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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 =W*`HV-w  
    V <pjR@  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 $Xc<K_Z  
    eJp-s" %  
    yv4PK*  
    gj X1b2  
    建模任务 'FFc"lqj  
    <U pjAuG8  
    (SA*9%  
    概观 3y,?>-  
    *=@pdQkR  
    |h/2'zd^-  
    光线追迹仿真 _/ZY&5N  
    mDf WR  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ??V["o T  
    :zRboqe(cc  
    •点击Go！ Q*(o;\s  
    •获得3D光线追迹结果。 hiHp@"l<  
    ^T,cXpx|  
     g>zL{[e!  
    -#x\E%v.F  
    光线追迹仿真 nB& 8=.  
    ]]3D` F}  
    q8>Q,F`BA  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 q /?_djv  
    •单击Go！ B4aZ3.&W  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     OhEL9"\<  
    o7zfD94I  
    p]4 sN  
    GK&Dd"v  
    场追迹仿真 fif<[Ax  
    Hp!F?J7sx  
    P\e%8&_U/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 xK3;/!\`  
    •单击Go！     ] ),' =@  
    Q>$L;1E*,  
    9#!tzDOtD  
    {eUfwPAa3  
    场追迹结果（摄像机探测器） Dzr5qP?#  
     ,RQ-w2j?  
    T`sM4 VWqU  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 rI/KrBM  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 q =6 Y2Q  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 vNGvEJ`qn  
    5Y^ YKV{  
    ?f..N,s  
     f6 nltZ  
    场追迹结果（电磁场探测器） K<GCP2  
    -S @:  
    _8 J (;7  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     6-"&jbvm  
    46~ug5gV  
    I2'?~Lt  
    文件信息 9lv 2  
    if>] )g2lr  
     p<4':s;*  
    *Y Ox`z!R  
     whCv9)x  
    QQ：2987619807 v0=~PN~E  
     
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