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摘要 &oDu$%dkT );^{;fLy% VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 vpk~,D07yR 3[To"You uL@'Hv A zx5t
gZd,N 介质目录中的斜光栅介质 p*=9Ea: ~|e H8@o +@#-S dJZ
9mP!d 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 f&Meiu+ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 r$Y% 15JV }5ONDg(I~ 斜光栅介质的编辑对话框 m*TJ@gI*t i)d'l<RA ;p)fW/< ?s: 2~Qlu 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 s ,GGO3^ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 79MB_Is]s 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 (( Wq 斜光栅介质的编辑对话框 fehM{)x2: p"J\+R %5?0+~ zMN4cBL9m 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 26c1Yl,DMn 以下参数可用: `
_]tN - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) t8b,@J`R - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) {\-IAuM - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) 7o64|@ 'j - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ~r>N 9Dy/-%Ut9 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 3`m
n#RM F!yejn
[ 斜光栅介质的编辑对话框 9Z_98Rh v\ Xk6k <rF Y$
?x _p=O*$b. 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 ]#x?[F 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 cwA+?:Ry} 8'Ph/L, 斜光栅介质的编辑对话框 l=<
: b7bbrR8 t6O/Q0_ hSDuByoi 9l:Bum)9 首先,必须选择涂层材料。 l %{$CmG\ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 `l95I7 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 u4[3JI> pjX')i< 斜光栅的编辑对话框 D+vHl} I8 {2cM; (""1[XURQK u9"1% t,K_!-HX+ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 B?r [| 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 Awad!_VdHS /Hl]$sJY 堆栈使用的评论 @l:\Ka~TS <w d+cPZQr k;pTOj 0@ 9em~ ?gMxGH:B.& 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 6uf+,F 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 !fcr3x|Y~M 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 +<P%v k 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 DKfw8"L] BJI
R !J 斜光栅介质的采样配置 z`D;8x2b ',yY 斜光栅介质采样 48BPo,nWR QviH+9 "7pd(p *C 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 r9@Q="J_) 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 T)ra>r<# 在右边,显示了介质的预览。 7usf^g[dh 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ^L(}c O J!o[/`4ib q|.
X[~e| 1dF=BR8 采样斜光栅#1 wU#79:h H`$s63 =kUN ^hb t YmR<^ 采样斜光栅#2 1wl8
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ie ozbu|9+v 采样斜光栅#3 gNO<`9q UNJ]$x0 fRe$}KX 3Q`F x 采样斜光栅#4 qsUlfv9L6 !' No5 uJ4RjLM` R)"Y40nW 文档信息 A`4j=OF\ Wm
nsD! ~B%=g)w 95,y@~*] !+4}x;!8 QQ:2987619807 3r?Bnf:
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