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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 s9CmR]C  
    0{z8pNrc  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 gFHBIN;u  
    U!r8}@  
    p{LbTjdNc  
    y.D+M$f  
    建模任务 l+P!I{n  
    9GCK3  
    UH%H9; ,$]  
    概观 ,m?V3xvq  
    >\<eR]12  
    5Ex[}y9L`  
    光线追迹仿真 uuwJ-  
    \}=T4w-e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 (:OMt2{r  
    R3_OCM_*  
    •点击Go！ p@f #fs  
    •获得3D光线追迹结果。 jGz~}&B  
    GLecBF+>F  
     4sQm"XgE  
    9M27;"gK  
    光线追迹仿真 7{O iV}]"  
    c:.5@eq^  
    d}:- Q?  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 *izCXfW7  
    •单击Go！ TBPu&+3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     mJ<`/p?:  
    ?.< Qgd  
    J(d+EjC  
    tmS2%1o  
    场追迹仿真 mwLf)xt0'  
    uGC5XX^  
    )GVTa4}p  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (BPp2^  
    •单击Go！     ;a1DIUm'  
    <dP \vLH_  
    ddKP3}  
    \ .#Y  
    场追迹结果（摄像机探测器） ;.sYE/ZVi  
     m0ra  
    ,.ivdg( /  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 J?J4<l9  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5)XUT`;'){  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 jXf@JxQ  
    B2]52Fg-"  
    <lIm==U<-  
     i *:QbMb  
    场追迹结果（电磁场探测器） )r{Wj*u  
    @br)m](@  
    K2x2Y=  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     DVhBZ!u 9  
    CUH u=  
    w%qnH e9  
    文件信息 >qNpY(Ql  
    lmHQ"z 3G  
     ~HGSA(  
    80lhhqRC  
     h.#:7d(g  
    QQ：2987619807 EoPvF`T  
     
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