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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 a3@w|KLt  
    V5"HwN+`  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 # |^^K!%  
    b |7ja_  
    [pgZbOIN37  
    <7n]Ai@Y  
    建模任务 RFko>d  
    _+w/ pS`M  
    &mE?y%  
    概观 cDV ^8 R  
    :0 ^s0l  
    8o-bd_  
    光线追迹仿真 'v&}(  
     k0H#:c}  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .L;@=Yg )  
    f h<*8w0H  
    •点击Go！ x &=9P e(  
    •获得3D光线追迹结果。 #c Kqnk  
    [!"XcFY:a  
     hI|)u4q  
    x<B'.3y  
    光线追迹仿真 uDuF#3 +"  
    .g% Y@r)=5  
    #^rU x.  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 jo98 jA<  
    •单击Go！ oq;'eM1,.  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     3HiFISA*  
    Q M 1F?F  
    $.K?N@(W  
    q'S =Eav8  
    场追迹仿真 u oVNK  
    HGDV O Jq  
    >q7 %UK]&  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 9=+-QdX+0]  
    •单击Go！     rwqv V ^  
    H{fM%*w  
    B|o%_:]+E  
    7*+TP~WI  
    场追迹结果（摄像机探测器） or?%-)  
     BW Uq%o,@g  
    'Ud| Ex@A9  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ..KwTf  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 F^kwdS  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 svhrf;3:  
    (f1M'w/OD  
    U/w.M_S  
     \2X$C#8E  
    场追迹结果（电磁场探测器） g-)mav  
    /"#4T^7&  
    `  2%6V)s  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     (#Mp 5C'X  
    TEVI'%F  
    >PalH24]  
    文件信息 xtfRrX^  
    RR|\- 8;  
     )0CQP  
    ?nFO:N<  
     HW_& !ye  
    QQ：2987619807 #hxyOq,  
     
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