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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 'W*ODAz6  
    iG+=whvL  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 uL |O<  
    W ![*0pL  
    37 d-!  
    Nc:0opPM  
    建模任务 qv)%)n  
    _`+2e-  
    jq( QL%)_O  
    概观 Uu~~-5  
    Pv3qN{265  
    A+ LX37B  
    光线追迹仿真 9"f  
    .wf$]oQQ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #D .hZ=!  
    F&$~]R=&  
    •点击Go！ Cp^`-=r+  
    •获得3D光线追迹结果。 q*7:L  
    hGb SN_F  
     rn RWL4  
    lX/:e=  
    光线追迹仿真 %6E:SI 4  
    8XD_p);Oy  
    Huf;A1.  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 %nhE588xf  
    •单击Go！ StU9r0`  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     5E0dX3-  
    X{8g2](z.  
    ca,U>'(y  
    !NTt' 4/F{  
    场追迹仿真 T[%@B"  
    |[X-i["y  
    @waY+sqt=  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 }xpo@(e  
    •单击Go！     V-x/lo]Co  
    iyP0;$  
    ?JMy  
    &VTO9d  
    场追迹结果（摄像机探测器） Eg4_kp0Lq  
     gXe`G( w  
    8y'.H21:;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &;[e  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 G-5ezVli  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 XPT@ LM  
    f{)nxd >#  
    I 8VCR8q  
     F.-:4m(Z  
    场追迹结果（电磁场探测器） B~2M/&rM\  
    rkn'1M&u  
    ,D2nUk  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     qqSFy>`P  
    (W5JVk_o  
    3]h*6 V1$  
    文件信息 dWiX_&g  
    R})b%y`]  
     1@xdzKua1  
    3u[5T|D'  
     a([8r- zP  
    QQ：2987619807 ?<1~KLPMhY  
     
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