-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-29
- 在线时间1766小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 6!3Jr 7Z;w<b~ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 >Lo!8Hen :~2An-V Sl{nS1q Gkr^uXNg# 建模任务 Q l$t s\`Vr;R:| 2z\4?HJy 概观 ecH-JPm' ` tkd1M #NVqS5 光线追迹仿真 Y,bw:vX YORFq9a{R •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 yMNLsR~ rh $J |oVVct •点击Go! $<UX/a\sH •获得3D光线追迹结果。 4R U1tWQ% B=;pyhc
lbES9o5 sJlX]\RLQ 光线追迹仿真 toipEp<ci / -=(51}E Z w5\{Z0 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 s'^zudx •单击Go! a .5s5g)8 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ~PNO|]8j X*~NE\ -?b@ 6U JXlFo3< 场追迹仿真 R0<ka[+ eh'mSf^=p xaerMr •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2`* %NJ •单击Go! yvxC/Jo4 We]X+>BlO !dLz ?0 F.=uJdl.! 场追迹结果(摄像机探测器) W4CI=94 YF{K9M! +k"dN^K]D •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #{0DpSzE5 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 (Df<QC`0v Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 bE>3D#V< $EJ*x$
!9"R4~4 FGx_qBG4| 场追迹结果(电磁场探测器) YeJ95\jf {NK>9phoB fC3IxlG •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 IQ{Xj3;?y i,")U)b
V8Q#%#)FHe 文件信息 (?\ZN+V) 9L#B"lh
16N8h]l ^qbX9.\ oz5o=gt7 QQ:2987619807 F.8{
H9`
|