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摘要 `KLr!<i() j~S=kYrGM 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 \2[tM/+Bs }6pr.-J ns~bz-n 建模任务 )g?jHm-p\ zt9A-%
\R J=8Y D"1 结果 *Q?8OwhJ #@w/S:KbJt qhG2j; 结果 "[k>pzl6 nv+miyvvm jj;TS% 结果 Ake l .& M6quPj %Jd!x{a`>A 文件信息 Y1>OhHuN p ^TCr<= !mWm@}Ujg
QQ:2987619807
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