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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 *wmkcifF;  
    ZW"f*vwQo  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 3"0QW4A  
    am.d^'  
    <bCB-lG*Kb  
    CiHx.5TiC  
    建模任务 B/lIn' =  
    xA:;wV  
    cC$YD]XdIA  
    概观 G='`*_$  
    1z2v[S&pk  
    V#b*:E.cA  
    光线追迹仿真 >#mKM%T2MJ  
    T$r/XAs  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 B&59c*K  
    .L#4#IO  
    •点击Go！ d72 yu3  
    •获得3D光线追迹结果。 RDQ]_wsyKG  
    kn3GgdU  
     x7l}u`N4  
    tQ'R(H`  
    光线追迹仿真 3kGg;z6  
    h \`(  
    !(Y|Vm'   
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 c; .y  
    •单击Go！ .':17 $c`H  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     u}R|q  
    gV':Xe  
    dE[X6$H[  
    G&wYV[Ln  
    场追迹仿真 FChW`b&S  
    $ <[r3  
    T=V{3v@zs  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 g_tEUaiK  
    •单击Go！     5$Kv%U  
    Gk58VODo  
     L=!h`k  
    %(? ;`  
    场追迹结果（摄像机探测器） +dq2}gM  
     Y@ ;/Sf$Q  
    A~?)g!tS<  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 h= YTgJ  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 \Z%_dT}  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 TDP Q+Kg_  
    id`9,IJx  
    srImk6YD  
     w[QC  
    场追迹结果（电磁场探测器） u,YmCEd_V  
    ZS_  z  
    +W[{UC4b  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     t?weD{O  
    Gh{9nM_\"  
    K;\fJ2ag  
    文件信息 tg/!=g  
    0!:%Ge_  
     y?}<SnjP:  
    Dg ~k"Ice  
     vf?m6CMU !  
    QQ：2987619807 XL1x8IB  
     
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