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摘要 o8hE.pf& "Jg.)1Jw 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 V|}9bNF [^6z> U,61 3G 概述 bX(/2_l n"D` = hlze]d?z •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 5;^1Ab0 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 UL>2gl4s/ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 MuP>#Vk 0( A ?&
yG7H>LF?8 dGkw%3[ 衍射级次的效率和偏振 .P")S| SBs! 52 sK&kp=zu •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 37Q8Yf_ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 \@N~{72:k •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ,r]H+vWS •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 \0_jmX]p •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 }HmkTk
'`2MxRP SE6(3f$ 光栅结构参数 !J X7y%J EJb+yy6 ABkDOG2br •此处探讨的是矩形光栅结构。 WWZ<[[ > •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 /4c`[ •因此,选择以下光栅参数: -1v9 - 光栅周期:250 nm G e]NA]< - 填充系数:0.5 5y\35kT' - 光栅高度:200 nm <*dcl2xS - 材料n1:熔融石英 Qzo -Yw`= - 材料n2:TiO2(来自目录) ~_N,zw{x f5b|,JJ !X~NL+ v{uq 偏振状态分析 j%-Ems*H pUF JQ* ~OPBZ# •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Y;huTZ •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 / Wjc\n$' •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 {k-_+#W" F~
\ONO5
fDplYn# fKqr$59> 产生的极化状态 CsycR @[ Cb? !+U
g'7\WQ Mog [,{w '/9j"mIA9$ 其他例子 n_RZ:<Gr M:%g)FgW FK~wr;[ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 9< 07# 8c. •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Y$n+\K r"h09suZBW 1+N'cB!y 7 =}tJ 光栅结构参数 ]?D$n ecz-jZ!
` /}>8|#U3y •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 %%?}db1n •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 [m
h>N$ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 jLI1Ed •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 /*Q3=Dse]
wzwv>@} ;w"h n* 光栅#1 P![ZO6`:W' 8~-TN1H
nA("
cD[, f~a
7E;y H,w8+vZ4\ •仅考虑此光栅。 I5l%X{u"N •假设侧壁表现出线性斜率。 4_j_!QH87 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 $fD%18 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 .*njgAq7 .`+~mQ
Wn wUr(i * 假设光栅参数: z8}QXXa •光栅周期:250 nm }(Fmr7%m •光栅高度:660 nm BV>9U5 •填充系数:0.75(底部) ?zutU w/m •侧壁角度:±6° mkyYs[ •n1:1.46 f['lY1#V1 •n2:2.08 5Wa)_@qI)` *f;$5B#^ 光栅#1结果 ">t^jt{ w/(T L3wj vq^ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ';Nc;9 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 HP[B% •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 wk8fa R"O%##Ws VpHwc!APq 4C_1wk(' 光栅#2 SWI\;:k ,pTZ/#vP#
tyW[i8)O} 2D"my]FnF urx?p^c •同样,只考虑此光栅。 |&MoQxw@ •假设光栅有一个矩形的形状。 R,PN?aj •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 DeF`#a0E 假设光栅参数: &ot^+uVH •光栅周期:250 nm y4p"LD5%^ •光栅高度:490 nm c)^A|{,G •填充因子:0.5 sB*dv06b0 •n1:1.46 oi7k#^ •n2:2.08 Zh;}Q(w >@bU8}rT 光栅#2结果 6-"tQ,AZ i{$P.i/& qG
20 •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 LA\3 ,Uv •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 CUpRtE8@[_ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 t-C|x)J+ |-\anby<
iN'T^+um= 文件信息 C/N;4 ,D`jlY-1l
['\R4H!x Z|a*"@5_ wj}LVyV QQ:2987619807 iC iKr aW
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