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摘要 4W E)2vkS $`vXI%|. 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 gOE? 1E4`&? Q4S:/"*v8 )/OIzbA3# 建模任务 /%t`0pi 9j-;-`$S pRsIi_~& 概观 zc,X5R1 gdyWuOxa| E\9HZ;}G 光线追迹仿真 B_8JwMJu3 ?Lv U7 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 #BH]`A J |A0U3$S= •点击Go! <9$Pl%: •获得3D光线追迹结果。 &=T>($3r94 BPOT!-
Y$|KY/)H) |GPYbxzc 光线追迹仿真 ~Xr[d07bC p -!/p# ?a?4;Y! •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 [3tU0BU" •单击Go! q 4Ok$~"I •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 FS!vnl8` c7tO'`q$e $0~1;@`rQ6 N>sHT
=_ 场追迹仿真 tm_\( *rV{(%\m D&],.N •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 !SLfAFcS •单击Go! cb. -AlqQ =4!m]*y Vy=+G~ Qdc)S>gp 场追迹结果(摄像机探测器) 9"M-nH*< 2q9$5 NKVLd_f k •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c2Y\bKeN •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ybIqn0&[ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 #??[;xjs! ,,S 2>X*L
rTST_$"_6 Kz]\o"K 场追迹结果(电磁场探测器) .8[uEQ_L YCdtf7P=q Tg=P*HY6 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 \t=#MzjR PHH,vO[eO
fP\*5|7%R 文件信息 1k$5'^]^9] ClPE_Cfw~
`C^0YGO% 7WNUHLEt DTd qwe6pi QQ:2987619807 <e@4;Z(h04
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