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摘要 |;P^clS3 v~"Ef_` 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 x;u ~NKy 1otspOy 14H'!$ R"*R99 建模任务 HsnG4OE Ah-8"`E iZQ\
m0Zc 概观 CtM'L 7JI:=yY!>: <Nex8fiJ9 光线追迹仿真 wcZbmJ: I!0JG`& •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 KmQ^?Ad-C O)uOUB •点击Go! :uo[&&c •获得3D光线追迹结果。 P-'_}*wxi ?;
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]>D)# vZ@g@zB4o0 光线追迹仿真 .+yW%~0 uEx9-,! %c X"#+e •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 d+6]u_J •单击Go! mV?&%>*(f •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ne4c%?>t 4T`&Sl ;,XyN+2H E-fr}R} 场追迹仿真 n 'K6vW3 bLbR IY"l QU T"z' •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ;cKH1 •单击Go! cy|%sf` 5ZK&fKeCF A
WHU' )KY:m |Z 场追迹结果(摄像机探测器) m'x;,xfY&F ,Ff n)+ sDC*J\X •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 VFj(M
j`}G •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 J8<J8x4 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 _KN/@(+F M2@;RZ(|
*C6 D3y 5HKW"=5Cf 场追迹结果(电磁场探测器) iW;i!, $^_|j1z#i nt ,7u( •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 e1/sqXWo `8:K[gp
6/tI8H3E 文件信息 ;..o7I sJZ!sznn
3yV'XxC =o^|b ih >jx.R QQ:2987619807 -5bA
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