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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 X~i<g?]  
    {vO9p tR;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 (%:c#;#  
    +&"zU GTIc  
    Lu0x (/  
    eNu7~3k}  
    建模任务 ^<-+@v*  
    7`hP?a=  
    ,i@:5X/t  
    概观 !&Pui{F  
    1&o|TT/  
    SC])?h-Fw  
    光线追迹仿真 ]]juN  
    63~ E#Dt4  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 "2T#MO/  
    5Zva:  
    •点击Go！ uL/m u<  
    •获得3D光线追迹结果。 gOOPe5+ J  
    5lT*hF  
     u4|$bbig  
    K:Q<CQ2  
    光线追迹仿真 q8Z<{#oXu  
    P_p<`sC9  
    k,F6Tx  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 oF GhNk  
    •单击Go！ 6qd\)q6T&x  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     fe#\TNeQJ[  
    rI-%be==  
    mcX/GO}  
    U2~kJ  
    场追迹仿真 5RpjN: 3  
    =6|&Jt  
    p`#R<K  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h.s+)fl\  
    •单击Go！     :'&brp3ii=  
    _aMPa+D=P  
    H_<C!OgR  
    hzbw>g+  
    场追迹结果（摄像机探测器） Y,e B|  
     h@WhNk7"xa  
    Eue~Y+K*b  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ?vHU #  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 y e? 'Ze  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Y~E`9  
     fGw9!  
    A1?2*W  
     M b1s F  
    场追迹结果（电磁场探测器） v(D;PS3r 7  
    zeC RK+-  
    "E?2xf|.  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     pK'V9fD5J  
    oW Nh@C  
    PJrtM AcKq  
    文件信息 g5QZ0Qkj  
    FA3~|Zg  
     LRG6:&  
    58J}{Req  
     e?=^;v%r  
    QQ：2987619807 #PQB(=299P  
     
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