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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 }q]*aADe  
    J^yqu{  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 BKtb@o~(  
    }Vob)r{R@  
    >AX_"Q~  
    H=,>-eVv*  
    建模任务 $;G<!]& s  
    ,'HjL:r  
    Vn kh Y  
    概观 M>m!\bb%.  
    h[iO'Vq  
    ,M?8s2?  
    光线追迹仿真 n/(}|xYU  
    z"yW):X  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 JD0s0>q_  
    B-]bhA4|:  
    •点击Go！ Z3c\}HLY  
    •获得3D光线追迹结果。 #~/9cVm$  
    R,78}7B  
     kP[fhOpn  
    %i3[x.M  
    光线追迹仿真 DoFe:+_U3  
    HP_h!pvx  
    PVF :p7  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 WvT H+  
    •单击Go！ pXlqE,  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     <";1[A%7<  
    T^#d;A  
    j0+D99{R  
    \8<[P(!3  
    场追迹仿真 OAs>F"  
    "IQYy~ /  
    7Ko*`-p  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Z7pX%nj_  
    •单击Go！     zF^H*H  
    dl8f]y#Q  
    BNjMq  
    F%$q]J[  
    场追迹结果（摄像机探测器） qS! Lt3+  
     /KC^x= Xv:  
    Mx6 yk,  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 QnBWZUI  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 4Ol1T(J#  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 k3t]lG p  
    mD% qDKI  
    [Q8Wy/o Q  
     +{=U!}3|  
    场追迹结果（电磁场探测器） ZG1TR F "  
    !m~r0M7  
    *2-b&PQR{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     $PRd'YdL/  
    HU/4K7e`  
    z.RM85?T  
    文件信息 nM &a2Z,T  
     q9{ h@y  
     `u_MdB}<x;  
    YKU|D32  
     ;PG= 3j_  
    QQ：2987619807 MHt ~ZVH  
     
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