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摘要 >D}|'.& Fu5Y<*x 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 N mxh zjJ lz36;Fp Rt&5s)O' 2/uZ2N|S 建模任务 %iEdU V\$ 0chpC)#Q3; B, H9EX 概观 k`|E&+og vD?D]8.F~Q "Y&
光线追迹仿真 M"/Jn[ q 5z^y(Sv •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 YZSQOLN{ Vwh;QJxb •点击Go! ?CC.xE •获得3D光线追迹结果。 L=EkY O%\" )z18:C3
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kG#+C0L Iz. h 光线追迹仿真 kD%MFT4 Dykh|" !k*B-@F •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |uw48*t •单击Go! Haekr*1% •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 wCR! bZ w fR'!p: ~ ytjZ7J['{ t!6uz 场追迹仿真 @SiV3k rr1'|
k" 8]`s&d@GY •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 x$n.\`f0 •单击Go! V:J|shRo 8Q<Nl=g>' z~3ubta8(@ sCzpNJ"8
场追迹结果(摄像机探测器) `Ds=a`^b .FgeAxflP .S#i/A'x •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :.]EM*p?GV •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 "#7Q}d!x Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 eF.nNu ?hc=w 2Ci
eLORG(;h4 p}1gac_c 场追迹结果(电磁场探测器) ('C)S)98C ~K3Lbd|
r V*Fy@ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 xW5 `.^5 GQY"
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R=E4Sh 文件信息
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