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摘要 YM/3VD 8&[<pbN) 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 gm\o>YclS $iz pH L-:L=
snO o0+BQ&A)s* 建模任务 Y\9*e5?`I3 D$!p+Q $m0x8<7nu 概观 lNeF>zz nX aX= ?g#t3j>zoF 光线追迹仿真
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F3|pS: •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Vwg|? sG_ >(4S `}K •点击Go! p:>? •获得3D光线追迹结果。 I=Dk'M 7tO$'q*h
~W2&z]xD E/-Kd!|" 光线追迹仿真 ,
p=8tf# !*.
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l3#[ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 4J2F>m40 •单击Go! T@.m^|~ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 V~"d`j R6o<p<fTh &fhurzzAm >w# 3fTJ 场追迹仿真 dnc!=Z89 _llaH 2s ,n!u
Fd •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 k3h53QTmC •单击Go! M\4;d # n|2-bRK- KKJ [ <a}|G1 h 场追迹结果(摄像机探测器) ;9\0x =C2C~Xd 'ZgW~G]S •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7%}}m&A7h •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 qfe%\krN{i Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 3;gtuqwD$ !h(0b*FUJ
+ANIm^@ `3s-\> 场追迹结果(电磁场探测器) m;1e xa B y8Tw;aL +Z0E?,Oz •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ^Exq=oV zXPj7K*
+34jot.! 文件信息 7B :aJfxM 1k({(\>qq
`.-C6! 'F~SNIay OyZ>R~c'B QQ:2987619807 G\AQql(f4
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