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摘要 F$C+R&V_ `L">"V`$Bj 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 2E([#Pzb Wlxk Z[bv0Pr 建模任务 :9O|l)N)W= Q}ZBr^*]1e a~F u 结果 Z0z) SOYDp;j 'iDu0LX 结果 j~Ff/O zlN+edgY#, ?xf~!D 结果 `v<f} ;q^,[(8 3?]S,~!F 文件信息 5\5~L H;X~<WN&AW tl2Lq0
QQ:2987619807
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