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摘要 s;TB(M~i[ oIick 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 Vhv'Z\ }2;P`s {4 Yxh8 建模任务 LMoZI0)x o^2MfFS jyIIE7.I" 结果 0V<kpC,4 N[W#wYbH ?]D&D:Z?I 结果 -b^dK)wR~ 3*</vo#` 0`S{>G 结果 "G@K(bnHn c0Ih$z f1aZnl 文件信息 bI
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