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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 8sR  
    0r0\b*r  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Zr.\`mG4f  
    F8uRT&m B0  
    !Bk[p/\  
    dThn?  
    建模任务 lTV@b&  
    I3G*+6V  
    +Mk*{ A t  
    概观 _Sly7_  
    ReI=4Jq11  
    ;z.6'EYMG  
    光线追迹仿真 ;!l*7}5X=  
    {WYu 0J@  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 yD3bl%uZ  
    1A%N0#_(Md  
    •点击Go! &547`*  
    •获得3D光线追迹结果。 B_SZ?o  
    XlPK3^'N)h  
    &TP:yA[  
    $PatHY@h  
    光线追迹仿真 4i_spF-3  
    2 ?Pt Z  
    'A@qg^e:`  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 A~6%,q@^jh  
    •单击Go! c y=I0  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    pBSq%Hy:  
    saGRP}7?  
    aW0u8Dz  
    w8 ?Pb$Fe  
    场追迹仿真 l-<3{!  
    j>$=SMc  
    r/mA2  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 <X:Ud&\  
    •单击Go!
     OLk9A  
    ruZYehu1W  
    t{/:(Nu  
    Zz"I.$$[M  
    场追迹结果(摄像机探测器) a4A`cUt  
    r+t ,J|V  
    z $9@j2  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0M$#95n  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 [kPD`be2#  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 E|HSwTHe  
    5~@?>)TBv  
    o2;(VSKhS  
    p//T7r s  
    场追迹结果(电磁场探测器) lo cW_/  
    :d;[DYFLxb  
    <\ y!3;  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    u|(Ux~O  
    J+{Ou rWt  
    b->eg 8|  
    文件信息 ooTc/QEYi  
    `+roQX.p  
    ! G*&4V3Mg  
    ;$vLq&(}  
    nAIH`L"X  
    QQ:2987619807 !cRfZ  
     
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