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摘要 *
"Z5bKL 7}e73 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 6vQCghI /2e&fxxD "?UBW5nM# 建模任务 oMV<Yn_< >ps=z$4j* '{?7\+o.x 结果 t\$P*_ usR:-1{ mew,S)dq! 结果 TZk.?@s5 C.[abpc hc;8Vsa 结果 %`[Oz[V lU[" ZFP [Q2"OG@Q 文件信息 6RLYpQ$+ "NgfdLz k_hV.CV
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