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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 6!3Jr  
    7Z;w<b~  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 >Lo!8Hen  
    :~2An-V  
    Sl{nS1q  
    Gkr^uXNg#  
    建模任务 Q l$t  
    s\`Vr;R:|  
    2z\4?HJy  
    概观 ecH-JPm'  
    ` tkd1M  
    #NVqS5  
    光线追迹仿真 Y,bw:vX  
    YORFq9a{R  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 yMNLsR~rh  
    $J |oVVct  
    •点击Go! $<UX/a\sH  
    •获得3D光线追迹结果。 4R U1tWQ%  
    B=;pyhc  
    lbES9o5  
    sJlX ]\RLQ  
    光线追迹仿真 toipEp<ci  
    / -=(51}E  
    Zw5\{Z0  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 s'^zudx  
    •单击Go! a.5s5g)8  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ~PNO|]8j  
    X*~NE\  
    -?b@6U  
    JXlFo3<  
    场追迹仿真 R0<ka[+  
    eh'mSf^=p  
    xae rMr  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2`* %NJ  
    •单击Go!
    yvxC/Jo4  
    We]X+>BlO  
    !dLz ?0  
    F.=u Jdl.!  
    场追迹结果(摄像机探测器)  W4CI=94  
    YF{K9M!  
    +k"dN^K]D  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #{0DpSzE5  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 (Df<QC`0v  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 bE>3D#V<  
    $EJ*x$  
    !9"R4~4  
    FGx_ qBG4|  
    场追迹结果(电磁场探测器) YeJ95\jf  
    {NK>9phoB  
    fC3IxlG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    IQ{Xj3;?y  
    i,")U)b  
    V8Q#%#)FHe  
    文件信息 (?\ZN+V)  
    9L#B"lh  
    16N8h]l  
    ^qbX9.\  
    oz5o=gt7  
    QQ:2987619807 F.8{ H9`  
     
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