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摘要 ^5E9p@d"J N=\zx^w, 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 Q<V(#)* (s;W>,~q DSwb8q 建模任务 @.-S(MNR $.Tn\4z& -r sbSt ?_ 结果 P$U"y/ XZKlE
F? nnj<k5 结果 S9l,P-X` 1GK.:s6.f $$m0mK 结果 ~wDXjn"U& **h4M2'C
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