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摘要 @CCDe`R* >~G _'~_f VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 F
@Wb<+0 G`u";w_ z}P1+Pm F4&`0y: 介质目录中的斜光栅介质 gBXbB9 "Za 'K+4 /JP%gD"8 ?)/&tk9.n 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 {
%af 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 X]Ma:1+ 'c/Z
W 斜光栅介质的编辑对话框 R"JT+m SRyot:l
xJE26i :k oXS 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 ?Ns aZ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 6vZ.CUK9 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 )Yw m_f-N 斜光栅介质的编辑对话框 6^Ax3#q E&2mFg koOp:7r (>gHfC>(lq 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 .h>tef 以下参数可用: lRA! - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ':?MFkYC - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) $3:O}X> - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) /AUXO] - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) mMtX: sQr
|3}I( 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 pU5t, 2z=aP!9] 斜光栅介质的编辑对话框 *bTR0U mM;p 7
sJ x[eho,6) a*KJjl?k 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 H{fOAv1* 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 PLDp=T% .VfBwTh7q8 斜光栅介质的编辑对话框 :k7h"w G'
a{;3 AU/L_hg }SF<. A 3/?{=
{ 首先,必须选择涂层材料。 jMB&(r 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 v`KYhqTUl 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 "yc_*R(pU uf&Ke
k, 斜光栅的编辑对话框 -H(\[{3{V f<aJiVP Dwp-*QK^G n{v[mqm^ xHY#" 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 bQu1L>c,Uw 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 &^!vi2$5} nq"U`z@R 堆栈使用的评论 A5LTgGzaW R#i{eE*WF VygiR|f- h
TY7`m"> {E+o+2L 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 l^*'W(% 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 ?#rejA: 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 0($ O1j~$ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 gu~F(Fb' ,Rh6(I 斜光栅介质的采样配置 ES&"zjr$ op]HF4 斜光栅介质采样 @mB*fl?- 1:r 8p6 Q-M"+ HO 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 x^ruPiH 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 .W)%*~ O!; 在右边,显示了介质的预览。 ic_q<Y} 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 r#CQCq a*gzVE7W#n >
R5<D'cEN 6+hx64 = 采样斜光栅#1 @L ,hA
v^ i`}nv, N-O"y3W} &n)=OConge 采样斜光栅#2 B5iVT<:a ;m[-yqX |6d0,muN `x0GT\O2- 采样斜光栅#3 )Kw
Gb&l& A=S_5y nr t3wqJ dq&N;kk
| 采样斜光栅#4 IY='tw #o]/&T=N= ~ojH$=K>d QmpP_eS > 文档信息 ^mA ^7jB ta\CZp Qg\{d)X[N ;n)9 \<bar ~ QQ:2987619807 gh{Z=_
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