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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ayr CLv  
    oyq9XW~ D  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 l#fwNM/F  
    Xhp={p;  
    ZiaHLpk  
    ;3Z6K5z*f  
    建模任务 Eh&-b6:  
    ]?lUe5F  
    !pxOhO.V  
    概观 AI#.G7'O  
    E~`l/ W  
    {8T/;K@  
    光线追迹仿真 "-R19SpJKh  
    1fqJtP6  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 cjwc:3 CM  
    bDjm:G  
    •点击Go！ S,vh  
    •获得3D光线追迹结果。 $d5}OI"g  
    v/x~L$[  
     HUalD3 \  
    Dy|)u1?  
    光线追迹仿真 DdCNCXU  
    'q\[aKEX=  
    og`K! d~  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 qyL!>kZr@  
    •单击Go！ Y(B3M=j  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Wgb L9'}B  
    `l0"4 [?  
    A.cNOous|  
    `rb}"V+  
    场追迹仿真 Ni>!b6 Z`[  
    v,d'SR.  
    A5go)~x\  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 +;bP.[Z  
    •单击Go！     #Q@~ TW  
    kK/( [!  
    ?,w9e|  
    gN .n _!  
    场追迹结果（摄像机探测器） 65U&P5W  
     eS/Au[wS  
    %r]V:d+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 z!aU85y  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e[Jh7r>'  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Xx1eSX  
    zKfY0A R  
    LC})aV|  
     3jjV bm  
    场追迹结果（电磁场探测器） "f:_(np,  
    6e%ZNw{#=  
    [F+*e=wjN>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     -{E S 36  
    65l9dM2  
    S,f:nLT  
    文件信息 YI?tmqzt  
    $S/EINc  
     _2X6c,  
    rmeGk&*R8  
     @#"6_{!j_X  
    QQ：2987619807 xM?tdQ~VHY  
     
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