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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ;BH.,{*@B  
    oJQS&3;/r  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 '=Zm[P,  
    q#mL-3OQ  
    Q%d%Io\-t  
    "Ux(nt  
    建模任务 u3O@ccJ;  
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    J+IItO4%  
    概观 grgs r_)[  
    J(d+EjC  
    3 5.&!4}  
    光线追迹仿真 \&kj#)JYA  
    uGC5XX^  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 0*5Jq#5  
    ]R)wBug  
    •点击Go！ ;a1DIUm'  
    •获得3D光线追迹结果。 <dP \vLH_  
    81y<Uz 6  
     uXFI7vV6P  
    _`;KmD&5  
    光线追迹仿真 ,NZllnW  
    ;y\/7E  
    ~%=%5}  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ynM~&]fk#k  
    •单击Go！ jXf@JxQ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     PZqp;!:xz  
    lG'D/#  
    +`Q]p" G  
    _h ^.`Tz,  
    场追迹仿真 >Z_;ZMu)  
    vb>F)po1}  
    jnOnV1I"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 q&>fKSnKs  
    •单击Go！     /}E2Rr?{  
    X:Wd%CHP  
    r&a} U6k(y  
    iy]L"7&Z2  
    场追迹结果（摄像机探测器） SF; \*]["f  
     2qE_SSXn  
    Cn 5"zDK$  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0 `7y Pq*  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Mo N/?VA  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 :tO4LEb  
    )-[$m%  
    .qohHJ&  
     QObVJg,GD  
    场追迹结果（电磁场探测器） [Lje?M* r  
    QAxy?m,'  
    {0F/6GwUC  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     wg)Bx#>\L:  
    BZ.l[LMp  
    {~O4*2zg;K  
    文件信息 %$zak@3%'  
    [6RODp3')  
     ~ 2Hw\fx  
    l2 n`fZL  
     PQl A(v+S  
    QQ：2987619807 T:kliM"z  
     
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