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摘要 y}.y,\S0 p]atH<^;K 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 -K{\S2 }[YcilU_ F5b]/;| Ip1QVND 建模任务 w+:+r/!g wpPxEp/ n=<q3}1Jej 概观 9}7oKlyk y0W`E/1t 4kN:=g 光线追迹仿真 'Y6(4|w
( r)*_,Fo| •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 qX}dbuDE"P {RWahnr{ •点击Go! (5CX *)R •获得3D光线追迹结果。 yDl5t-0` 3M5=@Fwkr
5wVi{P5+ #oS 光线追迹仿真 `K ~>!d_ J[Y lo&w3 9 ;! uV>-H •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 U7f#Z •单击Go! [9# #Kb •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 w^vK7Z
1$ `jl. f DXw9@b 2gNBPd )I 场追迹仿真 FL*w(Br. /3bca !O G=0}IPfp •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 8wNU2yH+D •单击Go! x<j($iv IT{.^rP ui: >eYv R _~m\P 场追迹结果(摄像机探测器) +RKE|*y #6#BSZ E Qc)RrqYNGF •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 1Rb<(% •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 =Am*$wGI Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 %)!~t8To )r-|T&Sn
CuGOjQ-k~ :7AauoI 场追迹结果(电磁场探测器) qhHRR/p B[k+#YYY &bRxy`ZH •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 }<x!95 T[2f6[#[_
-p]`(S% 文件信息 -n$rKEC4 gx{~5&1
3C5D~9v Yk*57&QI I;fw]/M%! QQ:2987619807 =<27qj
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