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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 5eL_iNqJM  
    ?7eD< |  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 asj*/eC$/i  
    P}2waJe  
    9im<J'  
    <+r<3ZBA  
    建模任务 _yH=w'8.  
    3;E,B7,mQ  
    RZL:k;}5  
    概观 MJ% gF=$X  
    e/J|wM9Ak  
    Vi:<W0:  
    光线追迹仿真 v:xfGA nP  
    gX'nFGqud  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 C)H1<Br7  
    ", Ge:\TR=  
    •点击Go! 4k6,pt"  
    •获得3D光线追迹结果。 ;zpSyyp@  
    G&DL)ePu]m  
    n7$2 1*,  
    -ge :y2R_w  
    光线追迹仿真 L2WH-XP=  
    +<TnE+>j  
    qiyX{J7Z  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Wf>P[6  
    •单击Go! 2cu?2_,  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    +`p@md2L1  
    Y5&mJp\G  
    Z{p)rscX  
    M#'j7EMu  
    场追迹仿真 gQ8FjL6?  
    /t $J<bU  
    v "Yo  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 :,~]R,tJQ  
    •单击Go!
    >I&'Rj&Mc  
    xkPH_+4i8  
    Ug~ ]!L  
    C\RJ){dk  
    场追迹结果(摄像机探测器) g/_j"Nn  
    O&vE 5%x  
    yr"BeTrS.  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 P-25]-  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 fa:V8xa  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 =,HxtPJ  
    !h[xeLlU  
    [>#@?@x`P  
    9`8D Ga  
    场追迹结果(电磁场探测器) ~IhLjE  
     tOEY|  
    L2$`S'UW  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    f?[0I\V[$  
    8gK  <xp  
    6_vhBYLf  
    文件信息 R/BW$4/E  
    Q}qw` L1  
    \]7i-[  
    1Bl;.8he.)  
    hP$v,"$  
    QQ:2987619807 ,fR/C  
     
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