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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 g'l?~s`SB  
    =X!IH d0  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 kJAn4I.l  
    gUAxyV  
    G\;}w  
    3pXLSdxB  
    建模任务 %y<ejM  
    vMs;>lhtg  
    #u5~0,F  
    概观 8CC/BOe  
    tQ~WEC  
    >qo~d?+  
    光线追迹仿真 }4>JO""  
    o+?r I p  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8yW oPm<A  
    %5  
    •点击Go！ @ 2_<,;$  
    •获得3D光线追迹结果。 U,lJ"$'  
    l12$l<x&M  
     jko"MfJ  
    CkRX>)=py  
    光线追迹仿真 x3e]d$  
    Dz_eB"}  
    ]Y.deVw3i  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Ze!92g  
    •单击Go！ 8@M'[jT  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     !RlC~^ -  
    eeUp 1g  
    )~rB}>^Z  
    n+D#k 8{  
    场追迹仿真 2D([Z-<i  
    kDB iBNdB  
    ]=D5p_A(  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )9P&=  
    •单击Go！     ^GYq#q9Q  
    8,o17}NY,  
    nd+?O7~}(  
    Cj&$%sO1  
    场追迹结果（摄像机探测器） m1.B\~S3  
     ggou*;'  
    B; -2$ 77  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 gKL1c{BV  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5a(<%Q <"  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]0D9N"  
    GM}C]MVD  
    {rPk3  
     Q[s 2}Z!N;  
    场追迹结果（电磁场探测器） `Lz1{#F2G  
    i=8UBryr'e  
    /84bv=  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ?Bu}.0ku-$  
    m.V,I}J.q  
    ) p^  
    文件信息 \n@V-b  
    +{6`F1MO  
     Zu=kT}aGg  
    feCqbWq:  
     uu>lDvR*  
    QQ：2987619807  E&%jeR  
     
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