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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 4W E)2vkS  
    $`vXI%|.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 gOE ?  
    1E4`&?  
    Q4S:/"*v8  
    )/OIzbA3#  
    建模任务 /%t`0pi  
    9j-;-`$S  
    pRsIi_~&  
    概观 zc,X5R1  
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    E\9HZ;}G  
    光线追迹仿真 B_8JwMJu3  
    ?LvU7  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 #BH]`A J  
    |A0U 3$S=  
    •点击Go! <9$Pl%:  
    •获得3D光线追迹结果。 &=T>($3r94  
    BPOT!-  
    Y$|KY/)H)  
    |GPY bxzc  
    光线追迹仿真 ~Xr[d07bC  
    p-!/p#  
    ?a?4;Y!  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 [3tU0BU"  
    •单击Go! q 4Ok$~"I  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    FS!vnl8`  
    c7tO'`q$e  
    $0~1;@`rQ6  
    N>sHT =_  
    场追迹仿真 tm_\(  
    *rV{(%\m  
    D&],.N  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 !SLfAFcS  
    •单击Go!
    cb. -AlqQ  
    =4!m] *y  
    Vy=+G~  
    Qdc)S>gp  
    场追迹结果(摄像机探测器) 9 "M-nH*<  
     2q9$5   
    NKVLd_f k  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c2Y\bKeN  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ybIqn0&[  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 #??[;xjs!  
    ,,S 2>X*L  
    rTST_$"_6  
    Kz]\o"K  
    场追迹结果(电磁场探测器) .8[uEQ_L  
    YCdtf7P=q  
    Tg=P*HY6  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    \t=#MzjR  
    PHH,vO[eO  
    fP\*5|7%R  
    文件信息 1k$5'^]^9]  
    ClPE_Cfw~  
    `C^0YGO%  
    7WNUHLEt  
    DTdqwe6pi  
    QQ:2987619807 <e@4;Z(h04  
     
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