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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 2 NgEzY 5  
    3sk$B%a>Z  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 N F[v/S  
    *ay>MlcV2=  
    1$q>\  
    ? [?{X~uq  
    建模任务 gzK"'4`  
    VWlOMqL995  
    EBY=ccGE{  
    概观 IX7|_ci  
    1@nGD<,.  
    y&0&K 4aa  
    光线追迹仿真 oRM,_  
    LF'M!C9|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 yqF$J"=|  
    6?/$K{AI  
    •点击Go！ }57wE$9K  
    •获得3D光线追迹结果。 S8O^^jJq;  
    `  L(AvSR  
     ^|6%~jkD5  
    kO:iA0KUX  
    光线追迹仿真 u"K-mr#$[o  
    1n! Jfs U  
    OC zWP,  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。  `x"0  
    •单击Go！ x@F"ZiYD@O  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     H!Y`?Rc  
    _Cv({m&N  
    ,w|f*L$  
    V8>%$O sw  
    场追迹仿真 ,.` ";='o  
    (Al.hEs'  
    @WX]K0 $;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 DT #1*&-  
    •单击Go！     l1~>{:mq  
    1\7SiQ-  
    W:uIG-y~  
    ?op6_a-wm  
    场追迹结果（摄像机探测器） G3P3  
     "Hmo`EB0  
    w$H=GF?"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <CL0@?*i9  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 XF1x*zc  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 o/9(+AA>  
    \oPW  
    EA 4a Z6%  
     `j088<?j  
    场追迹结果（电磁场探测器） Vtm5&-  
    WKZ9i2hcdf  
    3OV#H%  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ^3QHB1I  
    VrhG=CK  
    hq/k}Y  
    文件信息 lY_E=K]  
    0fnd9`N!0  
     q('O@-HA  
    CD(2A,u)/  
     -p`hevRr  
    QQ：2987619807 WO*YBH@  
     
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