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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 $^}?98m  
    ;#cb%e3  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 b=`h""u  
    KK}^E_v  
    X.bNU  
    t%V!SvT8+  
    建模任务 $_% a=0  
    -T`rk~A9A  
    pjWqI 6,  
    概观 Hh4$Qr;R  
    Z$~Wr3/  
    JZ]4?_l  
    光线追迹仿真 J9zSBsp_  
    E9YR *P4$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 TE3A(N'  
    >@rsh-Z  
    •点击Go! j"9bt GX  
    •获得3D光线追迹结果。 #jv~FR`4v^  
    8dNwi&4  
    ^#9 &Rk!t  
    ?ep93:j  
    光线追迹仿真 :4;ZO~eq!  
    oMM`7wJw  
    nM>oG'm[n  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 :na9PW`TC  
    •单击Go! B#N(PvtE  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ~q5"'  
    7H %>\^A^  
    W MU9tq[  
    odD^xg"L  
    场追迹仿真 z}&?^YU*)`  
    a4Qr\"Qm  
    FO&U{(Q  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ?4P*,c  
    •单击Go!
    uckag/tv  
    o['HiX  
    ? suNA  
    & gnE"  
    场追迹结果(摄像机探测器) YIvJN  
    yZj:Kp+7  
    u%3D{Dj  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ]d=SkOq  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 r({!ejT{U  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ]3u ErnI  
    F[BJhN*]a  
    ACxOC2\n  
    SSEK9UX  
    场追迹结果(电磁场探测器) DK;p6_tT  
    U` uP^  
    ?mU 3foa  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    O$%M.C'  
    ~8L*N>Y  
    e[.c^Hw  
    文件信息 bi;?)7p&ZY  
    :8\!;!  
    \x P$m|Y3  
    [@fw9@_'  
    xOnbY U  
    QQ:2987619807 B8 ;jRY  
     
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