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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 !`JaYUL[e  
    INZs DM 9  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 cxn3e,d`  
    W1fEUVj  
    YBehyx2eK  
    @m[q0G}  
    建模任务 BIqZg$  
    G(" S6u  
    yY+)IU.  
    概观 -{n2^vvF  
    ',$Uw|N  
    $dIu${lu  
    光线追迹仿真 c6VfFt6p  
    ji9 (!G  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 >$Sc}a3  
    E{'{fo!#)  
    •点击Go！ v,Eqn8/O  
    •获得3D光线追迹结果。 2O;Lw@W  
    vkUXMMuf+e  
     HGM? ?=  
    Va"H.]  
    光线追迹仿真 jd ]$U_U(  
    M uz+j.0  
    !'scOWWn  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 NX.%Rj*  
    •单击Go！ f"i(+:la  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     $$'a  
    gJ;jh7e@  
    tf<}%4G  
    Zfwhg4G~  
    场追迹仿真 _7e ^ t N  
    B"KDr_,,  
    ^jY/w>UdH  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 t 3LRmjL  
    •单击Go！     p=13tQS<  
    pAK7V;sJ  
    q-? k=RX`  
    a* 2*aH7  
    场追迹结果（摄像机探测器） Qk`ykTS!  
     Hg[g{A_G[  
    JdYmUM|K/c  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 .0ov>4,R  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 R{6~7<m.  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 b{+7sl  
    <d*;d3gm  
    ^v2-"mX<  
     ui>0?O*G  
    场追迹结果（电磁场探测器） *,x-}%X  
    }253Q!f  
    Uw`YlUT\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     nf%"7y{dd  
    NCu:E{([  
    6 (M^`&fl  
    文件信息 p-CBsm5P  
    UYw_k\  
     l(Y U9dp  
    1&7~.S;km  
     &PE/\_xD_  
    QQ：2987619807 !\'NBq,  
     
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