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摘要 p]>bN 9!R !H& VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 l/1uP ^@)+P/&
g%+nMjif %bv<OMD 介质目录中的斜光栅介质 sX=!o})0 crmnh4-
SC!IQ80H#D rkzhN59; 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 8CYJR/ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 q=EQDHmh ~#-`Qh 斜光栅介质的编辑对话框 -OziUM1qs iCc\p2p fG.w;Aemv5 ilNm\fQ. 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 }%:?s6Ler 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ~L1N1Z)Kk 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 |Rl|Th 斜光栅介质的编辑对话框 7'<4'BGzl] (*2"dd
q2SkkY$_]y 5 Fd ]3 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 6HEl1FK{@ 以下参数可用: JlH|=nIaj6 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) X~R
qv5@- - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) E O}(MXS - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) Q647a} - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) [0rG"$(0Y )WzCUYE 1/ 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 Le}q>>o;q 1k hwwoo 斜光栅介质的编辑对话框 tC&y3!k2jR X `vDhfh>N
{UhZ\qe T xN5K`q 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 Xau.4&\d 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 lmd0Q(I Oq.)
8E. 斜光栅介质的编辑对话框 zb3ir| Isi,Tl ^ FKzqJwT F )tNA?p) Psv-y 首先,必须选择涂层材料。 ZuE0'9 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 dNyc|P`U 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 rXaL1`t* ^8\pJg_0 斜光栅的编辑对话框 "y`?KY$[N XrvrN^'
y_nh~& PK~okz4b X(1.Hjh 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 SrKF\h%/+ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 {7;TQ?/ >y=%o~ 堆栈使用的评论 iUO5hdOM ^a]i&o[c
Tu"yoF *[jaI-~S $X{& KLM[ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 ;J_d% 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 (Hsfrc 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 EuAa 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 7Jqp2\
D?E5p.!A 斜光栅介质的采样配置 gf!j|O ; !F%dE! 斜光栅介质采样 G%P]qi *7Mrng JAn3 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 VOiphw` 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 x_Z~k 在右边,显示了介质的预览。 ;Rt,"W) 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 Z]6D0b W}e5 4-lu
</}[x2w?] &Y,Rm78 采样斜光栅#1 ,5/gNg i7p3GBXh[
z6Hl+nq B ;CC[> 采样斜光栅#2 F
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;m\(fW*ii t EN%mK 采样斜光栅#3 ru U| 0lEIj/u f&,.h"bS =EG[_i{r 采样斜光栅#4 jjwY{jV qzH97<M}T R{WG>c %>s y`c 文档信息 ._nhW* t4Z.b 5g
y<gmp rzex"}/ly r+U-l#Q QQ:2987619807 :8rqTBa`
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