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摘要 S!h=HE P(aN6)D 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 e#!p6+#" @:t2mz:^i Xxr"Gc[ 建模任务 7gE/g`"# cs?IzIQ [Gc9
3PA7q 结果 5#~E[dr p4vX3?&1W ]JHInt 结果 FD/=uIXH2 R5=M{ ?*&5`Xh 结果 6#kmV Y2}m/7aF )yUSuK(Vu 文件信息 La$?/\Dv) xM?tdQ~VHY SW7AG;c=
QQ:2987619807
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