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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ?8@>6 IXn  
    fIC9WbiH-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^n.WZUk  
    Iry  
    ^4Am %yyT  
    m`? MV\^  
    建模任务 qOV[TP,  
    ~ AQp|  
    (P|~>k  
    概观 NmIHYN3  
    ,1{Ep`  
    er.L7  
    光线追迹仿真 M[ 5[N{  
    C_fY %O  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 q> :$c0JY  
    Q/>L_S  
    •点击Go！ I8Vb-YeS  
    •获得3D光线追迹结果。 D<{{ :7n  
    9 t n!t  
     i7[uLdQ  
    ._:nw=Y0<}  
    光线追迹仿真 OK|qv[  
    ,SlN zR  
    /(C~~XP)  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 zW |=2oX2  
    •单击Go！ 1r)kR@!LNG  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ^t "iX9  
    -|yb[~3  
    $3+PbYY  
    7B9`<{!h  
    场追迹仿真 4b]a&_-}  
    !|?e7u7  
    L];y}]:F*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 W{cY6@  
    •单击Go！     6$Q,Y}j  
    M.}7pJ7f  
    0"k |H&  
    c>bq%}  
    场追迹结果（摄像机探测器） !hxIlVd{  
     E9! N>0  
    <msxHw  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 2i#Sn'1  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 g\oSG)  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 +0z 7KO%^^  
    u<ySd?  
    \6|/RFT  
     ^ ?hA@{T/1  
    场追迹结果（电磁场探测器） cvsz%:Vs  
    woH)0v  
    cX!Pz.C  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Q'B6^%:<~  
    5m$2Ku  
    q!'rz  
    文件信息 .] 4W!])9  
    ug 7o>PX  
     U$&hZ_A  
    J<j&;:IRd  
     7iC *Pr  
    QQ：2987619807 $9 p!Y}  
     
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