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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ~MvLrg"i  
    ,oW8im   
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  2Z ? N  
    %cDTy]ILu  
    ]t69a4&,#9  
    yM3]<~m  
    建模任务 bd n{Y  
    (HHVup1f  
    Lv;R8^n  
    概观 y6[^I'kz  
    )8H5ovj.  
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    光线追迹仿真 K%Sy~6iD&  
    (5l5@MN  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 . Q#X'j  
    N6GvzmG#g  
    •点击Go！ |JpLMUG  
    •获得3D光线追迹结果。 HiBw==vlV  
    4eSV( u)4  
     -3M6[`/  
    N XwQvm;q  
    光线追迹仿真 :Fm{U0;"  
    sK#)wjj\^  
    ^#H%LLt  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 w$JG:y#  
    •单击Go！ s W#}QYd  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     J!Kk7 !^|  
    FW)G5^Tf  
    YN\!I  
    `-l, `7e'  
    场追迹仿真 E7eOKNVC#  
    QyJ2P{z  
    y<|vcg8x  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 @:'swO/\<  
    •单击Go！     r?e)2l~C8j  
    3pSkk  
    `+~@VZ3m  
    $<)k-Cf  
    场追迹结果（摄像机探测器） giy4<  
     :y)'_p *l/  
    4\%0a,\^  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 b|i94y(  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 GS^U6Xef  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 @_&@M~ u  
    %N!2 _uk5  
    3|/<Pk  
     ' LT6%<|  
    场追迹结果（电磁场探测器） * i[^-  
    sR`WV6!9  
    ^(p}hSLAfQ  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     RlU=  
    o=`FGowF  
    ,|4%YaN.3  
    文件信息 dm60O8  
    ~eH+*U|\|M  
     Re <G#*^  
    zWxKp;.  
     1uTbN  
    QQ：2987619807 g;U f?  
     
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