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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 |;P^clS3  
    v ~"Ef_`  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 x;u~NKy  
    1otspOy  
    14  H'!$  
    R"*R99  
    建模任务 HsnG4OE  
    Ah-8"`E  
    iZQ\ m0Zc  
    概观 CtM'L   
    7JI:=yY!>:  
    <Nex8fiJ9  
    光线追迹仿真 wcZbmJ:  
    I!0JG`&  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 KmQ^?Ad- C  
    O)uOUB  
    •点击Go! :uo[&&c  
    •获得3D光线追迹结果。 P-'_}*wxi  
    ?; [ T  
    ]>D)#  
    vZ@g@zB4o0  
    光线追迹仿真 .+yW%~0  
    uEx9-,!  
    %cX"#+e  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 d+6]u_J  
    •单击Go! mV?&%>*(f  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ne4c %?>t  
    4T`&Sl  
    ;,XyN+2H  
    E-fr}R}  
    场追迹仿真 n'K6vW3  
    bLbR IY"l  
    QU T"z'  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ;cKH1  
    •单击Go!
    cy|%sf`  
    5ZK&fKeCF  
    A W HU'  
    )KY:m |Z  
    场追迹结果(摄像机探测器) m'x;,xfY&F  
    ,Ff n)+  
    sDC*J \X  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 VFj(M j`}G  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 J8<J8x4  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 _KN/@(+F  
    M2@;RZ(|  
    *C6D3y  
    5HKW"=5Cf  
    场追迹结果(电磁场探测器) iW;i!,  
    $^_|j1 z#i  
    nt ,7u(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    e1/sqXWo  
    `8:Kp  
    6/tI8H3E  
    文件信息 ;..o7I  
    sJZ!sznn  
    3yV'XxC  
    =o^|bih  
    >jx.R  
    QQ:2987619807 -5b A $  
     
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