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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 =+'4u  
    [[Qu|?KEa  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 <8+.v6DCd  
    _CciU.1k&,  
    .1[K\t)2  
    M7fw/i  
    建模任务 b,]h X  
    "S_t%m&R  
    tO)mKN+ (  
    概观 +/-#yfn!TR  
    ,N?~je.  
    V[5-A $ft  
    光线追迹仿真 sD_Z`1  
    lBgf' b3$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 |t!kD(~r  
    go@UE2qw  
    •点击Go！ 5|9,S  
    •获得3D光线追迹结果。 xCEEv5(5  
    /3L1Un*  
     Ym8G=KA  
    r-9P&*1  
    光线追迹仿真 @F+4 NL-'P  
    T7'njaLec  
    im Zi7o  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 m5v9:5{  
    •单击Go！ w\:-lXw  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     bT|a]b:  
    8G6PcTqv"  
    +5JCbT@y  
    cWA9n}Z  
    场追迹仿真 T\{ on[O  
    Tu?+pz`h  
    8 T):b2h  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 UwvGw5)q  
    •单击Go！     `M6!V  
    <IC=x(T  
    \j+O |#`|)  
    lQ<2Vw#Yl  
    场追迹结果（摄像机探测器） {Uz@`QO3  
     ^&03D5@LoY  
    N/p9Ws  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Vl%AN;o  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 m$ )yd~  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 d(3F:dbk  
    r`qMif'  
    c*-8h{}  
     ,^pM]+NF|  
    场追迹结果（电磁场探测器） @{iws@.  
    zH0%; o}  
    ug'I:#@2  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     jr bEJ.  
    n#uH^@#0  
    AjKP -[  
    文件信息 HgvgO\`]  
    I L 'i7p  
     +dX1`%RR[  
    vIF=kKl9,  
     HJhPd#xCW  
    QQ：2987619807 QM\v ruTB  
     
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