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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ~'lT8 n_  
    5zBA]1PY  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ^nNY| *  
    l%2VA  
    aC[G_ACwc  
    3XlQ4  
    建模任务 9SsVJ<9,R  
    B{&W|z{$  
    _">F]ptI;  
    概观 uX_#NP/2  
    g@^y$wt  
    V\zcv@  
    光线追迹仿真 IrL7%?  
    +@?Q"B5u}  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 U\lbh;9G  
    %>Gb]dv?  
    •点击Go! 1ARtFR2C{b  
    •获得3D光线追迹结果。 <8 <P,  
    ,;}   
    ):PN0.H8  
    LRHod1}mS  
    光线追迹仿真 8<; .  
    &*OwoTgk+  
    > Hv9Xz  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 gGvL6Fu  
    •单击Go! M,JwoKyg  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    =hTJp/L  
    c;]\$#2  
    Jn{)CZ  
    9ia&/BT7"z  
    场追迹仿真 LmJjO:W}^y  
    4ct-K)Ris  
    .\oW@2,RA9  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 <~uzHg%Y  
    •单击Go!
    u W,J5!  
    #d %v=.1  
    F}l3\uC]  
    t`Bk2Cc)+  
    场追迹结果(摄像机探测器) y/S3ZJY  
    'Grej8  
    3y.+03 W  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 _UTN4z2aTG  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 }Y7P2W+4?  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 12#yHsk  
    \uHC9}0  
    t8RtJ2;  
    <7`k[~)VB  
    场追迹结果(电磁场探测器) z{3`nd,  
    I@m(}  
    4Mg%}/cC  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    A v>v\ :.>  
    tF,`v{-up  
    iuWUr?`\  
    文件信息 CP9Q|'oJ  
    ^/?7hbr  
    " l|`LjP5M  
    Yz2N(g[  
    O+mEE>:w%  
    QQ:2987619807 x_O:IK.>  
     
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