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摘要 d2~*fHx_! o54/r#~fi 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 %2q0lFdcM frh!dN
,`Yx(4!rR ":I@>t{H* 建模任务 Y|
dw>qO 7M.TLV!f] ByU&fx2Z 概观 [@_IUvf^. ?S8_x]E +|K/*VVn` 光线追迹仿真 f,(@K% }+/F?_I=
% •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Dug{)h_2 A[hvT\X •点击Go! B]nu \! •获得3D光线追迹结果。 ^1\[hyZ! $/)0iL{0
(>,}C/-UG ^ZD0rp(l 光线追迹仿真 {P7 I<^, ?y|8bw< Fo;. •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 y**>l{!! •单击Go! 1,Uf-i •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 $=ua$R4Z+ i}_d&.DbF p9Y`_g` btDPP k' 场追迹仿真 q +*>T=k (@3?JJ]1 eCy]ugsi% •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 @D2KDV3' •单击Go! ]D\p<4uepM G_5E#{u W't.e0L<6 qy,X#y'FuE 场追迹结果(摄像机探测器) -z?O^:e#x q,fk@GI'2 3=Va0}#& •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <^YZ#3~1T •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 !k0t
(. Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 :}[[G2|9 ;h#nal>w@S
}ej-Lu,b3 1`@rAA>h' 场追迹结果(电磁场探测器) P(XNtQ= K !|;w(/ Dwi[aC+k •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 iT"H%{+~ a&~]77)
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]7>2?_ 文件信息 `Ef&h V n:5*Tg9
!>L+q@l) +gsk}>" Zjh9jvsW QQ:2987619807 uyDYS
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