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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 j&UMjI9[  
    QW_agm  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Bk}><H  
    }P3tn  
    ?+c`]gO7N  
    GdVhK:<>  
    建模任务 {u[V{XIUh  
    W- $a Y2  
    -B$~`2-  
    概观 3@n>*7/E  
    v_S4hz6w\  
    eh*6cQ.0  
    光线追迹仿真 QR">.k4QJ  
    b.O9ITR  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 IZ3{>N V  
    $DBGLmw  
    •点击Go! &ff&Y.q~  
    •获得3D光线追迹结果。 |xoF49  
    qi^!GA'5j  
    fn CItK~y  
    B$?qQ|0:=  
    光线追迹仿真 ];+#i"l  
    g`k?AM\  
    pbHsR^  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 QMo}W{D  
    •单击Go! 8_H=^a>2  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    HftxS  
    (x;g/!:  
    6O2=Ns;J6  
    O;[9_[  
    场追迹仿真 wzjU,Mw e  
    'j%F]CK  
    V2|3i}V"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 M!M!Ni  
    •单击Go!
    BsZ{|,oQnZ  
    qJR!$?  
    kJs^ z  
    1on'^8]0  
    场追迹结果(摄像机探测器) +~sd"v6  
    jY!ZkQsVe  
    *oI*-C  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ]7AX%EG3  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 7@%'wy&A  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 aaWJ* >rJ  
    K,xW6DiH  
    P`1EPF  
    k /EDc533d  
    场追迹结果(电磁场探测器) \'?#i @O  
    bzmr"/#D3  
    K_-d(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    fn{S "33"  
    [IM%b~j(^  
    L$v^afP?  
    文件信息 !$XHQLqF2  
    JbQZ!+  
    mjnUs-`W|  
    6er(%4!  
    MN;/*t  
    QQ:2987619807 7_KhV  
     
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