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摘要 TT3 6Y 5_A*IC] 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 tIn`L6b "wH(tk4 jNbVp{%/S} 建模任务 ^vm6JWwN0B S9DXd]6q_ 62;xK-U 结果 Ot.v%D`e 5 xd `MEOY _an0G?7 结果 8(ZQM01; h@JX?LzZS -[N9"Z, 结果 (k+*0.T&? BN(=LQ2[" ~(*tcs]hY 文件信息 Sg%s\p]N_# '<,Dz= Xz:ha>}C
QQ:2987619807
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