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    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 WohK,<Or  
    JT<Ia  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 m.EWYO0XQ  
    XUUS N  
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    建模任务 i' |S g  
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    概观 D@4hQC\  
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    光线追迹仿真 C2eei're  
    94|BSxc  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ^O[q C X  
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    •点击Go！ iAWPE`u4  
    •获得3D光线追迹结果。 jB?Tua$,s  
    {v]A`u)  
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    Te!q(;L`4  
    光线追迹仿真 R0\E?9P  
    p#J}@a  
    xp>r a2A  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 t91v%L   
    •单击Go！ "vjz $.  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。      i)8,u  
    ZZFa<AK4  
    ^i#q{@g  
    u& :-&gva  
    场追迹仿真 MWsBZJRr  
    0$/wH#f  
    x8gUP  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 c<-_Vh.:5  
    •单击Go！     OYNs1yB  
    UG48g}  
    M_UhFY='  
    +&-/$\"  
    场追迹结果（摄像机探测器） S1;#5 8  
     OZLU>LU  
    oXV  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 n>Q/XQXB  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 -5d8j<,  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 vQ26U(7\>  
    q}tLOVu1  
    0D:J d6\  
     8KT|ixs  
    场追迹结果（电磁场探测器） Sep}{`u  
    HDA!;&NRS  
    ~0t] `<y=  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Nm:nSqc  
    mTYEK4}  
    [|xHXcW  
    文件信息 0b~5i-zM/  
    8GV$L~i  
     q9yY%  
    L5of(gQ5]  
      N6E H  
    QQ：2987619807 .z7F58  
     
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