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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 v;o/M6GL5  
    6%B)  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 U~GQ JR  
    O>3f*Cc  
    ,<t)aZL,A;  
    概述 [vTk*#Cl4  
    l<)k`lrMX4  
    aCF=Og  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 *hIjVKTu79  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 +pY-- 5t  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 !dV2:`|+  
    G -V~6  
    mXOY,g2w  
    !T"jvDYH  
    衍射级次的效率和偏振
    B2^*Sr[  
    T9\G,;VQ7/  
    I&9Itn p$  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 dvu8V_U  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 f;=<$Y>i  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Ih<.2  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 6 hiWgbE  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 *6aIDFNl  
    rK[;wD<  
    mMw--Gc?  
    光栅结构参数 [?55vYt  
    ;R([w4[~  
    J3XrlSc  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 )Ah7  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 WRp0.  
    •因此,选择以下光栅参数: )?{jD  
    - 光栅周期:250 nm d:#z{V_  
    - 填充系数:0.5 Ku?1QDhrF*  
    - 光栅高度:200 nm _P9*78  
    - 材料n1:熔融石英 X$*]$Ge>  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) UuCRQNH  
    JqV}>"WMV  
    ]P >c{  
    ;R]~9Aan  
    偏振状态分析 MNf^ml[  
    lkW5<s_  
    ^#!\VGnL  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 k_`h (R  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 T|-llhJ8  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 <-DQ(0xg  
    * .g[vCy  
    ]Q#k"Je  
    3<>DDY2bl  
    产生的极化状态 .q<5OE(f  
    @rS(3wu_&  
    bT^(D^  
    Xc$Zkfmms  
    @RHG@{x{K  
    其他例子 iu.Jp92  
    {dYz|O<  
    I2WWhsNC  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 mNOx e  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 <k 'zz:[c!  
    z @?WhD  
    {f\{{JJ]  
    Nw '$r  
    光栅结构参数 XEBj=5sG  
    #nq_R  
    gwbV$[.X  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 B,] AfH  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 +g;{c+Kw:  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 7Vu f4Z5  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 HWFL u  
    Q <ulh s  
    QjKh#sU&  
    光栅#1 ]xGpN ]u  
    5w%[|%KG:L  
    .{-X1tJ7  
    /VD[:sU7  
    )J?8"+_Y  
    •仅考虑此光栅。 b94+GL U8b  
    •假设侧壁表现出线性斜率。  $Gcjm~  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ~])Q[/=p  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 &eb8k2S  
    5Z:T9F4  
    %,S{9q  
    假设光栅参数: vSR5F9  
    •光栅周期:250 nm {Ve3EYYm  
    •光栅高度:660 nm )q`.tsR>  
    •填充系数:0.75(底部) P`avn  
    •侧壁角度:±6° aQ-SrxmO8  
    •n1:1.46 %rV|{@J `  
    •n2:2.08 vdigw.=z  
    J50n E~  
    光栅#1结果 S f6%A  
    Ezev ^O]   
    kgI8PybY  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 _ ^'QHWP  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 NLu[<u U*  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
     T\#Gc4  
    /|3~LvIt=  
    (b.4&P"0  
    J#5V>7G  
    光栅#2 zK>m4+)~  
    ^CgN>-xZ?#  
    SYh>FF"  
    ;NQ}c"9  
    L9oLdWa(C  
    •同样,只考虑此光栅。 -q8l"i>h=  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 dc0&*/`:  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 4Dy1M}7  
    假设光栅参数: ObJ-XNcNH  
    •光栅周期:250 nm z]KJ4  
    •光栅高度:490 nm AxeQv'e  
    •填充因子:0.5 j#u{(W'r  
    •n1:1.46 N3zZ>#{  
    •n2:2.08
    gW<4E=fl  
    B`||4*  
    光栅#2结果 L)4~:f)B  
    ~0[(-4MA  
    zeq")A  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 `PUxR8y  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 p2< 927z  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 yo(MJ^=d  
    SurreD<x  
    "ZPgl 8  
    文件信息 V(:wYk?ZR  
    %YbL%i|U  
    }%AfZ 2g;h  
    =qbN?a/?2  
    5;G0$M0  
    QQ:2987619807 n).*=YLN  
     
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