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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 /|?$C7%a\D  
    *] i hc u  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 j"qND=15  
    P[3i!"O>  
    [}L~zn6>?a  
    l\UjvG  
    建模任务 >#]A2,  
    MAek856  
    b>-DX  
    概观 =QqH`.3  
    #3&@FzD_P  
    q'mh*  
    光线追迹仿真 i~';1 .g  
    |v!N1+v0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 oZBD.s  
    '(vZfzc{J  
    •点击Go！ *[si!e%  
    •获得3D光线追迹结果。 =5|7S&{  
    ^DYS~I%s  
     sYKx 3[V/  
    Q %o@s3~O  
    光线追迹仿真 _Y; TS1u  
    (nqry[g&  
    JK/{Ik F  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 %Ig$:I(o  
    •单击Go！ rFXdxRP;M  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     fL*7u\m:  
    q`<vY'&1  
    ~q`!928Gu  
    H*W>v[>  
    场追迹仿真 dNe!X0[  
    ~c)&9'  
    m{q'RAw  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Q"&Mr+  
    •单击Go！     h:4(Gm;  
    5Tl5T&  
    J M`w6}  
    iH(7.?.r  
    场追迹结果（摄像机探测器） {++ EX2  
     OUBGbld  
    qTuR[(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 i~u4v3r=  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 w.m8SvS&b  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ? |M-0{  
    _}R$h=YD  
    N3G9o`k  
     !gX xM,R  
    场追迹结果（电磁场探测器） <9@n/  
    Z=Y29V8  
    t&U9Z$LS  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     j97+'AKX  
    c9/w{}F  
    !Rv ;~f/2  
    文件信息 :2/L1A)O  
    YIe1AF}   
     gPMR,TU  
    IyO 0~Vx>  
     vj?{={Y  
    QQ：2987619807 fJ}e  
     
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