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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 [AOluS  
    Spw=+z<<Ub  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 V?=zuB?'  
    nhaoh!8A6  
    s/'hLkxI  
    概述 dZ81\jdYv  
    eOnl s x/  
    *gMP_I  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 <:}AC{I  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 {_gj>n(1  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 [tw<TV"\  
    n'(n4qH2#s  
    9%'HB\A  
    f$*9J  
    衍射级次的效率和偏振
    k |aOUW  
    H" g&  
    8Nq Iz  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Am^O{`r41  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 H;8]GE2n  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 JM4`k8mM  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。  G6ES]  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 @z?.P;f9#  
    hp%Pg &  
    ~G^doj3|+  
    光栅结构参数 ${:$jX[  
    ee?M o`  
    [ESs?v$  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 aV%rq9Tp  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 _BA_lkN+D  
    •因此,选择以下光栅参数: |*| a~t  
    - 光栅周期:250 nm ">^]^wa08  
    - 填充系数:0.5 q2pao?aa  
    - 光栅高度:200 nm <Q~7a hF  
    - 材料n1:熔融石英 cr;`0  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) !d@`r1t  
    8$olP:d  
    5"]2@@b4  
    oYM3$.{E  
    偏振状态分析 Hjkgy%N  
    -H;y_^2  
    zt%Fvn4/pF  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 f__WnW5h  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 6?x{-Zj ^?  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 *N+aZV}`Z  
    S.4YC>E  
    W5uI(rS<6  
    >mltE$|  
    产生的极化状态 ?pY!sG  
    }&hgedx  
    ?b$zuJ]  
    6-YR'ikU  
    W"@lFUi  
    其他例子  aj B  
    i(kK!7W35  
    / kGX 6hh  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 d9( Sj?  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 dz9-+C{m  
    m?`Rl6!@8\  
    0)44*T  
    sYgnH:t X  
    光栅结构参数 j06oAer 9  
    Q^Z}Y~.  
    qnRzs  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 >u2#<k]1&  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 jU~%5R  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ,]"u!,yHb  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 T480w6-@  
    {`zF{AW8q  
    ~` hcgCi%  
    光栅#1 *xC '  
    8hp]+k_y  
    h)`vc#"65k  
    #4u; `j"4=  
    *p!dd?8  
    •仅考虑此光栅。 qZ }XjL  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 TZ2f-KI  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 N9<eU!4>  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 uoHhp4>^  
    q Q8l8  
    ~MO C r  
    假设光栅参数: b2%[9) "I.  
    •光栅周期:250 nm ,oe{@ z{*@  
    •光栅高度:660 nm C%>7mz-v5  
    •填充系数:0.75(底部) uy{KV"%"^g  
    •侧壁角度:±6° ^*Fkt(ida  
    •n1:1.46 }6N|+z.cU  
    •n2:2.08 mio'm  
    7:%K-LeaQu  
    光栅#1结果 Hd`RR3J  
    (?[cDw/{J:  
    AK =k@hT  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Yv-uC}e  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 U?{j  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    -y( V-  
    ,Pm/ci( s  
    rl=_ "sd=  
    Hf iM]^  
    光栅#2 R[;Z<K\Nn?  
    Y<XDR:]A,  
    |M_Bbo@ud  
    zOw]P6Gk  
    NU[{oI<a  
    •同样,只考虑此光栅。 uzsN#'7=  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 5P!17.W'u  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 :u0433z:  
    假设光栅参数: * ?+!(E  
    •光栅周期:250 nm th)jEK;Z  
    •光栅高度:490 nm < lrw7T  
    •填充因子:0.5 m}(DJ?qP  
    •n1:1.46 fZO /HzX  
    •n2:2.08
    KWo)}m*6  
    4`F*] Ft  
    光栅#2结果 =l+p nG  
    ^-_!:7TH]  
    W>y_q  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 .y!Hw{cq  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 b4wJnmC8  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 iC]}M  
    TxWj gW~  
    L"a#Uu8  
    文件信息 ?*;zS%93U9  
    "=;&{N~8U  
    :jPAA`,  
    OjI*HC  
    ,3j*D+  
    QQ:2987619807 c#DTL/8"DO  
     
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