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摘要 @$ea-fK?? sT^^#$ub 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 -i}@o1o\ O0lQ1<= I2b\[d 建模任务 8+b ?/Rn0 9bDxml1 h2Pvj37 结果 dB^')-wA p4|Zz:f b;[u=9ez 结果 u/D=&"tL jx=2^A/i2- Z~.3)6,z 结果 CpAdE m{ #\&jM
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