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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 qlYi:uygY  
    +6P[TqR  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ?kQY ^pU  
    B5vLV@>]  
    fpf,gb8[$n  
    Z|Rc54Ct  
    建模任务 `[(XZhN  
    &Tuj`DL  
    g3&nxZ  
    概观 n7K%lj-.P  
    <I tS_/z  
    5[jS(1a`c  
    光线追迹仿真 buN@O7\  
    Qkx*T9W   
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ej&.tNvq  
    3en6 7l  
    •点击Go！ : slO0  
    •获得3D光线追迹结果。 h ~yTkN]  
    ?HZ^V  
     LO)!Fj4|  
    `N.:3]B t  
    光线追迹仿真 Z'y&11  
    =<p=?16 x  
    tlUh8os  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 XX%K_p`&Z  
    •单击Go！ 43B0ynagN  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     E z}1Xse  
    ^@RvCJ+  
    U'(zKqC   
    l1'v`!  
    场追迹仿真 (?R!y -  
    pC,[!>0g8  
    {cOx0=  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 df@NV Ld  
    •单击Go！     E~fb#6  
    E]/2 u3p  
    0>td[f  
    m!w|~ Rk  
    场追迹结果（摄像机探测器） MooH`2Fd  
     gFHBIN;u  
    RIXeV*ix  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。  d9k`  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >wmHCOL:  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 6JZ>&HA  
    eg}g} a  
    FsWp>}o  
     r[}nrH&8  
    场追迹结果（电磁场探测器） '%ilF1#  
     dV :}  
    W@r<4?Oat  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     _xePh  
    [.xY>\e  
    \UZGXk  
    文件信息 }vU/]0@,E  
    >xS({1A}  
     sU&v B:]~  
    iv+a5   
     Q%d%Io\-t  
    QQ：2987619807 k6ry"W3  
     
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