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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 E`)Qs[?Gk  
    !_^g8^>2(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 nW5K[/1D  
    qrDcL>Hrn  
    V0NVGRQ  
    _01Px a2.  
    建模任务 b UvK  
    gX*K&*q   
    2k+16/T  
    概观 Sdc*rpH"(  
    hKksVi  
    ;[Tyt[  
    光线追迹仿真 ?,% TU&Yn  
    9} *$n&B  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Kbas-</Si  
    kaFnw(xa  
    •点击Go！ ;|30QUYh  
    •获得3D光线追迹结果。 Z[} $n-V  
    295w.X(J  
     2 sSwDF  
    YzV(nEW  
    光线追迹仿真 9^zx8MRXd  
    *Nlu5(z  
    Jsn <,4DO8  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 0<&M?^  
    •单击Go！ i<iXHBs  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ,!>fmU`E4  
    8^X]z|2  
    N!m%~kS9k<  
    lzfDH =&  
    场追迹仿真 G (\Ckf:  
    %fpsc _  
    F= i!d,S  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 `Bu9Nq  
    •单击Go！     F5IZ"Itu(  
    (C`@a/q  
    @L;C_GEa  
    $4Y&j}R  
    场追迹结果（摄像机探测器） F+*Q <a4  
     B] i:)   
    an KuTI  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 76cEKHa<  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 b-nYxd  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 HRHrSf7  
    ;*QN9T=0  
     !!+Da>  
     C BlXC7_Mi  
    场追迹结果（电磁场探测器） .,mM%w,^O  
    \7 Mq $d  
    g7Z9F[d  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     o<J5!  
    & rQD`E/  
    kY!C_kFcn  
    文件信息 Tc_do"uU  
    sVoR?peQ  
     %EoH4LzT  
    } J(1V!EA  
     0n5!B..m}  
    QQ：2987619807 V{$Sfmey  
     
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