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摘要 }Y`D^z~ f:u3fL 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ~[ZRE @ -?}Z0e(w mR3-+dB/ 1n-+IR" 建模任务 @Lk!nP ^=.QQo||B C(!A% > 概观 nA4PY] 1wTPT,k EgB$y"fs 光线追迹仿真 e,8[fp-7 Ef2i#BoZ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 T6^H%;G fMluVND •点击Go! +DwE~l •获得3D光线追迹结果。 kPvR , /]>8V'e\
,C;%AS/ #C#*yE 光线追迹仿真 ?Jy/]j5fI ,We'AR3X @CNe)&U •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 0/TP`3$X#" •单击Go! j[Z<|Da •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 `&w{-om\ `x:8m?q05 \\9I:-j:p \6L,jSoBl 场追迹仿真 :N#8|;J1Fl E
E^lw61 peD7X:K\s •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 pSKwXx •单击Go! $az9Fmta L&LAh&%{2 F|bg2)|du8 U-:"Wx%G 场追迹结果(摄像机探测器) a1
v%G 5Ei4$T {YMO8 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E
x)fXQ+ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Y{D?&x%yq Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 q~6a$8+t 8k9Yoht
$i;m9_16 Ge^(Ag}vE 场追迹结果(电磁场探测器) 2e^6Od!Y? S=_*<[W%4 0u?VnN< •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 :3A^5}iz 7!PU}[:
34:Y_* 文件信息 Zt
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