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摘要 =Ff _)k
sA(d_Yu_ VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 7];AB;0" yN@3uYBF
()}(3>O- $Wy(Wtrx| 介质目录中的斜光栅介质 8_W=)w6 xF8U )j!
k3PFCl~e -s3q(SH 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 APgjT';P^ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 H^3f!\MC;o #zf,%IYF 斜光栅介质的编辑对话框 )k^y<lC2a ohJo1}{ @> |3d :~^_*: 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 d6+$[4w 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 +,Ud 3iS 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 *SK`&V 斜光栅介质的编辑对话框 \V(w= F G:t2ea
IRknD3LX BQ:hUF3 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 +dG3/vV 以下参数可用: &wa2MNCG8 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) @fQvAok - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) `VrQ?s - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) +$YHdgZ. - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ('~}$%C un F=";9H 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 Nov)'2g7G .fgVzDR|+ 斜光栅介质的编辑对话框 EJW}&e/ <dGph
G"F)t(iX 6}cN7wnm
j 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 uXo uN$& 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 |}o6N5) im3BQIPR 斜光栅介质的编辑对话框 ^)E#
c 60R]Q %a:>3!
+ X \BxRgl}, *e25!#o1 首先,必须选择涂层材料。 8|{d1dy 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 vlq L 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 l3xI\{jn :+_ 斜光栅的编辑对话框 F.{$HJ 2b/Cs#-
hLr\;Swyp udOdXz6K? {O6yJckH 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 Ys0N+ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 x#XxD<y OWc~=Cr 堆栈使用的评论 [Y4Wm? ?="?)t[
hkB|rhJgm (h|E@gRa []$L"?]0uk 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 TT oW>RP# 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 T0 {X, 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 &^7(?C'u 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 R2A#2{+H aL&nD1f=!- 斜光栅介质的采样配置 FR']Rj 6HZVBZhM 斜光栅介质采样 DLN zH A">R-1R L6"V=^Bq 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 "&/lF[q 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 -wr_x<7 在右边,显示了介质的预览。 Am|)\/K+Z 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 R;zf x/ Oye6IT"
;Z9(ll:<$ z%1& t4$ 采样斜光栅#1 1ozb
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&`,Y/Cbw NwVhJdo 采样斜光栅#2 ~RH)iI <.2jQ#So
N@Q_5t0bk =!G{+&j 采样斜光栅#3 ^zW=s$\Fo B1A:}# ~9PZ/(
' u@;e`-@ 采样斜光栅#4 xf{ZwS%X /I((A/ks kE :{#>[Uz .K]Uk/W 文档信息 cwOa"]t} e<qfM&*
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