切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1422阅读
    • 0回复

    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6080
    光币
    24553
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 d2~*fHx_!  
    o54/r#~fi  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 %2q0lFdcM  
    frh!dN  
    ,`Yx(4!rR  
    ":I@>t{H*  
    建模任务 Y| dw>qO  
    7M.TLV!f]  
    ByU&fx2Z  
    概观 [@_IUvf^.  
    ?S8_x]E  
    +|K/*VVn`  
    光线追迹仿真 f,(@K%  
    }+/F?_I= %  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Dug{)h_2  
    A [hvT\X  
    •点击Go! B]nu \!  
    •获得3D光线追迹结果。 ^1\[hyZ!  
    $/)0iL{0  
    (>,}C/-UG  
    ^ZD0rp(l  
    光线追迹仿真 {P7 I<^,  
    ?y|8bw<  
    Fo;.  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 y**>l{!!  
    •单击Go! 1,Uf-i  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    $=ua$R4Z+  
    i}_d&.DbF  
    p9Y`_g`  
    btDPP k'  
    场追迹仿真  q +*>T=k  
    (@3?JJ]1  
    eCy]ugsi%  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 @D2KDV3'  
    •单击Go!
    ]D\p<4uepM  
    G_5E#{u  
    W't.e0L<6  
    qy,X#y'FuE  
    场追迹结果(摄像机探测器) -z?O^:e#x  
    q,fk@GI'2  
    3=Va0}#&  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <^YZ#3~1T  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 !k0t (.  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 :}[[G2|9  
    ;h#nal>w@S  
    }ej-Lu,b3  
    1`@rAA>h'  
    场追迹结果(电磁场探测器) P(XNtQ=K  
    !|;w(/  
    Dwi[aC+k  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    iT"H%{+~  
    a&~]77)  
    8- ]7>2?_  
    文件信息 `Ef &h V  
    n:5*Tg9  
    !>L+q@l)  
    +gsk}>"  
    Zjh9jvsW  
    QQ:2987619807 uyDYS  
     
    分享到