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摘要 R2N^' *9dV/TT~f[ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 i $[,-4v 2{mY:\ }O.LPQ0 建模任务 Na.
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y3 结果 tg7C;rJ -_2Dy1 qSEB}1 结果 M)"]$TM 6%ZHP? 1 [fo'M 结果 (B>)2: T1 k;;nE o~6 iN<(O7B; 文件信息 #"Eks79s J 16=!q() vIVw'Z(g}
QQ:2987619807
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