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摘要 8|zOgn{ g/VV2^, 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 <_#2+7Qs &xUD(
Qxk & J # 1dg% 本用例展示了...... =[LorvX+ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: fH$#vRcq - 矩形光栅界面 _*MK" - 过渡点列表界面 8:>V'j - 锯齿光栅界面 v*%52_ - 正弦光栅界面 W/AF •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 </u=<^ire fP\q?X@]E 光栅工具箱初始化 MpBdke$ •初始化 %"eR0Lj+zq - 开始 i1!1'T8 光栅 niKfat? 通用光栅光路图 }
!y5hv!_ •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, D
<R_eK 可直接选择特定的光路图。 )Yv=:+f ^39lUKL
cvG*p|| H2+b3y-1a] 光栅结构设置 @`dlhz •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 }>d
f 9Kt>2IN •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 eLnS1w2 •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 n,2
*mbzK*
CS~_>bn -%@ah:iJ •例如,选择第一个界面上的堆栈。 ml<tH2Qx3C ^
nI2<P 堆栈编辑器 (zsv!U •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 ][
I OlR •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 &N._}ts D>-r `
N9-7YQ`D oLh ,F"nB 矩形光栅界面 P_w4
DU YWvD+ •一种可能的界面是矩形光栅界面。 v"W*@7<`S •此类界面适用于简单二元结构的配置。 %1.F;-GdsW •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 >36,lNt •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 <|jh3Hlp •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 kDMvTVd yDwh]t
y<E];ub r9Ogez ER 矩形光栅界面 _p*8ke •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 Uq$/Q7 •所选界面在视图中以红色突出显示。 :C(/yg
#Pp:H/b •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 )Wr_*>xj •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 .Zv~a&GE ?VmgM"'md •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 mXOI"B9Sq •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 (8)9S6 •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 [I3Nu8 t4[q:[1 %,_ZVgh0 [Hx(a.,d
o+'|j#P wlJi_)! 矩形光栅界面参数 ds9'k. •矩形光栅界面由以下参数定义 rR-[CT - 狭缝宽度(绝对或相对) 7I
XWv- - 光栅周期 {tUe( - 调制深度 ld@+p •可以选择设置横向移位和旋转。 m^}|LB:5 ={sjoMW
{pIh/0 r)pt(*KHo 高级选项和信息 jts0ZFHc- •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 gVfFEF. •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 EXCE^Vw •可以设置总级次数或衰逝波级次数 A-T-4I (evanescent orders)。 N68$b#9Ry •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 '-YiV •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 )|xu5.F J
W@6m z7bJV/f 9 A ?{}c •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 5 ix*wu`, •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 PJC(:R(j •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 LJ/He[r|[ •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 4 k<o Op ar+|p\ 4@@Sh`E: M/=36{,w- 过渡点列表界面 1"ZtE\{
" •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 6+IhI?lI= •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 ?f"5yQ-B •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 w5HIR/kP YQG<Q :@[\(: 过渡点列表参数 MF4( •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 "kyCY9)% •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 B-rE8\ 3y}E*QE Z)`)9]* Bdt6 w(`^ •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 x950,`zy •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 t^~vi'bB •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 <b zzbR[F wc;n=
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4f[%Bb +twoUn{# 高级选项及信息 aZ4EcQ@-$] •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 e
Wux W\~^*ny
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Ik0g(-d SV>tw`2 正弦光栅界面 5[
zN M •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 ;t{q]"? W •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 u1%URen[x •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: -eG~ - 脊的材料:基板的材料 kcCCa@~v - 凹槽材料:光栅前面的材料 Y~I<L ocv 7Bp7d/R- 'E_~|C AEyvljv 正弦光栅界面参数 c
C3>Ff' - 正弦光栅界面也由以下参数定义: 53])@Mmus •光栅周期 'I]XX==_ •调制深度 y/Xs+ {x - 可以选择设置横向移位和旋转。 AoS7B:T;! - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 e2O6q05 ?Q l{k_;i!D G\@pg;0|y h !^=
c 高级选项和信息 a `R%\@1 •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 R*[sO*h\k puC91
S[Du
> Za:j;u
Y 高级选项及信息 FH~:&; •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 {~U3|_"[pX bF"l0
jS :o'x?] 锯齿光栅界面 5RP kAC •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 9ddrtJ] •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 p%Z:SZZ •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: %j7b0pb - 脊的材料:基板的材料 q)k:pQ - 凹槽材料:光栅前面的材料 tk"+ u_u w 1t
R^
FnO@\{M"A Hb)FeGsd). 锯齿光栅界面参数 'UX.Q7W •锯齿光栅界面也由以下参数定义: OEW'bT) - 光栅周期 /WuYg
OI - 调制深度 ']M/'CcM •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 :7v'[b •可以选择设置横向移位和旋转。 Met]|& •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 23}` e U2
*ORd 5;a*Xf%V N,(! 高级选项和信息 9wvlR6z;u •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 @aIgif+v Rf:.'/<^ 探测器位置的注释 aFnel8 关于探测器位置的注释 t3;Zx+Br •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 =Hi@q
" •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 4>KF`?%4 •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 `/8@Fj •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 *1)>He$qL •可以避免这些干涉效应的不良影响。 vF72#BNs %*
"+kwZ @>2pY_ 文件信息 Vj*-E |+#Zuq
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Wm QQ:2987619807 }p)K6!J0
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