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摘要 $ 8WJ$73 6H:'_|G 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 *=~X1s FK!UUy; i#1~<U JzZ9ua 建模任务 =F>nqklc :eR[lR^4*
\[ 5mBuk 概观 -7\6j#;l uL[%R2 a8[Q1Fa4| 光线追迹仿真 a"|\n_ 69tT'U3vb$ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Kj`sq":Je0 *d/,Y-tl •点击Go! {I~[a#^ •获得3D光线追迹结果。 J"W+9sI0 q1O}dSPwX
B$kp\yL k w]m7T 光线追迹仿真 *iW$>Yjb WKB@9Vfju Qx% ]u8s •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 r")zR, •单击Go! sxBRg= •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 xgQ]#{tG SjRR8p<
q7'[II; TPeBb8v8D 场追迹仿真 ~RS^Opoa avI ^68BxYUoD\ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 6opubI< •单击Go! Q8sCI An{ GOeYw[Vh /^>yDGT,0 R.+yVO2 场追迹结果(摄像机探测器) ie+746tFW H%\\-Z$# 8;r7ksE~ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $EuWQq7OI2 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 LN?b6s75U Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ?fXlrJ V^^nJs
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dqvgy yq 95G*i;E 场追迹结果(电磁场探测器) }nW) + 6$JRV /rqaUC )A •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =>7\s}QZ XS'0fq a
.C2.j[> 文件信息 #(`@D7S" Y=6b oT
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