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摘要 A(uo%QE| ={v(me0ZPb 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 K|\0jd)N FWU>WHX 8RuW[T? 建模任务 'v^shGI%Ht o/
51RH aCH;l~+U 结果 3QKBuo ]@cI _n cAGM|% 结果 S&-F(#CF^ #g@4c3um| o3\^9-jmp 结果 KztQT9kY _-H,S)kI` y${`W94 文件信息 j~S=kYrGM sr[[xzL ]l h=ZC
QQ:2987619807
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