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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 SDu#Yt&mhh  
    xh7cVE[UM  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Bj k]ZU0T  
    Tc8 un.  
    #e' }.4cr  
    { eCC$&"  
    建模任务 Ox#\M0Wn$3  
    O"Ku1t!  
    zi`b2h  
    概观 *Qugv^-  
    q0f3="  
    l @^3Exwt  
    光线追迹仿真 }|PY!O  
    ,0x y\u  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @u==x *{ |  
    XGP6L0j  
    •点击Go！ n6s}ww)  
    •获得3D光线追迹结果。 \j&^aAp r  
    311LC cRp  
     J7r|atSk  
    X]\ \,  
    光线追迹仿真 !rqF}d  
    $<:E'^SAS  
    !\&;h  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 pdE3r$C  
    •单击Go！ 3p0LN'q]A  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Eb=}FuV  
    f=)2f =  
    s kg*  
    #1>X58I^  
    场追迹仿真 m1Y >Nj[f  
    >JiltF7H0  
    ],P;WPU  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ,"B+r6}EF  
    •单击Go！     ^tXJj:wtS  
    P2bZ65>3y  
    Yo[;W vu  
    7b<yVP;{  
    场追迹结果（摄像机探测器） )_U<7"~0l  
     (\SA *.)  
    HD(.BW7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 lT(oL|{#P  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 1Tu *79A  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ~8lwe*lNV  
    <:?r:fQX  
    x g0iN'e'K  
     ?M[ A7?  
    场追迹结果（电磁场探测器） =jN *P?  
    ;<leKcvhQ&  
    St e=&^  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     9/nn)soC3  
    \EVBwE,  
    )oyIe)  
    文件信息 TA{\PKA)  
    '0FhL)x?"T  
     Rz.?i+  
    #5f-`~^C{  
     Z?\2F%  
    QQ：2987619807 5-M&5f.   
     
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