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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 YM/3VD  
    8&[<pbN)  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 gm\o>YclS  
    $izpH  
    L-:L= snO  
    o0+BQ&A)s*  
    建模任务 Y\9*e5?`I3  
    D$!p+Q  
    $m0x8<7nu  
    概观 lNeF>zz  
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    ?g#t3j>zoF  
    光线追迹仿真 qy(/   
    F3|pS:  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Vwg|?sG_  
    >(4S `}K  
    •点击Go!  p:>?  
    •获得3D光线追迹结果。 I=Dk'M  
    7tO$'q*h  
    ~W2&z]xD  
    E/-Kd!|"  
    光线追迹仿真 , p=8tf#  
    !*. nR(>d  
    qvT+d l3#[  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 4 J2F>m40  
    •单击Go! T@.m^|~  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    V~"d`j  
    R6o<p<fTh  
    &fhurzzAm  
    >w#3fTJ  
    场追迹仿真 dnc!=Z89  
    _ll aH  
    2s ,n!u Fd  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 k3h53QTmC  
    •单击Go!
    M\4;d #  
    n|2-bRK-  
    KKJ[  
    <a}|G1 h  
    场追迹结果(摄像机探测器) ;9\0x  
    =C2C~Xd  
    'ZgW~G]S  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7%}}m&A7h  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 qfe%\krN{i  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 3;gtuqwD$  
    !h(0b*FUJ  
    +ANIm^@  
    `3s-\>  
    场追迹结果(电磁场探测器) m;1 exa  
    B y8Tw;aL  
    +Z0E?,Oz  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    ^Exq=oV  
    zX Pj7K*  
    +34jot.!  
    文件信息 7B :aJfxM  
    1k({(\>qq  
      `.-C6!  
    'F~SNIay  
    OyZ>R~c'B  
    QQ:2987619807 G\AQql(f4  
     
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