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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 N 0&h5  
     N6E H  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 D*DCMMp=0  
    y7ijT='8  
    BRFA%FZ,  
    XQ%*U=)s  
    建模任务 C8DZ:3E$c  
    $2 ~RZpS  
    s==gjA e:  
    概观 H)G ^ Y1  
    6#K1LY5}  
    <IGnWAWn  
    光线追迹仿真 'h.{fKG]ME  
    7?qRY9Qu  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 iO,0Sb <y  
    wz$1^ml  
    •点击Go！ ~aNK)<Fznd  
    •获得3D光线追迹结果。 $j)Er.!9|R  
    o2@8w[r  
     oXK`=.\  
    A+69_?B TH  
    光线追迹仿真 Nf%jLK~  
    KaZ*HPe(  
    (`k0tC2  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 #&\^{Z  
    •单击Go！ T""X~+{Z@  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     5qGRz"\p~  
    a9(1 6k  
    $oHlfV/!  
    c_)vWU  
    场追迹仿真 WhMr'l/e  
    ~Wm`SIV  
    ;m,lS_[c  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 KxqT5`P&  
    •单击Go！     5^t68 WOl  
    xYtY}?!"  
    r3mB"("Z'  
    BBm.;=8@ ^  
    场追迹结果（摄像机探测器） vS6}R5  
     $M@SZknm  
    @f{yx\u/  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 gz;().{  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 \_#0Z+pX  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 #?k$0|60  
    U#gHc:$  
    8*;G\$+  
     aEW Z*y  
    场追迹结果（电磁场探测器） E<1^i;F  
    2fT't"gw  
    43W>4fsc  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     SXSH9;j  
    zU:zzT}|TZ  
    y/K%F,WMf  
    文件信息 YQG[8I  
    +[V[{n  
     HU-4k/I~  
    L[)+J2_<  
     6]Q ~c"+5  
    QQ：2987619807 0|nvi=4~e|  
     
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