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摘要 4hRc,Vq =1qM`M 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 :Fe}.* t #9Src\V WX@a2c.' 建模任务 vUtA@ h+,Eu7\88 *^|.bBG 结果 > 93I|C| (MfPu8j IIrp-E MXJ 结果 g9N_s,3jC a!iG;:K
QfHJZ7K.4 结果 y2nwDw(xF <d&9`e1Hc Pra,r9h, 文件信息 pAZD>15l" =8Bq2.nlR PcxCal4
QQ:2987619807
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