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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 n K=V`  
    Sp:de,9@  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _ RT}Ee}Y  
    ~;Kl/Z  
    ^[akB|#\9  
    OPjh"Hv  
    建模任务 wyM3|%RZ  
    .?NAq[H%  
    3|3lUU\I  
    概观 zf#&3K'k  
    1t'\!  
    T+hW9pa)  
    光线追迹仿真 vj0?b/5m  
    OD|&qsbL  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 0l*/_;wo  
    R5zV= N  
    •点击Go！ Lq^/Z4L  
    •获得3D光线追迹结果。 7]bq s"t  
    na)ceN2h  
     k/O&,T77}J  
    5H2|:GzUc  
    光线追迹仿真 d?.x./1[qi  
    =QRZ(2Wq  
    24fWj?A|^  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +a;j>hh  
    •单击Go！ ,;y^|X  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     [XK"$C]jHJ  
    5Tq 3L[T5;  
    ]=Q'1%  
    +0DIN4Y(4  
    场追迹仿真 <Jz>e}*)  
    f [D#QC  
    0:EiCKb)ol  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 jL<.?HE  
    •单击Go！     :QNEA3Q  
    -d]z_ SP@  
    Hn)=:lI  
    $? Rod;  
    场追迹结果（摄像机探测器） HS7!O  
     zO,sq%vQn'  
    ;z#9>99rH  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =k z;CS+  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 gMbvHlT  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 L~~aW0,  
    *?S\0a'W@  
    K^ lVng  
     [B[J%?NS  
    场追迹结果（电磁场探测器） ia[wVxd  
    kMA>)\  
    M<729M  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     -h}J%UV  
    JcP'+@X"  
    "?!IPX2\S  
    文件信息 shB(kb{{  
    x?kZD~|{)  
     +-"#GL~cC  
    v3p..A~XZ.  
     BI s!  
    QQ：2987619807 tXx9N_/  
     
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