介质的编辑对话框 Zh3hCxXa H<bB@(i zua=E2 TaE&8;H#N 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 iBy
^ 以下参数可用: Mh*^@_h? - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) FvV:$V| - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) $(ei<cAV - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) hF7#i_UN< - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) iK <vr I.RmBUq):s 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 <-K'9ut, o2r)K AA 斜光栅介质的编辑对话框 pZO`18z vILq5iR dsD!)$ oJbMUEQQq 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 ,]qTJ`J 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 *:hHlH* t1 6[l{@*r" 斜光栅介质的编辑对话框 !;~6nYY c&n.JV $l<(*,,l cR"?EQ] `N l8Ks{(wh 首先,必须选择涂层材料。 ?^z.WQ|f@ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 2fv`O 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 S1oP_A[| K`#bLCXEV0 斜光栅的编辑对话框 ibIo1i//[ y0f"UH/ MW$
X4<*KD <u%&@G$F> BA t0YE`-, 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 z~y=(T 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 ilpP"B Uel^rfE` 堆栈使用的评论 2%*mL98WK k x26nDT( ;R8pVj!1f '#p2v'A ,2?S ua/LD 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 oUG!=.1}K5 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 "[t (u/e 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 }4A $j{\ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ]E!b& >;}q 斜光栅介质的采样配置 zUCtH* jdWA)N}kDG 斜光栅介质采样 -U#e `;vJ\$-< MmPLJ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 aHdXlmL 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 ;+-Dg3 在右边,显示了介质的预览。 4itadQS 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 qkk!1W eW>Y*l%B "fTW2D74 N,M[Opm 采样斜光栅#1 vv%
o+r-t <+\
w .! PH]/*LEj qZz?i 采样斜光栅#2 aH!2zC\:T oP CtLz}z WQ>y;fi5/{ +M^+qt;]V 采样斜光栅#3
ndCHWhi X zF-g*e F&= X/ #'&&&_Hu3 采样斜光栅#4 ?\7$63gBH f;7I{Z\< ljw(cUM pni*#W*n 文档信息 mufJ@Y S# /3`(Ki{
Q H;.${u^lhd )EhRqX9 nS5g!GYY,k QQ:2987619807 ZS\~GQbG
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