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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 w|1Gb[  
    #=MQE  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 T21SuM  
    ,0~/ Cn  
    vGk}r  
    概述 ;[_w&"[6a  
    -}ebn*7i\  
    z~g7O4#  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 >%"Q]p  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 kRk=8^."By  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 t?-7Z6  
    6$'6x2,  
    P7Th 94  
    g>[|/z P  
    衍射级次的效率和偏振
    '9,14e6   
    {d;eZt `  
    SZ9xj^"g  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 #0-!P+c[  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 $Xlyc.8YId  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 X-Sso9/q.  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 t;DZ^Z"{  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 cZRLYOC  
    @"~Mglgw  
    HA{-XPAWZ  
    光栅结构参数 ;z9(  
    y>S.B/ d  
    n\2VrUQ)M  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Y/t:9Aau  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 I +,D,Vg  
    •因此,选择以下光栅参数: '_n{+eR74  
    - 光栅周期:250 nm  *it(o  
    - 填充系数:0.5 |Hbe]2"x>  
    - 光栅高度:200 nm I(8,D[G.m  
    - 材料n1:熔融石英 HrA6wn\O  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ou44vKzS  
    ?lxI& h  
    s0Ii;7fA{  
    @o+T<}kWX  
    偏振状态分析 [Cz.K?+#M  
    j$*]'s&_hZ  
    %iI0JF*E z  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 4\q7.X+^  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 %PG::b  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ZkYc9!anY  
    Vgs( feGs  
    z[Kxy1,  
     ]{OEU]I@  
    产生的极化状态 r^P}xGGK  
    {6<7M  
    *seKph+'c  
    +G&h  
    b?oT|@  
    其他例子 wLD/#Hfi7  
    $ 8w eh3p  
    FTt7o'U  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ?B %y)K  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 t8s1d  
    RlX;c!K  
    5;V#Z@S  
    IxCEE5+`%  
    光栅结构参数 Cc]s94  
    o})4Jt1vj  
     zUqiz  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 8'*z>1ZS5  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 TE*$NxQ 2  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Ta!.oC[  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 H/Goaf%  
    j:|60hDz^  
    "yc/8{U  
    光栅#1 m7kDxs(KO  
    Ii*v(`2b  
    )QTk5zt  
    O6OP{sb  
    %>i7A?L  
    •仅考虑此光栅。 iTD}gC  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ~>D;2 S(a  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 c0<Y017sG  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 {H $\,  
    6kT l(+  
    f\~e&`PV  
    假设光栅参数: V{Idj\~Jh  
    •光栅周期:250 nm Q|gun}  
    •光栅高度:660 nm ; Z61|@Y  
    •填充系数:0.75(底部) \9se~tAl3  
    •侧壁角度:±6° lIzJO$8cM  
    •n1:1.46 gKb4n Nt  
    •n2:2.08 tb/u@}")  
    4,s: G.g  
    光栅#1结果 ~c?yHpZx%  
    um#;S;  
    NFLmM  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 /GM-#q a  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 J~gfMp.  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    T,7Y7MzF  
    AV d  
    &v4w3'@1  
      |J(]  
    光栅#2 mkE*.I0=  
    2z0HB+Y}x  
    &p ;};n  
    lBG* P>;  
    '12|:t&7  
    •同样,只考虑此光栅。 & p_;&P_  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 5)$U<^uy  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 RX2= iO"  
    假设光栅参数: #mkr]K8A4  
    •光栅周期:250 nm >D:S)"  
    •光栅高度:490 nm ['s_qCA[  
    •填充因子:0.5 3Vw%[+lY9  
    •n1:1.46 =r-Wy.a@  
    •n2:2.08
    =JVRm 2#*  
    lZ)u4_  
    光栅#2结果 ^ _+ks/  
    _)_XO92~  
    =]zPUzr,|  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 TS[Z<m  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 t9`NCng 5  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ~36c0 =  
    GrQl3 Xi  
    8OFrW.>[  
    文件信息 \ 3LD^[qi  
    >8 JvnBFx=  
    GzB%vsv9 5  
    XdS<51 C  
    O,OGq0c  
    QQ:2987619807 &pba~X.u  
     
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