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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Wu&Di8GhP  
    m'B6qy!}6  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 nu<!/O  
    F]*-i 55S  
    DS2$w9!  
    cj#q7  
    建模任务 !v L :P2  
    \IfgL$+  
    :GYv9OG  
    概观 urB3  
    ~\G3 l,4  
    m^.C(}  
    光线追迹仿真 swFOh5z  
    #+PbcL  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 xlO2jSSAt  
    ;alFK*K6  
    •点击Go！ Q9>]@DrAx  
    •获得3D光线追迹结果。 wS0bk<(  
    ,-Nk-g  
     l7!)#^`2_  
    8!6*|!,:?n  
    光线追迹仿真 I}IW!K  
    ItPK  
    ^b %8_?2m  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 NF!1)  
    •单击Go！ yo,!u\^x  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     RA I&;"  
    Z|% 2495\  
    yWtr,  
    8k^y.B  
    场追迹仿真 J6ShIPc  
    .b oizW1+  
    \=_q{  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 MwqT`;lb  
    •单击Go！     p\;)^O4  
    3og$'#6P  
    f {Z%:H  
    ><R.z( 4%  
    场追迹结果（摄像机探测器） ](:FW '-  
     HbfB[%  
    ld}$Tsy0  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 uE`|0  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 lkg*AAR?'  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 b|o!&9Yyr  
    %H@76NvEz  
    8 {]Gh 0+  
     f\U&M,L\ '  
    场追迹结果（电磁场探测器） ;;hyjFGq%  
    }k0-?_Z=1  
    eSNSnh]'  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5qkuK F  
    _I-VWDCk  
    gam#6 s  
    文件信息 9XqAjez\  
    SuH.lCF-g  
     yPh2P5}H>  
    )z235}P  
     OrEuQ-,i@  
    QQ：2987619807 6*aa[,>  
     
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