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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ojA i2uz  
    j.FW*iX1C  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 U0Y;*_>4  
    DG!H8^  
    ! 9U  
    =(^-s Jk  
    建模任务 WE hDep:  
    Zss `##  
    +?!x;qS^  
    概观 Qmk}smvH  
    _ `RCY^t  
    CfWtCA  
    光线追迹仿真 O&Ws*k  
    }95;qyQ$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 {4@+ 2)l  
    keBf^NY  
    •点击Go！ 4%3R}-'mh  
    •获得3D光线追迹结果。 JF vVRGWB  
    jv C.T]<B  
     P9\!JH!  
    m\}8N u  
    光线追迹仿真 Q^iE,_Zq  
    p..O;_U  
    },d`<^~  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 l^@!,Z  
    •单击Go！ 4K(AXk  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     *,UD&N_)*6  
    pnvHh0ck_  
    WI?iz-,](  
    4a&*?=GG  
    场追迹仿真 0 tZ>yR  
    h#o3qY  
    yJheni  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 } +@H&}u  
    •单击Go！     mv,<#<-W  
    epWO}@ b a  
    '>}dqp{Wr  
    33{(IzL0  
    场追迹结果（摄像机探测器） _m  *8f\  
     Q UQ"2oC  
    (\Iz(N["G  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :< )"G&  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 O%g%*9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 M%3 \]&  
    d"1DE  
    Vu%XoI)<KY  
     +EmT+$>J  
    场追迹结果（电磁场探测器） y}fF<qih'>  
    j=%^CRum  
    #q06K2  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     c\n&Z'vK  
    1;\A./FVv  
    ?HP54G<{xz  
    文件信息 X_7cwPY  
    fI/?2ZH  
     D*>EWlZ   
    aX oD{zA  
     Q Eh_2  
    QQ：2987619807 \WDL?(G<  
     
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