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摘要 CP@o,v- nE^wxtY 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 yq!CWXZ2 sq48#5Tc^r (\tq<h0 建模任务 69-$Wn43< 9M;I$_U`vj @X|ok*v` 结果 XCV0.u| L#[HnsLp_ 65uZLsQ 结果 Y0rf9 H]U"+52h rrbZ+*U 结果 2"zI R( rx{#+iw :^K~t!@ 文件信息 ~xP
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QQ:2987619807
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