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摘要 JM M\ )~WxNn3rx 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ]5}
=r ZL@7Mr!e fXL$CgXG\x `!rHH 建模任务 !.F`8OD`u v1;`.PWD 8rw;Yo<k 概观 Q PGssQR6 s=28. V&qXsyg 光线追迹仿真 ?X=9@ m u(d>R5}' •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ;B
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YnBZ •点击Go! @P)GDB7A •获得3D光线追迹结果。 <6Br]a60RR -BB 5bsjA
JP[BSmhAV hNP| 光线追迹仿真 |~'{ [?a* Oa*/jZjr F!.@1Fi1 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 5vY1 XZt{ •单击Go! fv)-o&Q# •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 l&E- H@Pe /X8b=:h DGp'Xx_8 )%)?M
* 场追迹仿真 V_0e/7}Ya "bC8/^ O^
f[ugs •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2)mKcUL- •单击Go! }Z2Y>raA\ gpO@xk$ KJSN)yn\ UD"e:O_ 场追迹结果(摄像机探测器) #{<Jm?sU lQ)ZsFs= "i9$w\lm •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 pNE!waR> •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 c~dX8+ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 (}bP`[@rX! ,TP^i 0
AvhmN5O= y?Fh%%uNr 场追迹结果(电磁场探测器) u9'4q<>& 2D&tDX< 1jQz%^~ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 A2F+$N V .$< |