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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 /43DR;4  
    B {/Pv0y   
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0} liK  
    !U,qr0h  
    ahS*YeS7  
    J}`K&DtM9  
    建模任务 F!`.y7hY@  
    nf /iZ &  
    **-%5 ~  
    概观 \(Zdd \,  
    (LRv c!`"  
    p4Vw`i+DnH  
    光线追迹仿真 I LF"m;  
    C+ r--"Z  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +2B{"Czm  
    52l|  
    •点击Go！ _ZzPy;[i?  
    •获得3D光线追迹结果。 qJ"dkT*  
    %r6~5_A  
     f5wOk& G  
    B Ibcm,YQ  
    光线追迹仿真 w6R=r n  
    q'+XTal  
    vT%rg r  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ~LO MwMHl  
    •单击Go！ IOTHk+w  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     !S%XIq}FX  
    "@GopD  
    HQ@X"y n  
    A+Y>1-=JO  
    场追迹仿真 bU2)pD!N  
    N;-+)=M,rf  
    %>xW_5;Z  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 evg i\"  
    •单击Go！     #hR}7K+@  
    ;c:vz F~Q  
    #5G!lbH  
    k@4]s_2  
    场追迹结果（摄像机探测器） B{s[SZ  
     rI; e!EW  
    4(u+YW GX  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =kZPd>&L  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .__X[Mzth3  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 1/gY]ghL  
    j*W]^uT,  
     A{5 k}  
     O~fRcf:Q  
    场追迹结果（电磁场探测器） G*ym[  
    HEjV7g0E  
    H0tjN&O_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     CX CU5-  
    nF A7@hsm  
    D9#e2ex]  
    文件信息 RG:ct{i  
    YaSwn3i/@S  
      A3'i -  
    lP9a*>=a  
     S 5m1~fz  
    QQ：2987619807 g"# R>&P  
     
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