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摘要 h2zuPgz, vL`wn= 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ^vLHs=< N't*e Ci )$I;)`q 建模任务 O$E3ry+? 9l@VxX68M <K%qaf 结果 cnXIE{9M Q_euNoA0 jmmm0,#D 结果 4T`u?T] @3K)VjY7 d%\{, 结果 [iwn"e cj`g)cX| #{1w#Iz; 文件信息 81fpeoNO cXFNX< ``)ys^V
QQ:2987619807
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