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摘要 MT@Uu H=9\B} 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 GpM_Qp Tk4"qGC. Rd*/J~TK 建模任务 ]dIr;x` 6T~xjAuJ3T o>Z+=&BZ@a 结果 zL3'',Ha ^zaN?0%S33 bpeWK& 结果 S b3@7^ 6e;.}i :dzamHbX9 结果 J&6]3x c^8y/wfok b}r3x&) 文件信息 /c 1FFkq|K %G s!oD DavG=kvd
QQ:2987619807
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