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摘要 t=nZ1GZyM 8:t!m>(* 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 >\br8=R niA>afo []lMv
ZW h*
72 f/# 建模任务 =jEVHIYt p40;@gUug 6Y`rQ/F 概观 *{:Zdg'~E V15/~ ^'%Q>FVb 光线追迹仿真 XX7zm_>+ MgO_gFr •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 >sjvE4s |.*nq •点击Go! ;n q"jm •获得3D光线追迹结果。 DD5cUlOSu ;fW`#aE
8vkCmV EtnuEU 光线追迹仿真 redMlHM WA6reZ `h%K8];<6f •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 d>gQgQ;g •单击Go! s6F0&L;N& •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ~9y/MR kyi"U A82 >*MGF=.QG YEa<zhO8 场追迹仿真 f
AY(ro9Q( *(s0X[- }<qZXb1 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 0.\}D:x(z •单击Go! g@'2 :'\ C2CR#b=)i Nwj M=GG G#Kw6 场追迹结果(摄像机探测器) x4i&;SP0 W|Cs{rBc? uZTbJ3$$ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 n8E3w:A- •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 @Q7^caG Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 \sAkKPI ]eUD3WUe>q
OI_Px3)
y bE,#, 场追迹结果(电磁场探测器) 4/V;g%0uN; b0sj0w / cQ;@z2\ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 7z_ZD0PxPc wV\7
wh#IQ.E- 文件信息 )(OGo`4Qz ;eJ|)*
PWeWz(]0Z4 ^M1jv( 194n QQ:2987619807 {Hie%2V
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