切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1918阅读
    • 0回复

    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7172
    光币
    30001
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 B*htN  
    #k3t3az2{  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ]]}tdn_  
    c`x7u}C  
    \.XLcz  
    xUF_1hY  
    建模任务 6.t',LTB  
    _md=Q$9!m  
    TwyM\9l7  
    概观 yBLK$@9  
    k7tYa;C  
    (><zsLs&  
    光线追迹仿真 ,(a5@H$f  
    = sAn,ri  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3cj3u4y  
    yV)m"j  
    •点击Go！ _wb0'xoK"  
    •获得3D光线追迹结果。 RkF D*E$  
    T+LJ* I4  
     ~.PP30 '  
    UDf9FnG}L  
    光线追迹仿真 bg|!'1bD`5  
    G ;?qWB,  
    TJ?g%  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 0;,IKXK6X  
    •单击Go！ W{XkV Ke1a  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     5)1+~B  
    9Qj2W  
    OEdJc\n_R  
    h72UwJ2rw  
    场追迹仿真 l? #xAZx&_  
    a :SQ16_?  
    "Clz'J]{  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 4X NxI1w)  
    •单击Go！     Np)3+!^1"  
    ~ aZedQc  
    mN0=i(H<  
    L{ gE'jCC  
    场追迹结果（摄像机探测器） n)8Yj/5  
     m$>iS@R  
    wh 0<Uv  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D)='8jV7  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 x )5V.q  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 xu%'GZ,o9  
    z?8~[h{i%  
    y_F}s9wj  
     (g/7yO(s  
    场追迹结果（电磁场探测器） t[.W$1=  
    #;9H@:N  
    t7#lsd`_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     M\/XP| 7  
    ?`sy%G  
    ~HLRfL?  
    文件信息 kL{;.WsB  
    ' |K.k6  
     L0Vgo<A  
    _45cH{$sA  
     ,^T]UHRO  
    QQ：2987619807 Yt1mB[&f^  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表