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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 .~4%TsBaY  
    >-c;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 u B~/W  
    /}]X3ng  
    5E+l5M*(  
    f XS4&XU  
    建模任务 :S{[^ -"  
    593D/^}D  
    -A[iTI"  
    概观 Z; r}G m  
    xoA\^AA  
    kQRNVdiz  
    光线追迹仿真 /<\>j+SC  
    Xv|~1v%s7  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 %19TJn%J$  
    #(?EL@5  
    •点击Go！ "9Sxj  
    •获得3D光线追迹结果。 W+Z] Y  
    vbXuT$  
     X48Q{E+  
    X25cU{  
    光线追迹仿真 &$ia#j{l  
    wBTnI>l9[  
    6-{QU] #  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 L!|c: 8  
    •单击Go！ 2v0lWO~c7z  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     KcF2}+iM   
    hug8Hhf_&  
    uZ&,tH/  
    q*SX.A>YR  
    场追迹仿真 ]6v6&YV  
    9?:SxI;v  
    ZX sm9  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 O~.A}  
    •单击Go！     EX7gTf#  
    B<T wTv  
    fT!n*;h  
    v<,? %(g)7  
    场追迹结果（摄像机探测器） 40<ifz[7  
     {n2mh%I  
    S^HuQe!#  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 oC#@9>+@+"  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 '-p<E"#4Z  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 r]iec{ ^  
    i:0~%X  
    s(q\!\FS  
     ]7}2"?J4v  
    场追迹结果（电磁场探测器） J GnL[9P_  
    }Y~o =3-  
    D:sQHJ. y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     q %i2' yE  
    &EYO[~D06  
    <\|f;7/  
    文件信息 i|0H {q  
    m*tmmP4R  
     )s4#)E1  
    a02@CsH  
     DJr{;t$7~  
    QQ：2987619807 `So*\#\T  
     
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