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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 8" (j_~;  
    ~{q; - &  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 U[6 ~ad a  
    fnK H<  
    5E}!TL$  
    t LM/STb6  
    建模任务 na3lbwq  
    YZz8xtM<2  
    +Oc |Oo  
    概观 !XO"lS  
    spTIhZ  
    _ _[bKd.  
    光线追迹仿真 nk2H^RM^  
    \{ff7_mLo  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 VEBvS>i*  
    rDC=rG  
    •点击Go！ #xt-65^  
    •获得3D光线追迹结果。 _EC H(  
    VF g"AJf  
     mw~$;64;a  
    9''x'E=|  
    光线追迹仿真 nS]Ih0( K  
    a 9Kws[  
    T)MZ`dM  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vGD D  
    •单击Go！ y(Tb=:  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     o= &/ ;X  
    +lw1v  
    ef:YYt{|q  
    ij02J`w:Ra  
    场追迹仿真 `9Q O'^)  
    ||'A9  
    OVEQ^\Q5D  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 'nfdOX.d  
    •单击Go！     2@:Ztt6~  
    r~PVh?  
    e?fA3Fug  
    fDKV`  
    场追迹结果（摄像机探测器） Ummoph7_@  
     &@z M<A  
    ShJBOaE; -  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 I?KGb:]|  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 $q0i=l&$&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 E6clVa  
    8WLBq-]G  
    B=|m._OL]n  
     ~D_Wqr  
    场追迹结果（电磁场探测器） 077 wk  
    %dq |)r  
    :-e[$6}S  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     0[7tJbN  
    C |P(,Xp  
    >"pHk@AWK  
    文件信息 z;PF% F  
    dd!Q[]$ }  
     LmjGU[L,@  
    5k`Df/  
     ZW`wA2R0   
    QQ：2987619807  Z6_fI  
     
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