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摘要 ~}Z{hs) 5e2yJ R 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 SA
[(1dy; f1U:_V^d Z-aB[hE 建模任务 #:Ukv? #?~G\Ux0/ .iST!nh 结果 #vTF:r g5
y*-t 'f6!a5qC 结果 }m S+%w"j ictOCF ,_: 6qn{ 结果 ZV[-$ u#0EZ2># H)K.2Q 文件信息 y <P1VES Q|Nw @7$` :{?Pq8jP
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