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摘要 $4a;R I #)N}F/Od^ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 2^$Ha| {]6Pd`- y d4\%%] 建模任务 GY,HEe]2r a"&Gs/QKSC +GqUI~a 结果 NvqIYW wXnluE 0B?t:XU , 结果 ;HbAk`\1A ;XXB^, $,9A?' 结果 ^J-\s_)" iy\ 6e k1 nL@(|nJ[ 文件信息 zo~5(O@ Gm2q`ki qmx4hs8sh
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