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摘要 9;>@"e21R [8B
tIv 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 ~.\73_M=A yEMX `
i*mZi4URN JL}hOBqfI 本用例展示了...... *u:;:W&5y •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: J3]qg.B%z - 矩形光栅界面 .(TQ5/
~ - 过渡点列表界面 Nb|3?c_ - 锯齿光栅界面 EqNz L*E - 正弦光栅界面 ~`nm<
•如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 .Um?5wG~i BK`Q)[ 光栅工具箱初始化 "ZA$"^ •初始化 ,(;p(#F> - 开始 !mpMa]G3 光栅 qK9L+i 通用光栅光路图 #;qFPj- v •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, >o0&:h|>$' 可直接选择特定的光路图。 .(P@Bl]XJ F]URf&U
z&;zU)Jvd b@{%qh,C 光栅结构设置 -z>Z0viA •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 ^rxfNcU7
}"g21-T^ •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 1)P<cNj •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 []6ShcqJ[v !4qps$p{
s/W!6JX4 !%Z)eO~Z •例如,选择第一个界面上的堆栈。 =:CGl rA1zyZlz 堆栈编辑器 Q%X:5G? •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 eCPKpVhP •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 " kE:T., o1p$9PL\:
:$GL.n-? "2vNkO## 矩形光栅界面 A/Fs?m{7U -6em*$k^ •一种可能的界面是矩形光栅界面。 ,\m;DR1 •此类界面适用于简单二元结构的配置。 `ohF?5J, •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 8vX*SrM •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 ^cPo{xf •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 u$Pf.# pZ@W6}
l?yZtZ8 VAF:Z 矩形光栅界面 YN5OuKMUd' •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 k?|F0e_ •所选界面在视图中以红色突出显示。 DS[l,x
YfrTvKX •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 SS45<!iy •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 $&n240( mNBpb} •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 r=P$iG'& •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 V5hlG =V •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 RB$ 8^# %DND&0` =xlYQ}-(a 9rf|r
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oRvm*"8B dZ]\1""#H 矩形光栅界面参数 kw-Kx4 ) •矩形光栅界面由以下参数定义 v#<+n{B - 狭缝宽度(绝对或相对) i-"h"nF" - 光栅周期 YiI:uG!|D - 调制深度 *`pec3" •可以选择设置横向移位和旋转。 e G*s1uQl <76=H]h~
:[X}.]" ;t@ 3Go 高级选项和信息 6!Tf'#TV~! •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 CSk •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 x1hs19s •可以设置总级次数或衰逝波级次数 ?+} E (evanescent orders)。 g8iB;%6
•如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 3/SqXu •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 qdkTg: QJ, R2H\;N i$LV44 0or6_y6 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 Velbq •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 ~]_jKe4W •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 l`5}i|4KTW •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 V@+<,tjq ^x1D]+ Kjca>/id ;KjMZ(Iil1 过渡点列表界面 ywsz"/=@ •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 i7w}`vs •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 UXdC<(vK •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 raI~BIfe ?'$.
-z: 3Ns:O2| 过渡点列表参数 ?[>BssW •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 )*L?PT •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 ~pBxFA ?$8 ,j+&I [ Xo
J7 DrCfC[A~] •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 @ : •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 A`8}J4 •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 }-]s#^'w Rx"VscB6z
ea[a)Z7# <wGTs6 高级选项及信息 I8pxo7(- •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 B xN#Nk~ zm^p7&ak$
kU9AfAe ~[X:twidkL 正弦光栅界面 x?k |i}Q •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 WaO;hy~us •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 %^@0tT •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: l=OC?d*m - 脊的材料:基板的材料 %$-3fj7
- 凹槽材料:光栅前面的材料 x: wq"X PL B=%[ nv|y@!( UtW3KvJ#= 正弦光栅界面参数 9mtC"M<
- 正弦光栅界面也由以下参数定义:
kd2'-9 •光栅周期 "lj:bxM2C •调制深度 _xwfz]lb+ - 可以选择设置横向移位和旋转。 ;og<eK - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 Wv'B[;[) Uc;IPS (YH{%8
Z0 y]z# ?? 高级选项和信息 HE.Dl7{ •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 gYIYA"xN` C4d1*IQk
ON=ley sU3V)7"
高级选项及信息 kR|DzB7 •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 *xN jhR]7v $R}iL Jx[e{o)o 锯齿光栅界面 H;}ue •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 97
X60< •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 x-k/rZ •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: .TU15AAc - 脊的材料:基板的材料 6*oTT(0<p - 凹槽材料:光栅前面的材料 0
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s{7k $f-pLF+x
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tb^M \nt'I;f 锯齿光栅界面参数 RR {9 •锯齿光栅界面也由以下参数定义: lk'jBl% - 光栅周期 -BH'.9uqGQ - 调制深度 X7!A(q+h •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 #3jZ7RqzQ •可以选择设置横向移位和旋转。 $w}aX0dK& •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 ;{u#~d} w0OK.fj V^H47O;VC l@9:VhU( 高级选项和信息 ~oyPmIcb •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 c=mFYsSv C
/VXyl@o 探测器位置的注释 vx ,6::%] 关于探测器位置的注释 blS4AQ?b^ •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 5WX2rJ8z •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 Cf 8-% •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 ?AH<y/i<Y •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 qt)mUq;> •可以避免这些干涉效应的不良影响。 4ov~y1Da) T3 /LUm C!A_PQ2y 文件信息 >@\-m !kYmrj**
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