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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 'H`_Z e<  
    K`@GN T&  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 F~ n}Ep~1  
    OwQ 9y<v  
    .JpYZ |  
    qb ^4G  
    建模任务 Z<|ca T]Q(  
    qfY.X&]PU  
    Qko}rd_M  
    概观 (iK0T.  
    'PlKCn`(w  
    3Lq?Y7#KQp  
    光线追迹仿真 VYhZ0;' '  
    IrXC/?^h  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 KW.S)+<H&  
    ~ S R:,R  
    •点击Go！ ^AD/N|X^  
    •获得3D光线追迹结果。 q5[%B K  
    ;1cX|N=  
     S&V5zB""n  
    z1LATy  
    光线追迹仿真 ]P ->xJ  
    QH4nb h4  
    "_C^Bc  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 y-"*[5{W  
    •单击Go！ $xS `i-|  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     u9>.x zYG  
    -?!Z/#i4  
    LIVVb"V|,  
    QHsS|\u  
    场追迹仿真 y6; '?.Y1  
    '&3Sl?E  
    jo<[|ZD  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~?6V-m{>#  
    •单击Go！     o)?"P;UhJX  
    5gV8=Ml"V  
    .d9VV&  
    i[^?24~ c  
    场追迹结果（摄像机探测器） DSy,#yA  
     [8SW0wsk  
    :%A1k2  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 s iv KXd  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .Kq>/6  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 '8k\a{t_z  
    r,MgIv(L  
    Tc\^=e^N?  
     ?i(Tc!  
    场追迹结果（电磁场探测器） t3Q;1#Zf  
    2X)E3V/*  
    F)_Rs5V:(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     *H&a_s/{Nb  
    =o_d2 Ak  
    IVkKmO(qO  
    文件信息 dlK#V)  
    Roy`HU ;0a  
     !V@Y \M d  
    bg_Zf7{  
     C3bZ3vcW$  
    QQ：2987619807 KL.{)bi  
     
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