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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 9r ](/"=f  
    ON"p^o>/_?  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 z pg512\y  
    Aa^w{D  
    9/{ 8Y&  
    zm#%]p80f  
    建模任务 wpt5'|I  
    cCcJOhk|d  
    E5Lq-   
    概观 60l!3o"p!  
    n<ecVFft  
    g\H~Y@'{  
    光线追迹仿真 vd/BO  
    M-(,*6Q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @]L$eOV_  
    /sSM<r]5j  
    •点击Go！ t-Ble  
    •获得3D光线追迹结果。 +ZkJ{r0,(  
    3&R1C>JS ]  
     lDVgW}o@  
    &:~9'-O  
    光线追迹仿真 %&eBkN!T  
    F <{k~   
    Rp>%umDyL  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 <3x:nH @  
    •单击Go！ (]-RL A>  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ]'Gz~Z%>F  
    =-avzuy#  
    be [E^%  
    Fe2t[y:8h  
    场追迹仿真 'tt4"z2  
    f DPLB[  
    ~|ha9 1  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 k<RaC=   
    •单击Go！     tUGF8?& G  
    fn8|@)J  
    4D6LP*  
    (W#^-*$R  
    场追迹结果（摄像机探测器） XE#$|Z  
     #<es>~0!  
    3!8u  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 H%{k.#O  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 | NyANsI  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 J 2k4k  
    gI/(hp3ob  
    34L1Gxf  
     Dy{lgT0k  
    场追迹结果（电磁场探测器） <(1[n pS&+  
    !:v7SRUXb  
    ViU5l*n;  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     NzS`s,N4/0  
    .&n! 4F'  
    yoM^6o^,D  
    文件信息 XJ1Bl  
    (/ -90u  
     N9~'\O$'7  
    KLjvPT\  
     y s[z[  
    QQ：2987619807 >uFFTik  
     
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