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摘要 ^jZ4tH3K 1A-ess\ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 /l$>W<}@ tJ!s/|u( @F0+t; fr([g?F%D 建模任务 xdd;!HK, *S=zJyAO l<=Y.P_2 概观 uPveAK}h .@(9v.:_u 7>>6c7e 光线追迹仿真 QIZbAnn_ x6={)tj •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 .3yxg}E>{ {%Q&CQG_ •点击Go! o$+"{3svw? •获得3D光线追迹结果。 E8s&.:;+ 6+Wkcrh
%>Y86>mVz eW^_YG%( 光线追迹仿真 *P}v82C N l
d4#jV ei j=~c(
B •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 +Pm
yFJH •单击Go! r^|AiYI) •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 0755;26Bx }D>nXhO& `cBV+00YS OfSHZ;, 场追迹仿真 !R.*Vn[
k9pOY]_Y 46cd5SLK •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 wa*/Am9;~ •单击Go! HKZD*E(( amY\1quD| OPsg3pW!] kxp, ZP 场追迹结果(摄像机探测器) {Ex*8sU%p% 43 h0i-%1 b7_uT`< •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 aOH$}QnS •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 EgT2a Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Q(\U'|%J SsE8;IGH
*6trK`tx^ ]d|:&h 场追迹结果(电磁场探测器) R|Lr@k{6+r DZI:zsf;5Q toCxY+"nbU •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =6sL}$ ,>rr|O
"A6T'nOP 文件信息 >5Rcj(-&l ;Xw'WMb*=
B8'e,9 0*F{=X~L SCZ6:P"$qX QQ:2987619807 oS/cS)N20
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