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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 w;}pebL:  
    -qz;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  UN[rW0*  
    5an#,vCn{  
    =< j8)2  
    F)g.CDQ!c  
    建模任务 k !Nl#.j  
    Rok` }t  
    @V:4tG.<sw  
    概观 }Wjb0V  
    XzGPBi  
    0TK+R43_  
    光线追迹仿真 8nw_Jatk1  
    o%X@Bz  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 d-nqV5  
    5CH9m[S  
    •点击Go！ S83wAr9T  
    •获得3D光线追迹结果。 @SeE,<  
    4.2qt  
     6O8'T`F[  
    CS2AKa@`  
    光线追迹仿真 3\WLm4  
    pB;)H ii\  
    )MqF~[k<-  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 w%;Z`Xn&u  
    •单击Go！ v`evuJ\3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     lx,^Y 647  
    kb{h`  
    is?H1V~8`$  
    \Tq Km  
    场追迹仿真 VE1 B"s</  
    M0g!"0?  
    ?-[.H^]s~  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 v[WbQ5AND  
    •单击Go！     ?<VahDBS+A  
    V4'G%!NY  
    10xo<@l  
    xo/[,rR  
    场追迹结果（摄像机探测器） {tn%HK">  
     _D7MJT  
    ^,[V;3  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 aY7kl  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 j4RM'_*G  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Q| > \{M  
    B]oIFLED  
    Jx[Z[RO2  
     mwLp~z%OX  
    场追迹结果（电磁场探测器） | W:JI  
    Q?rb(u(  
    NMb`d0;(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     \NwL#bQ~  
    s8iJl+Jm  
    ^50#R< Ny  
    文件信息 d[;=X.fZ2  
    Fn0Rq9/@  
     4h wUH  
    Z|+SC \Y  
     y)_T!&ze  
    QQ：2987619807 J@'}lG  
     
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