-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-02-25
- 在线时间1927小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 5eL_iNqJM ?7eD<| 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 asj*/eC$/i P}2waJe 9im<J' <+r<3ZBA 建模任务 _yH=w'8. 3;E,B7,mQ RZL:k;}5 概观 MJ%gF=$X e/J|wM9Ak Vi:<W0: 光线追迹仿真 v:xfGA nP gX'nFGqud •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 C)H1<Br7 ",Ge:\TR= •点击Go! 4k6,pt" •获得3D光线追迹结果。 ;zpSyyp@ G&DL)ePu]m
n7$21*, -ge :y2R_w 光线追迹仿真 L2WH-XP= +<TnE+>j qiyX{J7Z •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Wf>P[6 •单击Go! 2c u?2_, •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 +`p@md2L1 Y5&mJp\G Z{p)rscX M#'j7EMu 场追迹仿真 gQ8FjL6? /t$J<bU v "Yo •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 :,~]R,tJQ •单击Go! >I&'Rj&Mc xkPH_+4i8 Ug~]!L C\RJ){dk 场追迹结果(摄像机探测器) g/_j"Nn O&vE 5%x yr"BeTrS. •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 P-2 5]- •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 fa:V8xa
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 =,HxtPJ !h[xeLlU
[>#@?@x`P 9`8D Ga 场追迹结果(电磁场探测器) ~IhLjE tOEY| L2$`S'U W •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 f?[0I\V[$ 8gK
<xp
6_vhBYLf 文件信息 R/BW$4/E Q}qw`L1
\]7i-[ 1Bl;.8he.) hP$v,"$ QQ:2987619807
,fR /C
|