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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 .k%[4:Fe  
    `f*Q$Ulqx  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _j< K=){  
    d$ x"/A]<  
    B9NWW6S  
    $5ak_@AC  
    建模任务 qz0;p=$8Z  
    .J)I | '  
    jRJn+  
    概观 CGY]r.O*  
    _kU:Z  
    P<X\%_Iat  
    光线追迹仿真 c'%-jG)\  
    ]:Ns f|C0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ]n_ k`  
    ca7=V/i_a{  
    •点击Go！ 6{n!Cb[e  
    •获得3D光线追迹结果。 yku5SEJ\  
    =5/9%P8j9  
     JtEo'As:[  
    9x>d[-#y:J  
    光线追迹仿真 dQV;3^iUY  
    UNom-  
    b:l P%|7  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 QdL`|  
    •单击Go！ `6lr4Kk @R  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     r+":'/[x  
    pEBM3r!X  
    K{|p~B  
    eJxw) zd7  
    场追迹仿真 u%}nw :>  
    D^l%{IG   
    g!lWu[d  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 kCR_tn 4  
    •单击Go！     0ZZZoP o  
    ^@3sT,M,S  
    'p> Ra/4  
    M+U9R@  
    场追迹结果（摄像机探测器） WY?[,_4U  
     QZ6D7t Uc8  
    ok!L.ac  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 }+.}J  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 `|{-+m  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 QEz? w}b*  
    }4 )H   
    fI&t]   
     06O2:5zF  
    场追迹结果（电磁场探测器） &dM. d!  
    YC++& Nk  
    c3 jx+Q  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     mq@6Q\Z+  
    kD=WO4}  
    % tS,}ze  
    文件信息 hIy~B['  
    n^Hm;BiE#  
     :r{<zd>;  
    W>) M5t4i  
     )J2mM  
    QQ：2987619807 y0sR6TY)f  
     
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