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摘要 8sR 0r0\b*r 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Zr.\`mG4f F8uRT&m B0 !Bk[p/\ dT hn? 建模任务 lTV@b& I3 G*+6V +Mk*{A t 概观 _Sly7_ ReI=4Jq11 ;z.6'EYMG 光线追迹仿真 ;!l*7}5X= {WYu0J@ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 yD3bl%uZ 1A%N0#_(Md •点击Go! &547`* •获得3D光线追迹结果。 B_SZ?o XlPK3^'N)h
&TP:yA[ $PatHY@h 光线追迹仿真 4i_spF-3 2?Pt Z 'A@qg^e:` •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 A~6%,q@^jh •单击Go! cy=I0 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 pBSq%Hy: saGRP}7? aW0u8Dz w8 ?Pb$Fe 场追迹仿真 l-<3{! j>$=SMc r/mA2 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 <X:Ud&\ •单击Go! OLk9A ruZYehu1W t{/:( Nu Zz"I.$$[M 场追迹结果(摄像机探测器) a4A`cUt r+t ,J|V z$9@j2
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0M$#95n •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 [kPD`be2# Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 E|HSwTHe 5~@?>)TBv
o2;(VSKhS p//T7rs 场追迹结果(电磁场探测器) lo cW_/ :d;[DYFLxb <\ y!3; •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 u|(Ux~O
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b->eg 8| 文件信息 ooTc/QEYi `+roQX.p
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