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摘要 ~'lT8 n_ 5zBA ]1PY 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ^nNY|
* l%2VA aC[G_ACwc 3XlQ 4 建模任务 9SsVJ<9,R B{&W|z{$ _">F]ptI; 概观 uX_#NP/2 g@^ y$wt V\zcv @ 光线追迹仿真 IrL7%? +@?Q "B5u} •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 U\lbh;9G %>Gb]dv? •点击Go! 1ARtFR2C{b •获得3D光线追迹结果。 <8 <P, ,;}
):PN0.H8 LRHod1}mS 光线追迹仿真 8<;. &*OwoTgk+ >
Hv9Xz •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 gGvL6Fu •单击Go! M,JwoKyg •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 =hTJp/L c;]\$#2 Jn{)CZ 9ia&/BT7"z 场追迹仿真 LmJjO:W}^y 4ct-K)Ris .\oW@2,RA9 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 <~uzHg%Y •单击Go! u W,J5! #d % v=.1 F}l3\uC] t`Bk2Cc)+ 场追迹结果(摄像机探测器) y/S3ZJY 'Grej8 3y.+03
W •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 _UTN4z2aTG •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 }Y7P2W+4? Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 12#yHsk \uHC 9}0
t8RtJ2; <7`k[~)VB 场追迹结果(电磁场探测器) z{3`nd, I@m(} 4Mg%}/cC •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 A v>v\ :.> tF,`v{-up
iuWUr?`\ 文件信息 CP9 Q|'oJ ^/?7hbr
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