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摘要 ;x2o|#`b {l5fKVb\C 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 N6of$p'N p}h.2)PO +&S6se4 建模任务 mNacLkh[ 0^dYu/i5 Z)$@1Q4P?1 结果 H<n"[u^@E q^sZP\i,*; UOf\pG 结果 ,OubKcNg *Cf!p\7! V" 8 G-dK 结果 K0_gMi+bR U|Gy 9" );VuZsmi 文件信息 >;hAw!|# (AtyM?* 5qW>#pTFVV
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