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摘要 B?QIN] y5r4&~04 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 hPh-+Hb "Q<MS'a S/ *E,))m ~u{uZ(~ 建模任务 OI*H,Z" baasGa3}s |)&%A%m 概观 4*L_)z&4; D9df=lv
mD _!6jR5&r, 光线追迹仿真 J,hCvm ' QG?nu •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 `uFdwO'DD <%d>v-=B •点击Go! HQ g^
h •获得3D光线追迹结果。 ^~dWU> O^.#d
,}PgOJZ LLo;\WGZ 光线追迹仿真 Y73C5.dNcE do%&m]#; EPm/r •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ok[i<zl;' •单击Go! .8R@2c`}Cs •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 eDMO]5}Ht i. "v4D rsQtMtS2 |=w@H]r 场追迹仿真 S!UaH>Rh H)?z
#x Wri<h:1 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 )UR7i8]!0 •单击Go! %;_MGae ZH8,KY" &HW9Jn fl(wV.Je| 场追迹结果(摄像机探测器) tYS06P^< Q?vlfZR`8 Wc#24:OKe3 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~ a: •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 D^O@'zP=At Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 u[YGm:} %Zi} MPx
+rd+0 `}C #] QZ 场追迹结果(电磁场探测器) fex@,I&
cr3^6HB py4 h(04u •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 u_enqC3 w>gYx(8b
N)T}P\l 文件信息 ]DcFySyv X8|,
0S"MC9beg U/U);frH Dtk=[;"k2a QQ:2987619807 dH!*!r>
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