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摘要 6|TSH$w_ V5|ANt 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 3Ob.OwA s6H'}[E< S{YzHK 建模任务 jm_-f 3} A$+PX +)]YvZ6%[, 结果 9KSi-2?H J~YT~D2L HpwMm^ 结果 Xtp8^4Va "LyD }d$-:l,w 结果 0X$mT:=9 h}b:-a <@<rU:o=V 文件信息 =x~I'|%3 >rG>Bz^Pu zF&VzNR2
QQ:2987619807
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