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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ( t59SY  
    &1$|KbmV4  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  T6N~L~J  
    9>hK4&m^  
    UJhUb)}^  
    D!nx%%q  
    建模任务 BhC>G2 ^7  
    u$V8fus0  
    19 <Lgr  
    概观 U.p"JSH L  
    }D7} %P]  
    (|U|>@  
    光线追迹仿真 z< ,rE  
     D/]  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 4+'d">+|  
    !;h`J:dN  
    •点击Go！ l"app]uVZ  
    •获得3D光线追迹结果。 2<33BBlWA  
    ~#y(]Xec2  
     VAet!H+]  
    pA?2UZ  
    光线追迹仿真 %Tm8sQ)1  
    -/3D0`R  
    ,R2;oF_  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 :to1%6  
    •单击Go！ g]Fm%iy  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     rw]7Lr_>  
     j2%?-(U  
    Ch,%xs.)G  
    8lfKlXR78  
    场追迹仿真 j=5hW.fI  
    ] R-<v&O  
    XYdr~/[HPy  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 V/W{d[86G  
    •单击Go！     }hA h'*(  
    CWW|?  
    M&~cU{9c  
    .Mu]uQUF  
    场追迹结果（摄像机探测器） fZF.eRP '  
     TU}. /b@F  
    1./iF>*A  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Q3|I.I e  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 p4M7BK:nf  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Fb&WwGY,P  
    BOf)27)  
    hsZ}FLStJ  
     F`U YgN  
    场追迹结果（电磁场探测器） -VPda @@w  
    Z&Ao;=Gp1  
    9Ls=T=96  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     TATH,Sz:x  
    <Z^qBM  
    9i*Xd$ G  
    文件信息 w;(B4^?  
    &RbT&  
     F-I\x  
    8@J5tFJ&%  
     n,.t~  
    QQ：2987619807 CY i{WV(:  
     
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