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摘要 }Q\yem pM(y?zGt 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ]\#RsVX u52;)"&=) t&eD;lg : GExG1n- 建模任务 e% 5! 1+y&n? XJ?@l3D: 概观 TUpEhQ+* ^1*p]j( 1"v;w!uh 光线追迹仿真 +s[(CI.b 5)T{iPU%X •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ;H:qDBH +S/8{2%?DG •点击Go! cst=ms •获得3D光线追迹结果。 'kx{0J? /f# rN_4
FfD2
&(-R OVj,qL) 光线追迹仿真 k?J}-+Bm[| ^xqh! NoKYHN^*w •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 BwEL\*$g •单击Go! &Q&$J )0 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 .Bi7~*N k?S-peyRO 6?,r d IL>g- 场追迹仿真 YO,GZD`-o Mm/GIa pn
=S%Qf] •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ^8MgNVoJ) •单击Go! PMrvUM62 eGguq~s` ,%,}[q?]d 5@v!wms 场追迹结果(摄像机探测器) x`o_&09;CG x1Si&0T0P< i,)kI •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7
'f> •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 E3gQ`+wNg? Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 l|uN-{w Y:byb68
-7pZRnv L3kms6ch 场追迹结果(电磁场探测器) V'6%G:?0a sF<4uy 3b[_0 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 u;Z~Px4]v ?VzST }
Ur@'X- 文件信息 Fh?q;oEj
Ng-3|N
Z#Zk) $Z;0/\r% 9^aMmN&6N2 QQ:2987619807 1$
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