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摘要 s9CmR]C 0 {z8pNrc 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 gFHBIN;u U!r8}@ p{LbTjdNc y.D+M$f 建模任务 l+P!I{n 9GCK3 UH%H9;
,$] 概观 ,m?V3xvq >\<eR]12 5Ex[}y9L` 光线追迹仿真 uuwJ- \}=T4w-e •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 (:OMt2{r R3_OCM_* •点击Go! p@f
#fs •获得3D光线追迹结果。 jGz~}&B GLecBF+>F
4sQm"XgE 9M27;"gK 光线追迹仿真 7{O
iV}]" c:.5@eq^ d}:-Q? •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 *izCXfW7 •单击Go! TBPu&+3 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 mJ<`/p?: ?.<
Qgd J(d+EjC tmS2%1o 场追迹仿真 mwLf)xt0' uGC5XX^ )GVTa4}p •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 (BP p2^ •单击Go! ;a1DIUm' <dP\vLH_ ddKP3} \ . #Y 场追迹结果(摄像机探测器) ;.sYE/ZVi m0ra ,.ivdg(/ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 J?J4<l9 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 5)XUT`;'){ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 jXf@JxQ B2]52Fg-"
<lIm==U<- i*:QbMb 场追迹结果(电磁场探测器) )r{Wj*u @br)m](@ K2x2Y= •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 DVhBZ!u9 CUH u=
w%qnH e9 文件信息 >qNpY(Ql lmHQ"z 3G
~HGSA( 80lhhqRC h.#:7d(g QQ:2987619807 EoPvF`T
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