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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 xY!ud)  
    Q% d1n*;+  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 x(eX.>o\  
    !8cV."~  
    PRTjXq6)5  
    u5glKE  
    建模任务 73Jm  
    GfEWms8z  
    N8#j|yf  
    概观 aVc{ aP  
    .1{{E8Fj  
    bDtb6hL  
    光线追迹仿真 bP#!U'b"=  
    Q!U}  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 7>F{.\Z  
    1hGj?L0m.  
    •点击Go！ NM![WvtjW  
    •获得3D光线追迹结果。 6:Z8d%Z  
    A!x&,<  
     xHJkzI  
    F!0iM)1o  
    光线追迹仿真 K SO D(  
    z^Ikb(KC  
    %KT}Map  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 bD:0k.`  
    •单击Go！ X V;j6g  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ^9q#,6  
    :\His{%  
    Op ?"G  
    B<m0YD?>~>  
    场追迹仿真 BrwC9:  
    x}?<9(nE c  
    5j1d=h  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 wLXJ?iy3  
    •单击Go！     KBN% TqH|  
    %(lO>4>|  
    }a6t<m`V  
    bP 9ly9FH  
    场追迹结果（摄像机探测器） {a:05Y  
     Kh(`6 f  
    *<($.c  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 x2#JD|0  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Ms(xQ[#+  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 A:r?#7 Ma  
    Zg(Y$ h\  
    FHSoj=  
     ~dRstH7u  
    场追迹结果（电磁场探测器） r8Pd}ptPU  
    ,=m.WmXE  
    3Hom0g,V4  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     '|^:,@8P9  
    1I9v`eT4  
    ]zSFX =~(S  
    文件信息  XTJD>  
    e}e8WR=B  
     -Qn7+?P  
    L EgP-s W  
     FoyYWj?,R  
    QQ：2987619807 &oS$<  
     
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