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摘要 (m]l -Re 72HA.!ry 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 E^8|xT'h6 J}|X (
eV,f 概述 =NB[jQ :( 84ij4ZYe +Z`=iia> •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 F^UtZG+ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。
Y@,iDQ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 E'iE#He Om3Ayk}
Pz)lq2Zm9 8ud12^s$ 衍射级次的效率和偏振 &/@V$'G= YQ0#j'}/ N8A)lYT]_u •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 v,4{:y]p •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 fit{n]g •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 9a`LrB •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 $6"sR I6u •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 m8n) sw,,
~^wSwd[ _^ hg7&dF 光栅结构参数 zB.cOMx =Rd`"]Mnfb 2|pTw5z~ •此处探讨的是矩形光栅结构。 0`/G(ukO •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 X[tt'5 •因此,选择以下光栅参数: fWHvVyQ. - 光栅周期:250 nm ~yv7[`+Tgg - 填充系数:0.5 Ai/X*y:[? - 光栅高度:200 nm 91OxUVd - 材料n1:熔融石英 la[pA - 材料n2:TiO2(来自目录) ]4aPn ^s~)"2 g ^'QO!{7f ly[yn{ 偏振状态分析 Yp\n=#$[ *p/,Z2f gP_N|LuF" •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 <4rnOQ: •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 |E+.y&0; •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Q,?_;,I} BN*:*cmUl
V?XQjH1X cSL6V2F 产生的极化状态 S:1[CNL; pg{VKrT`
l";Yw]:^ 5CK+\MK BTAbDyH5 其他例子 ^4=#,K Q/o,2R |[],z 8 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 N~/'EaO •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ^ITF* h,/Aq bi8_5I[ Y0(4]X \ey 光栅结构参数 [,Ehu<mEK ebA95v`Vms x3n9|Uud •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 etX@z'H •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7O1MC 8{ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 r+#{\~r7T •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。
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}
=OE.cf@ Y` }X5(A@ 光栅#1 1Uup.( ]I|(/+}M
HOx4FXPs kZe<<iv B[8bkFS>] •仅考虑此光栅。 >/ay'EyY;> •假设侧壁表现出线性斜率。 *RkUF!)( •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 k;\gYb%L •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ^E^`" ///Lg{ie `cp\UH@
假设光栅参数: [9sEc •光栅周期:250 nm n])#<0 •光栅高度:660 nm :k\#=u( •填充系数:0.75(底部) "Z&.m..gc •侧壁角度:±6° eN])qw{ •n1:1.46 xMr,\r'+ •n2:2.08 prZ
,4\ 'K4FS(q 光栅#1结果 a``|sn9 5x+]uABE h0<PQZJ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 i~h@}0WR" •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 <Yki8 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 X['9;1Xr 4r(0+SO r
w!jmvHE& ~N!HxQ 光栅#2 Au,oX2$ ]k!Xb
^m z9sV #gbB// < ~5,^CTAM •同样,只考虑此光栅。 K/W=r •假设光栅有一个矩形的形状。 EHUx~Q
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Oc L7] b0 假设光栅参数: uzdPA'u •光栅周期:250 nm 6+$2rS$1V •光栅高度:490 nm u1/>)_U •填充因子:0.5 CM?:\$ 4 •n1:1.46 ,;,B7g •n2:2.08 f3O6&1D FJeh=\ 光栅#2结果 `<9>X9.+ C6)YZC uG\~Hxqw7O •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 D|q~n)TW5 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 dJR[9T_OF •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 "0HUaU,e r,;ca6>5H
m?(8T|i 文件信息 aDdxR: ;MN$.x+
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