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摘要 Wu&Di8GhP m'B6qy!}6 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 nu<!/O F]*-i 55S DS2$ w9! cj#q7 建模任务 !v L:P2 \IfgL$+ :GYv9OG 概观 urB3 ~\G3l,4 m^.C(} 光线追迹仿真 swFOh5z #+PbcL •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 xlO2jSSAt ;alFK*K6 •点击Go! Q9>]@DrAx •获得3D光线追迹结果。 wS0bk<( ,-Nk-g
l7!)#^`2_ 8!6*|!,:?n 光线追迹仿真 I}IW!K ItPK ^b %8_?2m •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 NF!1) •单击Go! yo,!u\^x •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 RAI&;" Z|%2495\ yWtr, 8k^y.B 场追迹仿真 J6ShIPc .boizW1+ \=_q{ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 MwqT`;lb •单击Go! p\;)^O4 3og$'#6P f {Z%:H ><R.z(4% 场追迹结果(摄像机探测器) ](:FW '- HbfB[% ld}$Tsy0 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
uE`|0 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 lkg*AAR?' Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 b|o!&9Yyr %H@76NvEz
8{]Gh 0+ f\U&M,L\' 场追迹结果(电磁场探测器) ;;hyjFGq% }k0-?_Z=1 eSNSnh]' •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 5qkuKF _I-VWDCk
gam#6
s 文件信息
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