-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-29
- 在线时间1766小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 $^}?98m ;#cb%e3 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 b=`h""u KK}^E_v X.bNU t%V!SvT8+ 建模任务 $_% a=0 -T`rk~A9A pjWqI6, 概观 Hh4$Qr;R Z$~Wr3/ JZ]4?_l 光线追迹仿真 J9zSBsp_ E9YR *P4$ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 TE3A(N' >@rsh-Z •点击Go! j"9bt GX •获得3D光线追迹结果。 #jv~FR`4v^
8dNwi&4
^#9
&Rk!t ?ep93:j 光线追迹仿真 :4;ZO~eq! oM M`7wJw nM>oG'm[n •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 :na9PW`TC •单击Go! B#N(PvtE •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ~q5" ' 7H %>\^A^ W
MU9tq[ odD^xg"L 场追迹仿真 z}&?^YU*)` a4Qr\"Qm FO&U{(Q •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ?4P*,c •单击Go! uckag/tv o['HiX ?suNA & gnE" 场追迹结果(摄像机探测器) YIvJN yZj:Kp+7 u%3D{Dj •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ]d=SkOq •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 r({!ejT{U Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ]3uErnI F[BJhN*]a
ACxOC 2\n SSEK9UX 场追迹结果(电磁场探测器) DK;p6_tT U` uP^ ?mU
3foa •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 O$%M.C' ~8L*N>Y
e[.c^Hw 文件信息 bi;?)7p&ZY :8\!; !
\x P$m|Y3 [@fw9@_' xOnbYU QQ:2987619807 B8;jRY
|