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摘要 dZ"d`M>o6 L]QBh\ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 0&2eiMKG?n L^{wxOf&6E V<0J j 建模任务 &d&nsQ qY|NA)E)Bp E9#.!re|^ 结果 [A46WF>L G:Cgq\+R t2#zQ[~X! 结果 GL'zNQP- C.Re*;EI, QIu!o,B 结果 u%rB]a$/
0;:AT|U/d ^9 {r2d&c 文件信息 ;BjJ<?^{ 'Z`fZ5q ^5~)m6=2
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