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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ls*bCe  
    iX|K4.Pz{  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 \~!!h.xR  
    NtfzAz/  
    ^kO+NH40  
    cM hBOm*  
    建模任务 EQTJ=\WFF  
    Z)^1~!w0  
    e"D%eFkDW  
    概观 J_S8=`f%  
    `]7==c #Y  
    pv[Gg^  
    光线追迹仿真 Kt#_Ln_6  
    bpx ^  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 >2t.7UhDI  
    e1OGGF%E n  
    •点击Go！ 77b^d9! ~  
    •获得3D光线追迹结果。 R0g^0K.  
    F(?O7z"d  
     nmuzTFs=  
    ,` 64t'g  
    光线追迹仿真 !*1 $j7`tP  
    NHL9qL"qk  
    Ls` [7w  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 teKx^ 'c'  
    •单击Go！ ZccvZl ;b  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     \_]X+o;  
    ]?6Pt:N2  
    H[_i=X3-~  
    jP{&U&!i  
    场追迹仿真 F1)5"7f  
    AxtmG\o>  
    lDSF  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 bEKhU\@=J  
    •单击Go！     @tvz9N  
    /rIyW?& f  
    = ;cTm5d;T  
    z ub"Ap3  
    场追迹结果（摄像机探测器） hp1+9vEN  
     Uv m:`e~?  
    ?KtF!:_C  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 GoLK 95"]  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 FS)"MDs  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 (^NYC$ZxM=  
    xG(xG%J  
    Qhq' %LR  
     z"97AXu  
    场追迹结果（电磁场探测器） T-LX>*  
    PU,%Y_xR  
    KdBpfPny@  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     N[r Ab*iT  
    "Ccyj/  
    =%B5TBG  
    文件信息 4{@{VsXN  
    q{ [!" ,  
     C-@[=  
    RR+{uSO,t  
      k^Q.lb {  
    QQ：2987619807  l*?_@  
     
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