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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 4h:R+o ^H^  
     q0Rd^c  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 H` !%"  
    4}nsW}jCc  
    7/*a  
    UO-<~DgH  
    建模任务 [5&zyIi  
    8ut:cCrmg  
    Jz(!eTVs  
    概观 Zkn$D:  
    G/tah@N[7  
     4{2)ZI#  
    光线追迹仿真 A/kRw'6  
    cI#2MjL  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 SZ+<0Y |  
    K*&?+_v :  
    •点击Go！ "zJGYBen  
    •获得3D光线追迹结果。 b"Ep?=*5  
    Z  Mp  
     Bsm>^zZ`YU  
    k:(i sKIA  
    光线追迹仿真 ;bJ2miO"e  
    BV=L.*  
    H*U\P2C!)  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 W!a~ #R/r-  
    •单击Go！ *|c*/7]<  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ?Z}n0E `  
    USVM' ~p I  
    r30t`o12i  
    ypxqW8Xe  
    场追迹仿真 ,6[}qw) *  
    m.~&n!1W*`  
    ;]<{ <czc  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 W68d"J%>_  
    •单击Go！     z~d\d!u1  
    }`/wj  
    .ON+ ( #n  
    *qcL(] Yq  
    场追迹结果（摄像机探测器） U:]b&I  
     yVPkJ  
    \FOX#|i)  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 s)]Z*#ZZ  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 m,n V,}@J  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 <DS+"#  
    CL(,Q8yG  
    mfu >j,7l  
     p9<OXeY   
    场追迹结果（电磁场探测器） W%]sI n  
    [woR9azC  
    g0.D36  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     YWA:741  
    sV7dgvVd  
    SEY  
    文件信息 2aUz.k8o  
    C]UBu-]#S  
     NF=FbvNe  
    to Ei4u)m  
     `+b>@2D_  
    QQ：2987619807 pt8X.f,iA  
     
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