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摘要 F"-S~I7'L JCM)N8~i 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 h |s*i CbnR<W-j 3Qqnw{* 建模任务 Sja"(sJ d8xk&za 2v"wWap-+ 结果 xnl<<}4pJ D
/,|pC o%vIkXw 结果 6&i[g 2AdX)iF@ @#bBs9@gv 结果 ]+}:VaeA ],BJ}~v,X #gxRTx 文件信息 0lLr[ SlH7-"Ag i;E9ZaW
QQ:2987619807
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