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摘要 y-uSpW 2-%9k)KH 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 f&I5bPS7} 48)D%867.; ' 7H"ezt 建模任务 .naSK`J,` r8Z.}<j O$7r)B6Cs 结果 Z4dl'v)9 X`A+/{ H T*%O\&'r 结果 I&f!>y?,Z !l$k6,WJi *{(tg~2'( 结果 L5wR4Ue) p^s:s-"f\ M7=|N:/_ 文件信息 ojx2[a\ t8ORfO+ n^Q-K}!T/
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