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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 >D}|'.&  
    Fu5Y<*x  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 N mxh zjJ  
    lz36;Fp  
    Rt&5s)O'  
    2/uZ2N |S  
    建模任务 %iEdUV\$  
    0chpC)#Q3;  
    B, H9EX  
    概观 k`|E&+og  
    vD?D]8.F~Q  
    "Y&   
    光线追迹仿真 M"/Jn[  
    q5z^y(Sv  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 YZSQOLN{  
    Vwh ;QJxb  
    •点击Go! ?CC.xE  
    •获得3D光线追迹结果。 L=EkY O%\"  
    )z18:C3  
    G kG#+C0L  
    Iz. h  
    光线追迹仿真 kD%MFT4  
    Dykh|"  
    !k*B-@F  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |uw48*t  
    •单击Go! Haekr*1%  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    wCR! bZ w  
    fR'!p: ~  
    ytjZ7J['{  
    t!6uz  
    场追迹仿真 @SiV3k  
    rr1'| k "  
    8]`s&d@GY  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 x$n.\`f0  
    •单击Go!
    V:J|shRo  
    8Q<Nl=g>'  
    z~3ubta8(@  
    sCzpNJ"8  
    场追迹结果(摄像机探测器) `Ds=a`^b  
    .FgeAxflP  
    .S#i/A'x  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :.]EM*p?GV  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 "#7Q}d!x  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 eF.nNu  
    ?hc=w2Ci  
    eLORG(;h4  
    p}1gac_c  
    场追迹结果(电磁场探测器) ('C)S)98C  
    ~K3Lbd| r  
    V*Fy@  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    xW5`.^5  
    GQY" +xa8]  
    R=E4Sh  
    文件信息  ~,&8)1  
    uj.$GAtO)  
    y'odn ;  
    Dbj?l;'1  
    Tc||96%2^  
    QQ:2987619807 Ua 6O~,\  
     
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