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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 }9"'' Z  
    MWv@]P_0p!  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 q* R}yt5  
    ; R+>}6  
    #!F>cez  
    'z8FU~oU  
    建模任务 MTtx|L\4  
    O.B9w+G=  
    66pjWS {X  
    概观 \PxT47[@e  
    ]oV{JR]  
    g9" wX?*  
    光线追迹仿真 [ *Dj:A)V^  
    \lQ3j8 U  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /*y5W-'d^  
    X3}eq|r9  
    •点击Go！ k 3m_L-  
    •获得3D光线追迹结果。 rgVRF44X{  
    3Tu]-.  
     lk 1\|Q I  
    /Ot3[B  
    光线追迹仿真 L6_%SGY_iE  
    Np+PUu>  
    X=#us7W}  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 |)!f".`  
    •单击Go！ q|<B9Jk  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     a|z-EKV  
    %N-aLw\  
    &qS%~h%2  
    MG vz-E1e  
    场追迹仿真 |;US)B8}*Z  
    u"qVT9C$=  
     J| N 6r  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 D:Q#%wJ  
    •单击Go！     %FYhq:j  
    g}0K@z3  
    o>8~rtl  
    CnB[ImMs(A  
    场追迹结果（摄像机探测器） F NPu  
     kaCN^yQ  
    '* y(F*7+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E'a OHSAg  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 /7D5I\  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 HMF2sc$N  
    qt@/  
    ym{@w3"S  
     O(W"QY  
    场追迹结果（电磁场探测器） R/v|ZvI  
    M3-lL;!n  
    !-}Q{<2@W  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     &AJ bx  
    our ^J8  
    QWOPCoUet  
    文件信息 H*N<7#  
    u"qu!EY2  
     i6V$mhL  
    DYf2V6'  
     3`reXms*{  
    QQ：2987619807 ~k&b  
     
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