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摘要 Y>I9o)KR |!*abc\`(` 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 y{J7^o(_~ -\V;Gw8mD tW"s^r=95 建模任务 ]vZ}4Xno uF<\|y rFt Hw%lT}[O 结果 Fz^5cxmw z_A34@a
ee#\XE=A 结果 R/kfbV-b Jek3K& 8o[+>W 结果 PvVn}i ?<D1]Xv qHC/)M#L 文件信息 t[X,m]SX r,cK#!<% ;Wig${
QQ:2987619807
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