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摘要 N*_/@qM> a U:s}/to 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 4iYgs-, Bf D,z m1~qaD<DZ$ 建模任务 {bAWc. ZXFAuF hj[+d%YZY" 结果 kX ~-g [HC8-N^.} bLU^1S8Z 结果 &CB.*\0 2eZk3_w ]7XkijNb 结果 h|(ZXCH M<SbVP|V" iBGSBSeL& 文件信息 nG4Uk2> aTL8l.c2 >?\v@
QQ:2987619807
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