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摘要 %>&ex0j] Uoe{,4T 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 GNJ/|9 Z^> 4qf,k wY<s 建模任务 [h'u@%N|/ t"4* ]S "s0,9;
} 结果 y$%oR6K7- .Exvuo`F gO8d2?Oh 结果 W4o8]&A ;<M}ZL@m 5f7id7SI 结果 H0s*Lb oJ4HvrUO A&M_ J 文件信息 Pdf-2
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